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Dokumentenidentifikation DE3228535C2 06.02.1986
Titel Verfahren zur Reinigung von Siliciumtetrafluoridgas
Anmelder Central Glass Co., Ltd., Ube, Yamaguchi, JP
Erfinder Kitsugi, Naomichi, Tokorozawa, JP;
Fujinaga, Teruo, Kawagoe, JP;
Otsuka, Toyozo, Kamifukuoka, JP
Vertreter Manitz, G., Dipl.-Phys. Dr.rer.nat.; Finsterwald, M., Dipl.-Ing. Dipl.-Wirtsch.-Ing., 8000 München; Grämkow, W., Dipl.-Ing., 7000 Stuttgart; Heyn, H., Dipl.-Chem. Dr.rer.nat., 8000 München; Rotermund, H., Dipl.-Phys., Pat.-Anw., 7000 Stuttgart
DE-Anmeldedatum 30.07.1982
DE-Aktenzeichen 3228535
Offenlegungstag 24.02.1983
Veröffentlichungstag der Patenterteilung 06.02.1986
Veröffentlichungstag im Patentblatt 06.02.1986
IPC-Hauptklasse C01B 33/08
Zusammenfassung SiF 4-Gas, welches ein oder mehrere sauerstoffhaltige Silicofluoride, typifiziert durch die Formel (SiF3) 2O, als Verunreinigung enthält, kann zu extrem hoher Reinheit gereinigt werden, indem ein Kontakt von SiF4-Gas mit HF in Anwesenheit eines flüssigen Mediums herbeigeführt wird, das eine starke Affinität für Wasser besitzt, z.B. Schwefelsäure oder Phosphorsäure. Durch Reaktion mit HF werden Verunreinigungen wie (SiF 3)2O, zu SiF 4 umgewandelt, während das flüssige Medium das bei der Reaktion gebildete Wasser absorbiert, so daß die Umkehrreaktion zwischen SiF4 und H 2O unter Bildung von (SiF3) 2O verhindert wird.








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