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Dokumentenidentifikation DE10243442A1 25.03.2004
Titel Fotostrukturierbares ionensensitives Lithiumalumosilikatglas
Anmelder Technische Universität Ilmenau Abteilung Forschungsförderung und Technologietransfer, 98693 Ilmenau, DE
Erfinder Hülsenberg, Dagmar, Prof. Dr.-Ing. Dr.rer.nat., 98693 Ilmenau, DE;
Harnisch, Alf, Dr.-Ing., 98701 Neustadt, DE;
Hecht-Miiic, Stephan, Dipl.-Ing., 99099 Erfurt, DE;
Stiebert, Dietmar, Dipl.-Ing., 98693 Ilmenau, DE;
Kaden, Heiner, Prof. Dr., 04736 Waldheim, DE;
Herrmann, Sigrun, Dipl.-Chem., 04736 Waldheim, DE;
Michelsen, Carl-Ernst, Dr., 07745 Jena, DE
DE-Anmeldedatum 19.09.2002
DE-Aktenzeichen 10243442
Offenlegungstag 25.03.2004
Veröffentlichungstag im Patentblatt 25.03.2004
IPC-Hauptklasse C03C 3/076
IPC-Nebenklasse C03C 3/083   C03C 4/18   
Zusammenfassung Mit einer neuartigen Glaszusammensetzung ist die Fotostrukturierbarkeit, die Ionensensitivität und die Ionenselektivität in für eine technische Anwendung ausreichender Qualität zu vereinen.
Das erfindungsgemäße Glas weist folgenden Zusammensetzungsbereich auf:
SiO2 61-74 Mol-%
Al2O3 0-8 Mol-%
Li2O 20-25 Mol-%
Na2O 0-6 Mol-%
K2O 0-6 Mol-%
CeO2 0,005-0,008 Mol-%
Ag2O 0,01-0,04 Mol-%
Sb2O3 0,05-0,09 Mol-%
SnO 0,01-0,05 Mol-%.
Das neuartige Glas ist für den Einsatz in der Mikrofluidiktechnik z. B. als Ionensensor und dabei insbesondere als ionensensitive Membran vorgesehen.








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