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Dokumentenidentifikation DE102005028730A1 22.02.2007
Titel Magnetroneinrichtung zum Zerstäuben von Massivtargets
Anmelder Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V., 80686 München, DE
Erfinder Hartung, Ullrich, Dr., 01129 Dresden, DE;
Kopte, Torsten, Dr., 01731 Kreischa, DE;
Krause, Uwe, Dr., 39387 Oschersleben, DE
DE-Anmeldedatum 21.06.2005
DE-Aktenzeichen 102005028730
Offenlegungstag 22.02.2007
Veröffentlichungstag im Patentblatt 22.02.2007
IPC-Hauptklasse C23C 14/35(2006.01)A, F, I, 20051017, B, H, DE
Zusammenfassung Die Erfindung betrifft eine Magnetroneinrichtung, umfassend ein als Wanne ausgebildetes Magnetsystem (12; 32; 42), ein zu zerstäubendes Massivtarget (14; 34; 44) und ein mittels lösbarer Verbindungselemente mit dem Massivtarget (14; 34; 44) verbundener Kühlkörper (15; 35; 45), welcher mindestens einen von einem Kühlmittel durchflossenen Kühlkanal (17) aufweist, wobei der Kühlkörper (15; 35; 45) innerhalb der Wanne des Magnetsystems (12; 32; 42) angeordnet ist und derart ausgebildet ist, dass der Kühlkörper (15; 35; 45) nicht über die höchste Wannenseitenwand hinausragt.

Beschreibung[de]

Die Erfindung betrifft eine Einrichtung zum Beschichten von Objekten nach dem Prinzip der physikalischen Dampfabscheidung und insbesondere eine Magnetroneinrichtung zum Zerstäuben von Massivtargets.

Bei Magnetroneinrichtungen werden durch Ionenbeschuss Materialteilchen von der Oberfläche eines Targetkörpers abgestäubt, somit in die Dampfphase überführt und anschließend auf einem zu beschichtenden Objekt abgeschieden. Dieser Vorgang wird auch Sputtern genannt. Andauernder Ionenbeschuss der Targetoberfläche führt zu einer hohen thermischen Belastung des Targetkörpers. Um diesen vor Versprödung oder Überhitzung zu schützen, ist ein Kühlen des Targets erforderlich.

Es sind Magnetroneinrichtungen bekannt, bei denen Targetmaterial beispielsweise durch Bonden auf einer längs erstreckten Trägerplatte, oder auch Kühlplatte bezeichnet, aus gut wärmeleitendem Material (oftmals Kupfer) befestigt ist (DE 100 18 858 A1). Dabei besteht das Targetmaterial oftmals in Längsrichtung aus mehreren Teilstücken, welche dicht aneinandergrenzend auf der Trägerplatte/Kühlplatte angeordnet sind. Die Trägerplatte/Kühlplatte steht wiederum mit einem von einem Kühlmedium durchflossenen Kühlkörper in wärmeleitendem Kontakt, wobei die den Kühlkörper durchziehenden Kühlkanäle zur Trägerplatte/Kühlplatte hin einseitig offen ausgebildet sein können. Es sind auch gattungsgleiche Magnetroneinrichtungen bekannt, bei denen der Kühlkörper bis auf Rohrsysteme reduziert ist, welche direkt an der Unterseite der Trägerplatte/Kühlplatte befestigt sind.

Der Wärmetransport vollzieht sich bei diesen Kühlsystemen vorwiegend durch Wärmeleitung vom Targetmaterial durch die Trägerplatte/Kühlplatte und ggf. durch Kühlkörpermaterial hindurch zum Kühlmedium. Derartige Magnetroneinrichtungen werden als Einrichtungen mit indirekter Targetkühlung bzw. deren Targets als indirekt gekühlte Targets bezeichnet. Nachteile von Einrichtungen mit indirekter Targetkühlung bestehen darin, dass zusätzliche Kosten für das Bonden und Entbonden entstehen und eine Bevorratung von Trägerplatten/Kühlplatten anfällt. Aufgrund des Wärmeleitweges ist oftmals nur ein eingeschränkter Kühleffekt erzielbar, wodurch die Leistung, mit der ein Target zerstäubt werden kann, begrenzt wird.

Es sind weiterhin Magnetroneinrichtungen bekannt, bei denen ein nur aus einem Stück Targetmaterial bestehender Targetkörper durch lösbare Verbindungselemente mit einem Kühlkörper mit einseitig offenen Kühlkanälen, welche von einem Kühlmedium durchflossen sind, verbunden wird (EP 0 401 622 A1). Dichtelemente zwischen Targetkörper und Kühlkörper, welche oftmals als Gummidichtungen ausgebildet sind, sorgen dafür, dass das Kühlmedium nicht in den Prozessraum gelangt. Derartige Magnetroneinrichtungen, bei denen die Wärme vom Targetmaterial direkt in das Kühlmedium abgeleitet wird, werden als Einrichtungen mit direkter Targetkühlung bzw. deren Targets als direkt gekühlte Targets bezeichnet. Aufgrund des besseren Kühleffektes gegenüber Magnetroneinrichtungen mit indirekter Targetkühlung können direkt gekühlte Targets mit einer höheren Leistung zerstäubt werden. Allerdings sind Magnetroneinrichtungen mit direkter Targetkühlung anfälliger gegenüber Undichtheiten im Kühlsystem.

Ausschlaggebend für die Form einer Magnetroneinrichtung und der damit zu zerstäubenden Targets ist die Gestaltung des zugehörigen Magnetsystems. Bei Magnetroneinrichtungen nach dem Hochratezerstäubungsprinzip, oder auch Hochleistungskathoden(HLK)-Einrichtungen genannt, umfasst das Magnetsystem oftmals eine im Wesentlichen rechteckige, längs erstreckte Grundplatte (Magnetjochplatte oder auch Rückschlussplatte genannt), auf der an den Seitenrändern ein umlaufender Polschuh angeordnet ist. In der Mitte der Grundplatte ist in Längsrichtung ein weiterer Polschuh mit anderer magnetischer Polarität angeordnet, der nicht über die gesamte Länge der Grundplatte verläuft und den umlaufenden Polschuh nicht berührt. Der mittig verlaufende Polschuh kann die gleiche Höhe oder eine andere Höhe als der umlaufende Polschuh aufweisen. Als Ganzes betrachtet hat ein derartiges Magnetsystem die Form einer Wanne mit einem Mittelsteg, der nicht über die gesamte Länge verläuft. Im dem Bereich des Magnetsystems, in dem der Mittelsteg vorhanden ist, ergibt sich im Querschnitt betrachtet dann eine Doppel-U-Form oder anders ausgedrückt eine Doppel-Wannen-Form.

Derartige Magnetsysteme erzeugen auf der Oberfläche eines zu zerstäubenden Targets ein so genanntes Ringspaltfeld, welches im Zusammenwirken mit einem gekreuzten elektrischen Feld und dem Arbeitsdruck innerhalb einer Vakuumarbeitskammer ein ringförmiges dichtes Plasma bildet, welches auf der Targetoberfläche ein gleich geformtes Erosionsbild, oder auch Sputtergraben genannt, bewirkt. Derartige ringförmige Sputtergräben umfassen zwei im Wesentlichen parallel verlaufende Geradenabschnitte, die an den Enden durch halbkreisförmige Abschnitte miteinander verbunden sind.

Es sind auch Magnetsysteme für HLK-Einrichtungen bekannt, bei denen das Magnetsystem in Längsrichtung mittig geteilt ist, d. h. das Magnetsystem besteht aus zwei im Querschnitt U-förmigen/wannenförmigen, längs erstreckten Magneteinrichtungen.

Je nach Ausführungsform einer Magnetroneinrichtung können mit dieser entweder nur indirekt gekühlte Targets oder direkt gekühlte Targets zerstäubt werden. Im Allgemeinen ist es nicht möglich mit einer Magnetroneinrichtung, welche für das Zerstäuben von indirekt gekühlten Targets ausgebildet ist, direkt gekühlte Targets zu zerstäuben bzw. umgekehrt.

Für das Erzeugen eines dichten Plasmas ist es erforderlich, dass das Magnetfeld, welches von einem Magnetsystem ausgebildet wird und ein zu zerstäubendes Target durchdringt, eine bestimmte Magnetfeldstärke auf der Targetoberfläche nicht unterschreitet. Diese Mindestmagnetfeldstärke, welche mit einem bestimmten Maß von den Polschuhenden eines Magnetsystems beabstandet ist, gibt somit die maximale Dicke des zu zerstäubenden Targetmaterials vor. An die Dicke des Targetmaterials ist wiederum die Laufzeit einer Magnetroneinrichtung bis zum nächsten Targetwelchsel gebunden.

Da insbesondere bei Magnetroneinrichtungen mit direkt gekühlten Massivtargets eine große Sorgfalt und Präzision beim Verbinden des Massivtargets mit dem zugehörigen Kühlkörper erforderlich ist und beim Fehlen dieser Undichtheiten im Kühlsystem entstehen können, wird eine größtmögliche Laufzeit derartiger Magnetroneinrichtungen bis zum nächsten Targetwechsel angestrebt. Targets mit einer maximalen Dicke sind hierfür erstrebenswert.

Andererseits kann es anwendungs- und materialabhängig physikalisch erstrebenswert sein hohe Magnetfeldstärken an der zu zerstäubenden Targetoberfläche zu realisieren, um dort geringe Teilchenenergien im Plasma erzielen zu können. Dies gilt beispielsweise beim Abscheiden von ITO-Schichten. Hierfür sind allerdings Targets mit geringer Dicke erstrebenswert, um die zu zerstäubende Targetoberfläche möglichst nahe am Magnetsystem, also an Orten mit hoher Magnetfeldstärke, anordnen zu können.

Ein weiterer Grund für Targets mit geringer Dicke ist der technische Sachverhalt, dass auf der zu zerstäubenden Oberfläche eines Targets ein Magnetfeld mit möglichst vielen parallel zur Oberfläche verlaufenden Magnetfeldkomponenten angestrebt wird, da nur in diesen Bereichen ein effektiver Materialabtrag stattfindet. Je mehr sich die zu zerstäubende Oberfläche des Targets dem Magnetsystem nähert umso größer wird der Anteil der parallel zu dieser Oberfläche verlaufenden Magnetfeldkomponenten.

Der Erfindung liegt daher das technische Problem zugrunde, eine Einrichtung zum Zerstäuben von direkt gekühlten Massivtargets mit einer gegenüber dem Stand der Technik verlängerten Laufzeit bis zum nächsten Targetwechsel und/oder einer erhöhten Targetausnutzung zu schaffen. Die Einrichtung soll sowohl in bestehende Magnetroneinrichtungen zum Zerstäuben direkt gekühlter Targets als auch in solche zum Zerstäuben indirekt gekühlter Targets integrierbar sein.

Die Lösung des technischen Problems ergibt sich durch die Gegenstände mit den Merkmalen des Patentanspruchs 1. Weitere vorteilhafte Ausgestaltungen der Erfindung ergeben sich aus den abhängigen Ansprüchen.

Eine erfindungsgemäße Magnetroneinrichtung umfasst ein als Wanne ausgebildetes Magnetsystem, ein zu zerstäubendes Massivtarget und einen mittels lösbarer Verbindungselemente mit dem Massivtarget verbundenen Kühlkörper, welcher mindestens einen von einem Kühlmittel durchflossenen Kühlkanal aufweist, wobei der Kühlkörper innerhalb der Wanne des Magnetsystems angeordnet ist und derart ausgebildet ist, dass der Kühlkörper nicht über die höchste Wannenseitenwand hinausragt.

Als wannenförmig ausgebildete Magnetsysteme im Erfindungssinn sind beispielsweise Magnetsysteme von HLK-Einrichtungen anzusehen, bei denen die Grundplatte den Wannenboden und die darauf angeordneten Magnetpolschuhe die Seitenwände der Wanne bilden, unabhängig davon, ob das Magnetsystem einteilig oder mehrteilig ausgebildet ist und unabhängig davon, ob die Seitenwände der Wanne umlaufend vollständig geschlossen sind oder nicht. Sind auf den Polschuhen Polschuhkappen zum mechanischen Schutz oder zum Zwecke der elektrischen Isolation angeordnet, so sind auch diese Bestandteil einer Seitenwand der Wanne.

Dadurch, dass der Kühlkörper einer erfindungsgemäßen Magnetroneinrichtung vollständig innerhalb der Wanne des zugehörigen Magnetsystems angeordnet ist, besteht gegenüber dem Stand der Technik die Möglichkeit, ein zu zerstäubendes Target mit einer größeren Dicke auszubilden, weil hierfür das Maß, welches ein bekannter Kühlkörper zwischen Target und Polschuh einnimmt, zur Verfügung steht. Dadurch ist eine längere Laufzeit zwischen zwei Targetwechseln realisierbar. Es besteht jedoch auch die Möglichkeit, die ursprüngliche Targetdicke beizubehalten und somit die zu zerstäubende Oberfläche des Targets näher an das Magnetsystem zu platzieren. Diese Vorgehensweise ist beispielsweise vorteilhaft beim Abscheiden von ITO-Schichten anwendbar.

Um bestmögliche Kühleigenschaften zu erlangen, ist der Kanal eines Kühlkörpers zum Target hin einseitig offen ausgebildet. Es ist aber auch möglich, den Kanal als geschlossenen Kanal auszubilden.

Da der Kühlkörper bei einer erfindungsgemäßen Magnetroneinrichtung innerhalb der Wanne des zugehörigen Magnetsystems angeordnet ist, ist die Formgestaltung des Kühlkörpers im Wesentlichen von der Formgebung des Magnetsystems abhängig. Bei HLK-Einrichtungen kann der Kühlkörper daher beispielsweise ringförmig ausgebildet sein, bestehend aus zwei parallel verlaufenden Geradenabschnitten, die an deren Enden durch halbkreisförmige Abschnitte miteinander verbunden sind, so dass sich der Mittelsteg des wannenförmigen Magnetsystems durch die Ringöffnung des Kühlkörpers erstreckt.

Kühlkörper und ein zu zerstäubendes Massivtarget sind mittels lösbarer Verbindungselemente miteinander verbunden. Geeignet sind hierfür beispielsweise Schraubelemente, die vorteilhafterweise von der dem Kühlkörper zugewandten Seite in das Massivtarget eingeschraubt werden. Dadurch bleibt die zu zerstäubende Seite des Massivtargets unversehrt und es können sich auf dieser gleichmäßige Plasmabedingungen ausbilden. Die Schraubelemente werden dabei derart im Massivtarget angeordnet und dimensioniert, dass diese nicht in den zu zerstäubenden Bereich (auch Erosionsbereich genannt) des Massivtargets hineinragen, was anderenfalls zu Verunreinigungen in der abgeschiedenen Schicht führen kann.

Das Massivtarget einer erfindungsgemäßen Magnetroneinrichtung kann eine gleichmäßige Dicke aufweisen oder aber ungleichmäßig dick ausgebildet sein. So ist bei einer Ausführungsform auf der dem Kühlkörper zugewandten Seite beispielsweise der Bereich der von den Wannenseitenwänden des Magnetsystems begrenzt wird oder aber auch nur ein Teilbereich davon mit einer größeren Targetdicke ausgebildet, so dass in diesem Bereich Targetmaterial in die Wanne des Magnetsystems hineinragt. Auf diese Weise kann entweder der Erosionsbereich des Massivtargets mit einer noch größeren Dicke ausgebildet werden, was zu noch längeren Laufzeiten zwischen den Targetwechseln führt, oder/und es ist möglich, die zu zerstäubende Targetoberfläche noch näher am Magnetsystem zu positionieren, wodurch die Targetausnutzung unter bestimmten Bedingungen weiter erhöht werden kann, denn das Heranführen der Targetoberfläche an das Magnetsystem bewirkt das Erhöhen der Magnetfeldstärke im Erosionsbereich des Targets. Eine höhere Magnetfeldstärke führt jedoch dazu, dass der Erosionsgraben schmaler wird und wirkt somit dem Bestreben einer höheren Targetausnutzung entgegen. Dieser Effekt lässt sich jedoch verhindern, indem beim Heranführen der Targetoberfläche an das Magnetsystem gleichzeitig die Magnetfeldstärke verringert wird.

Bei einer weiteren Ausführungsform erstreckt sich das Massivtarget nur noch über den Bereich, der von den Wannenseitenwänden des Magnetsystems begrenzt wird, oder gar nur über einen Teilbereich davon, was bedeutet, dass das Massivtarget nicht mehr auf den Polschuhen eines Magnetsystems aufliegt. Dadurch besteht das Massivtarget zum einen fast ausschließlich aus Bereichen, die von der Erosion erfasst werden, zum anderen kann das Massivtarget in dieser Form zwischen den Polschuhen des Magnetsystems angeordnet werden, so dass die zu zerstäubende Oberfläche des Targets in einem Magnetfeldbereich angeordnet ist, der im Wesentlichen nur noch parallel zur Targetoberfläche verlaufenden Komponenten aufweist. In dieser Form lässt sich unter Beachtung der oben geschilderten Hinweise zur Magnetfeldstärke ein sehr hoher Nutzungsgrad des Targets realisieren.

Bei einer HLK-Einrichtung kann ein Massivtarget daher beispielsweise ringförmig ausgebildet sein, ähnlich wie der zugehörige Kühlkörper. Es besteht jedoch auch die Möglichkeit bekannte rechteckige Massivtargets zu verwenden, die beispielsweise nur in den Geradenabschnitten des Magnetsystems angeordnet werden können.

Da der Kühlkörper einer erfindungsgemäßen Magnetroneinrichtung vollständig innerhalb der Wanne eines Magnetsystems angeordnet wird, können die erfindungsgemäßen Komponenten ohne größeren Aufwand sowohl in bestehende Anlagen zum Zerstäuben von direkt gekühlten Massivtargets als auch in bestehende Anlagen zum Zerstäuben direkt gekühlter Targets mit Trägerplatte integriert werden. Bei bestehenden Anlagen zum Zerstäuben von indirekt gekühlten Targets können nach dem Integrieren der erfindungsgemäßen Komponenten Massivtargets zerstäubt werden, wodurch sowohl eine Bevorratung mit Trägerplatten als auch der Vorgang des Bondens und des Entbondens von Targetmaterial entfällt. Zum anderen können die Massivtargets aufgrund des besseren, direkten Kühleffekts mit einer höheren Leistung zerstäubt werden.

Die Erfindung wird nachfolgend anhand bevorzugter Ausführungsbeispiele näher erläutert.

Die Fig. zeigen:

1 eine schematische Querschnittsdarstellung einer erfindungsgemäßen Magnetroneinrichtung,

2 eine schematische Querschnittsdarstellung einer Magnetroneinrichtung nach dem Stand der Technik,

3 eine schematische Querschnittsdarstellung einer alternativen erfindungsgemäßen Magnetroneinrichtung,

4 eine schematische Querschnittsdarstellung einer weiteren alternativen erfindungsgemäßen Magnetroneinrichtung,

5 eine schematische Darstellung der Draufsicht des Kühlkörpers aus 1.

In 1 ist eine erfindungsgemäße Magnetroneinrichtung 11 schematisch im Querschnitt dargestellt. Magnetroneinrichtung 11 umfasst ein längs erstrecktes Magnetsystem 12, welches im Querschnitt die für HLK-Einrichtungen typische Form einer Doppel-Wanne aufweist, deren Wannenseitenwände durch gleich hohe Polschuhe 13 gebildet werden. Auf den Polschuhen 13 des Magnetsystems 12 aufliegend ist ein zu zerstäubendes Massivtarget 14 angeordnet. Zum Abführen der Wärmeenergie, welche während eines Zerstäubungsvorgangs im Massivtarget 14 erzeugt wird, ist innerhalb der Doppel-Wanne des Magnetsystems 12 ein Kühlkörper 15 angeordnet, Kühlkörper 15 ist derart ausgebildet, dass dieser vollständig innerhalb der Doppel-Wanne angeordnet ist und somit im Wesentlichen die Form des sich während des Zerstäubens auf der Targetoberfläche ausbildenden Sputtergrabens aufweist. D. h. Kühlkörper 15 (in 5 als Draufsicht schematisch dargestellt) ist ringförmig ausgebildet und besteht aus zwei parallel verlaufenden Geradenabschnitten, welche an den Enden durch zwei halbkreisförmige Abschnitte miteinander verbunden sind.

Mittels Schraubverbindungen 16 ist Kühlkörper 15 am Massivtarget 14 befestigt. Kühlkörper 15 weist einen umlaufenden, von Kühlmittel durchflossenen Kanal 17 auf, der in Richtung Massivtarget 14 einseitig offen ausgebildet ist. Die Schraubverbindungen 16 sind dabei derart dimensioniert und angeordnet, dass diese nicht in den Erosionsbereich des Massivtargets 14 ragen. Dichtelemente 18 zwischen Massivtarget 14 und Kühlkörper 15 verhindern, dass Kühlmittel aus dem Kanal 17 in das Innere der nicht dargestellten Vakuumkammer gelangt.

Im Verbund mit Kühlkörper 15 wird Massivtarget 14 mittels lösbarer Verbindungselemente 19, welche am Kühlkörper 15 befestigt sind und sich durch den Wannenboden des Magnetsystems 12 erstrecken, gegen die Polschuhe 13 verspannt.

Eine Magnetroneinrichtung 21 nach dem Stand der Technik ist in 2 als Querschnitt schematisch dargestellt. Auf einem im Querschnitt als Doppel-Wanne ausgebildeten Magnetsystem 22 mit drei die Wannenseitenwände formenden Polschuhen 23 ist ein Massivtarget 24 im lösbaren Verbund mit einem Kühlkörper 25 angeordnet. Kühlkörper 25 weist einen umlaufenden Kühlkanal 27 auf, der zum Massivtarget 24 hin einseitig offen ausgebildet ist. Dichtelemente 28 gewährleisten, dass kein Kühlmittel aus dem Kühlkanal 27 entweicht. Bei einer derartigen Magnetroneinrichtung ist die maximale Dicke eines zu zerstäubenden Massivtargets geringer als bei einer erfindungsgemäßen Magnetroneinrichtung, weil bei einer Magnetroneinrichtung nach dem Stand der Technik zumindest die Dicke des Kühlkörpers über den Polschuhen des Magnetsystems von der Targetdicke abzuziehen ist oder andersherum ausgedrückt ergibt sich die maximale Dicke des Massivtargets 14 aus 1 aus der Summe der maximalen Dicke des Massivtargets 24 und der Dicke des Kühlkörpers 25 jeweils aus 2. Bei einer Magnetroneinrichtung gemäß 1 sind somit längere Laufzeiten zwischen den Targetwechseln zu erzielen als bei einer bekannten Magnetroneinrichtung gemäß 2.

In 3 und 4 sind alternative erfindungsgemäße Magnetroneinrichtungen 31 bzw. 41 schematisch als Querschnitt dargestellt. Magnetsysteme 32 und 42 sowie Kühlkörper 35 bzw. 45 sind identisch mit den entsprechenden Komponenten aus 1. Unterschiede gegenüber der Magnetroneinrichtung 11 aus 1 ergeben sich im Wesentlichen aus der Formgebung und Anordnung von Massivtargets 34 bzw. 44. Massivtarget 34 ist ebenfalls wie Massivtarget 14 aus 1 rechteckig ausgebildet, weist jedoch in den Bereichen, die von den Wannenseitenwänden des Magnetsystems 32 begrenzt sind, eine größere Dicke auf als in den Bereichen, die auf den Wannenseitenwänden aufliegen, so dass Targetmaterial in das Innere der Doppel-Wanne hineinragt. Mit einer derartigen Magnetroneinrichtung kann zum einen der Erosionsbereich eines Targets mit einer noch größeren Dicke ausgebildet werden und somit eine noch längere Laufzeit realisiert werden, wird hingegen im Erosionsbereich die „normale" Targetdicke beibehalten, kann zum anderen die zu zerstäubende Oberfläche des Massivtargets in Richtung Magnetsystem verschoben werden, wodurch der Grad der Targetausnutzung erhöht werden kann.

Target 44 aus 4 ist ringförmig ausgebildet, ebenso wie Kühlkörper 45. Beide Komponenten sind innerhalb der Doppel-Wanne derart angeordnet, dass diese nicht über die Wannenseitenwände des Magnetsystems 42 hinausragen. Dadurch befindet sich die zu zerstäubende Oberfläche des Targets 44 in einem Magnetfeldbereich zwischen den Polschuhen 43, der zum einen eine hohe Magnetfeldstärke und zum anderen einen hohen Anteil parallel zur Oberfläche verlaufender Magnetfeldkomponenten aufweist. Mit einer derartigen Magnetroneinrichtung ist ein besonders hoher Grad der Targetausnutzung realisierbar.


Anspruch[de]
Magnetroneinrichtung, umfassend ein als Wanne ausgebildetes Magnetsystem (12; 32; 42), ein zu zerstäubendes Massivtarget (14; 34; 44) und ein mittels lösbarer Verbindungselemente mit dem Massivtarget (14; 34; 44) verbundener Kühlkörper (15; 35; 45), welcher mindestens einen von einem Kühlmittel durchflossenen Kühlkanal (17) aufweist, dadurch gekennzeichnet, dass der Kühlkörper (15; 35; 45) innerhalb der Wanne des Magnetsystems (12; 32; 42) angeordnet ist und derart ausgebildet ist, dass der Kühlkörper (15; 35; 45) nicht über die höchste Wannenseitenwand hinausragt. Magnetroneinrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass der Kühlkanal (17) zum Massivtarget (14) hin einseitig offen ausgebildet ist. Magnetroneinrichtung nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass der Kühlkörper (15) ringförmig ausgebildet ist. Magnetroneinrichtung nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, dass der Kühlkörper (15) zwei im Wesentlichen parallel verlaufende Geradenabschnitte und zwei die Enden der Geradenabschnitte verbindende halbkreisförmige Abschnitte umfasst. Magnetroneinrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Verbindungselemente Schraubelemente (16) sind. Magnetroneinrichtung nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, dass sich die Schraubelemente (16) auf der dem Kühlkörper zugewandten Seite in das Massivtarget erstrecken. Magnetroneinrichtung nach einem der Ansprüche 5 oder 6, dadurch gekennzeichnet, dass die Schraubelemente derart im Massivtarget (14) angeordnet und dimensioniert sind, dass sich diese nicht in den Erosionsbereich des Massivtargets (14) erstrecken. Magnetroneinrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass das Massivtarget (14) eine gleichmäßige Dicke aufweist. Magnetroneinrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass sich das Massivtarget (44) nur über den von den Wannenseitenwänden eingeschlossenen Flächenbereich oder einen Teilbereich davon erstreckt. Magnetroneinrichtung nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, dass das Massivtarget (44) ringförmig ausgebildet ist. Magnetroneinrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, dass das Massivtarget eine unterschiedliche Dicke aufweist. Magnetroneinrichtung nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, dass das Massivtarget (34) auf der dem Magnetsystem (32) zugewandten Seite innerhalb des von den Wannenseitenwänden begrenzten Flächenbereichs zumindest teilweise dicker ausgebildet ist.






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