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Dokumentenidentifikation DE102006040593A1 29.03.2007
Titel Einstellbare Elektrodenanordnung zur Verwendung bei der Behandlung von Substraten unterschiedlicher Breite in einem Plasma-Behandlungssystem
Anmelder Nordson Corp., Westlake, Ohio, US
Erfinder Bolden, Thomas V., II., Fremont, Calif., US
Vertreter Eisenführ, Speiser & Partner, 28195 Bremen
DE-Anmeldedatum 30.08.2006
DE-Aktenzeichen 102006040593
Offenlegungstag 29.03.2007
Veröffentlichungstag im Patentblatt 29.03.2007
IPC-Hauptklasse C23C 16/458(2006.01)A, F, I, 20061026, B, H, DE
IPC-Nebenklasse C23C 14/50(2006.01)A, L, I, 20061026, B, H, DE   C23F 4/04(2006.01)A, L, I, 20061026, B, H, DE   
Zusammenfassung Elektrodenanordnung zur Benutzung in einem Plasma-Behandlungssystem, das entfernbare Schienen aufweist, die für eine Neueinrichtung der Elektrode einstellbar sind, um Substrate verschiedener Breiten aufzunehmen. Die Elektrodenanordnung enthält eine Elektrode mit einer Mehrzahl von ersten Anschlußgliedern. Der Elektrode ist eine Mehrzahl von Schienen zugeordnet, die zusammenwirken, um die Substrate auf der Elektrode zu tragen. Jede der Schienen enthält eine Mehrzahl von zweiten Anschlußgliedern. Jedes der zweiten Anschlußglieder ist lösbar mit einem der ersten Anschlußglieder verbunden, um die Schienen abnehmbar an der Elektrode zu befestigen.

Beschreibung[de]
Gebiet der Erfindung

Die Erfindung betrifft allgemein Plasma-Behandlungssysteme und insbesondere eine Elektrodenanordnung zum Halten von Substraten in einem Plasma-Behandlungssystem.

Hintergrund der Erfindung

Es ist weit verbreitet, Plasma-Behandlungssysteme zur Modifizierung der Oberflächeneigenschaften von Substraten in verschiedenen industriellen Anwendungsbereichen einzusetzen. Plasma-Behandlungssysteme werden beispielsweise routinemäßig zur Plasmabehandlung der Oberflächen von integrierten Schaltungen, elektronischen Einheiten und gedruckten Schaltungsplatinen für Halbleiter, Solarzellen, Elemente für Wasserstoffheizzellen, Bauelemente der Automobilindustrie und rechteckige Glassubstrate für Flachbildschirme eingesetzt. Die einer Plasmabehandlung ausgesetzten Substrate haben häufig die geometrische Form von rechteckigen Streifen, deren einander gegenüberliegende Kanten im wesentlichen parallel verlaufen.

Konventionelle Plasma-Behandlungssysteme enthalten eine Plasmakammer sowie ein Materialhandhabungssystem, das Substrate in einen Behandlungsraum innerhalb der Plasmakammer zur Plasmabehandlung transportiert. Traditionellerweise enthalten Elektroden in der Plasmakammer eines In-line Plasma-Behandlungssystems Schienen, die die transportierten Streifen während der Plasmabehandlung halten. Die Schienen sind in parallel verlaufenden Paaren vorhanden, die im Idealfall mit entsprechenden Schienen am Materialhandhabungssystem ausgerichtet sind. Die Schienen im Plasma-Behandlungssystem weisen einen Abstand auf, der so ausgewählt ist, dass die Schienen mit seitlichen Kanten jedes vom Materialhandhabungssystem auf die Schienen geladenen Streifens Kontakt haben.

In einem konventionellen Elektrodenaufbau sind die das Substrat tragenden Schienen am Rest der Elektrode angeformt. Wird das Plasma-Behandlungssystem für die Plasmabehandlung von Streifen mit einer anderen Breite zwischen den Kontaktkanten umgebaut, dann muss die gesamte Elektrode durch eine andere Elektrode ersetzt werden, deren integrierte Schienen einen anderen relativen Abstand voneinander aufweisen. Dieses Auswechseln der Elektrode führt zu einem Verlust an Fertigungszeit. Außerdem können die integrierten Schienen an der neuen Elektrode gegenüber den Schienen am Materialhandhabungssystem falsch ausgerichtet sein, und wegen der integrierten Bauweise ist eine Anpassung der Elektrodenschienen nicht möglich.

Um diesen Mangel zu beheben, haben die Hersteller von Plasma-Behandlungssystemen Elektrodenanordnungen mit Schienen eingeführt, die nicht integriert, jedoch zwischen einer Mehrzahl von über die Oberfläche einer Elektrode verteilten unterschiedlichen Trenneinrichtungen bewegbar sind. Diese konventionelle Schienenkonstruktion sieht Führungsstäbe und Schienen mit Einstellschrauben vor, die gelöst werden, um den Abstand der von den Führungsstäben eingezwängten Schienen zu verändern, und wieder festgeschraubt werden, um den Abstand zwischen den Schienen festzulegen. Üblicherweise markiert eine Bedienungsperson die Elektrode mit Bezugsmarkierungen, um die Schienen für die Aufnahme von Streifen unterschiedlicher Breite auszurichten. Das Ausrichten von Schienen an von Hand angebrachten Bezugsmarkierungen für die Festlegung von Schienenpositionen ist jedoch nicht ohne weiteres reproduzierbar, insbesondere dann nicht, wenn mehrere Bedienungspersonen daran beteiligt sind, weil bei der Ausrichtung der Schienen nach den angebrachten Bezugsmarkierungen Subjektivität eine große Rolle spielt. Außerdem müssen die Einstellschrauben gelöst und wieder befestigt werden, um den Abstand zwischen benachbarten Schienen zu verändern, wozu Werkzeuge benötigt werden und was den Bearbeitungsprozess verlangsamt. Während der Zeit, die erforderlich ist für das Lösen jeder Schiene, das Ausrichten der Schienen nach den Bezugsmarkierungen und dann das Befestigen jeder Schiene, ohne dabei unbeabsichtigter Weise die Ausrichtung zu verändern, geht Fertigungszeit verloren.

Es wäre darum wünschenswert, eine Elektrodenanordnung für ein Plasma-Behandlungssystem zu schaffen, das diese und andere Mängel konventioneller Elektrodenkonstruktionen vermeidet.

Zusammenfassung

In einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung umfasst eine Elektrodenanordnung zum Halten einer oder mehrerer Substrate in einem Plasma-Behandlungssystem eine Elektrode, die eine Mehrzahl von Anschlussgliedern aufweist. Der Elektrode zugeordnet ist eine Mehrzahl von Schienen, die mit der Elektrode zusammenwirken, um die Substrate auf der Elektrode zu halten. Jede der Schienen enthält eine Mehrzahl von zweiten Anschlussgliedern. Jedes der zweiten Anschlussglieder ist lösbar mit einem der ersten Anschlussglieder verbunden, um die Schienen abnehmbar an der Elektrode zu befestigen.

In einer besonderen Ausführungsform der vorliegenden Erfindung enthält eine Elektrodenanordnung zum Halten eines oder mehrere Substrate in einem Plasma-Behandlungssystem eine Elektrode mit ersten und zweiten Nuten, die im wesentlichen parallel ausgerichtet sind. Ein erster Stab ist in der ersten Nut angeordnet und ein zweiter Stab in der zweiten Nut. Die Elektrodenanordnung enthält ferner eine Mehrzahl von Schienen, von denen jede Schiene abnehmbar im Angriff an dem ersten und zweiten der Stäbe vorgesehen ist und sich zwischen den ersten und zweiten Stäben erstreckt. Die Schienen wirken zusammen, um die Substrate auf der Elektrode zu halten.

Die Elektrodenanordnungen nach der Erfindung können einen Abschnitt oder eine Komponente eines Plasma-Behandlungssystems enthalten. Zu dem Plasma-Behandlungssystem gehört eine Vakuumkammer, die einen Behandlungsraum umfasst, der zu einem partiellen Vakuum evakuiert werden kann, ein Gasanschluss, der in der Vakuumkammer zum Einlassen eines Prozessgases in den Behandlungsraum definiert ist, und ein Anschluss für die Stromversorgung. Die Elektrodenanordnung ist im Behandlungsraum angeordnet und elektrisch mit der Stromversorgung gekoppelt, um das Prozessgas in ein Plasma zu umzuwandeln. Die Elektrodenanordnung nach der Erfindung kann ebenfalls in bereits vorhandene Plasma-Behandlungssysteme als Ersatz für eine konventionelle Elektrode eingesetzt werden.

Die Elektrodenanordnung nach der Erfindung vereinfacht den Aufbau für ein Plasma-Behandlungssystem, das Werkstücke oder Substrate unterschiedlicher Größe aufnehmen soll, indem das Einstellen des Abstandes zwischen benachbarten, das Substrat haltenden Schienen vereinfacht wird. Mit der Elektrodenanordnung nach der Erfindung wird die Möglichkeit einer Fehlausrichtung zwischen einem Materialhandhabungssystem und dem Plasma-Behandlungssystem verringert oder ausgeschlossen, weil bei der Modifizierung der Elektrodenanordnung zum Ändern des Abstandes zwischen benachbarten Schienen die Schienenanordnung in hohem Maße reproduzierbar ist.

Diese und andere Aufgaben und Vorteile der vorliegenden Erfindung werden mit den beigefügten Zeichnungen und ihrer Beschreibung verdeutlicht.

Kurzbeschreibung der Figuren

Die beigefügten Zeichnungen, die in diese Beschreibung eingeschlossen und einen Teil davon sind, stellen Ausführungsformen der Erfindung dar und dienen zusammen mit der allgemeinen Beschreibung der Erfindung, die bereits vorgenommen wurde, und der nachfolgenden detaillierten Beschreibung der Erläuterung der Prinzipien der Erfindung.

1 ist eine perspektivische Seitenansicht eines Plasma-Behandlungssystems mit einer Elektrodenanordnung entsprechend einer Ausführungsform der Erfindung, die von Materialhandhabungssystemen der Einlass- und der Auslassseite flankiert wird;

1A ist eine Draufsicht auf das Plasma-Behandlungssystem nach 1 aus einer Perspektive unterhalb der Kammerabdeckung und mit unbehandelten Substraten, die vom Einlass-Materialhandhabungssystem auf der linken Seite gehalten werden, mit zu behandelnden Substraten, die vom Plasma-Behandlungssystem gehalten werden, und mit behandelten Substraten, die vom Auslass-Materialhandhabungssystem gehalten werden;

1B ist eine Prinzipdarstellung des Plasma-Behandlungssystems nach 1;

2 ist eine perspektivische Ansicht der Elektrodenanordnung nach 1;

3 ist eine Endansicht einer der Stäbe nach 2;

3A ist eine Seitenansicht entlang der Linie 3A-3A in 3;

3B ist eine Bodenansicht entlang der Linie 3B-3B in 3;

3C ist eine Seitenansicht entlang der Linie 3C-3C in 3;

3D ist eine Sicht von oben entlang der Linie 3D-3D in 3;

4 ist eine Sicht von oben auf eine der zentralen Schienen nach 2;

4A ist eine Endansicht der Schiene nach 4;

4B ist ein Querschnitt allgemein entlang der Linie 4B-4B der 4;

4C ist eine Endansicht ähnlich der 4A einer peripheren Schiene der 2;

4D ist eine Endansicht ähnlich der 4A der der peripheren Schiene gegenüber liegenden Schiene nach 2;

5 ist eine Ansicht von unten auf die zentrale Schiene der 4;

6 ist eine detaillierte Ansicht eines in 2 eingekreisten Bereiches;

7 ist eine Endansicht, teilweise als Querschnitt, allgemein entlang der Linie 7-7 in 6, mit der die Kopplung zwischen einer zentralen Schiene und einem Stab der Elektrodenanordnung dargestellt wird, und

8 ist eine Endansicht, teilweise als Querschnitt, ähnlich der 7, die einer alternativen Ausführungsform der vorliegenden Erfindung entspricht.

Detaillierte Beschreibung der bevorzugten Ausführungsformen

In den 1, 1A und 1B ist ein Plasma-Behandlungssystem 10 dargestellt, das auf einer Einlassseite von einem ersten Materialhandhabungssystem 12 und auf einer Auslassseite von einem zweiten Materialhandhabungssystem 14 flankiert ist. Das Materialhandhabungssystem 12 enthält Elemente (nicht dargestellt), die in der Lage sind, eine Mehrzahl von Substraten 16 zur Plasma-Behandlung an das Plasma-Behandlungssystem zu transportieren. Das Materialhandhabungssystem 14 enthält Elemente (nicht dargestellt), die die behandelten Substrate 16 aus dem Plasma-Behandlungssystem 10 entfernen können. Jedes der Materialhandhabungssysteme 12, 14 kann Elemente wie Reibräder, Schiebeglieder und andere mechanische Einrichtungen enthalten, um Substrate 16 fachmännisch handhaben zu können.

Das Plasma-Behandlungssystem 10 enthält eine Kammer 20, die aus einer Kammerbasis 22 und einem Kammerabdeckung 24 besteht. Die Kammerabdeckung 24 ist gegenüber der Kammerbasis 22 zwischen einer offenen Stellung, in der ein Zugang für Substratwechsel besteht, und einer geschlossenen Stellung bewegbar. Ist die Kammerabdeckung 24 in ihrer geschlossenen Stellung, dann wird innerhalb der Kammer 20 eine für die Plasmabehandlung eines oder mehrerer Substrate 16 geeignete Umgebung geschaffen. In ihrer geschlossenen Stellung ist die Kammerabdeckung 24 so niedergelegt, dass ein peripherer Rand der Kammerabdeckung 24 mit einem peripheren Rand der Kammerbasis 22 einen derart abdichtenden Kontakt hat, dass ein Behandlungsraum 26 von der Umgebungsatmosphäre isoliert ist. In ihrer geöffneten Stellung wird die Kammerabdeckung 24 an einem Paar Schenkel 23, 25 oberhalb der Kammerbasis 22 gehalten. Die Schenkel 23, 25 sind in vertikaler Richtung bewegbar, um die geöffnete und die geschlossene Stellung der Kammerabdeckung 24 gegenüber der Kammerbasis 22 herzustellen.

Der Behandlungsraum 26, der innerhalb der gegen die Atmosphäre abgedichteten Kammer 20 definiert ist, kann mit einer Vakuumpumpe 28, die mit einem in der Kammer 20 definierten Vakuumanschluss 27 gekoppelt ist, auf ein partielles Vakuum evakuiert werden. Eine Gaszufuhr 30 ist mit einem in der Kammer 20 definierten Gasanschluss 32 gekoppelt und sorgt für einen Strom ionisierbaren Prozessgases an den Behandlungsraum 26 innerhalb der atmosphärisch abgedichteten Kammer 20. Nach einem anfänglichen Evakuationsvorgang, mit dem atmosphärische Gase aus dem Behandlungsraum 26 entfernt werden, werden der Massenstrom des Prozessgases aus der Gaszufuhr 30 in den Behandlungsraum 26 und die Pumpgeschwindigkeit des verbrauchten und des frischen Prozessgases aus dem Behandlungsraum 26 so geregelt, dass in der Kammer ein sub-atmosphärischer Druck herrscht, der für die Plasmabehandlung der Substrate 16 geeignet ist.

Eine Stromversorgung 34, beispielsweise eine Hochfrequenz-Stromversorgung, ist elektrisch mit einer Elektrode 36 gekoppelt, die der Kammerabdeckung 24 zugeordnet ist, und mit einer Elektrodenanordnung 38, die der Kammerbasis 22 zugeordnet ist. Wenn die Kammer 20 abgedichtet, evakuiert und mit Prozessgas versorgt ist, werden die Elektrode 36 und die Elektrodenanordnung 38 von der Stromversorgung 34 unter Spannung gesetzt. Ein elektromagnetisches Feld zwischen Elektrode 36 und der Elektrodenanordnung 38, an denen Spannung anliegt, interagiert mit dem Prozessgas und erzeugt ein Plasma im Behandlungsraum 26. Wenn die Stromversorgung 34 eine Hochfrequenz an die Elektrode 36 und die Elektrodenanordnung 38 legt, dann verändert sich das mit dem Prozessgas in der Kammer interagierende elektromagnetische Feld mit der Zeit. Für die Plasmabehandlung werden die Substrate 16, die sich im Behandlungsraum 26 zwischen der Elektrode 36 und der Elektrodenanordnung 38 befinden, dem Plasma ausgesetzt.

Der Aufbau von Vakuumpumpe 28, Gaszufuhr 30 und Stromversorgung 34 ist jedem durchschnittlich gebildeten Fachmann geläufig und wird hier nicht weiter beschrieben. Die Kammer 20 enthält ebenfalls verschiedene Abdichtungen, Formdichtungen, Durchführungen usw. (nicht dargestellt), die erforderlich sind, um in der Kammer 20 eine für die Plasmaerzeugung erforderliche Umgebung zu schaffen, wie dies einem durchschnittlichen Fachmann bekannt ist.

In 2 bezeichnen gleiche Bezugszeichen gleiche Merkmale wie in 1, 1A und 1B. Die Elektrodenanordnung 38, die der Kammerbasis 22 zugeordnet ist, enthält eine Elektrode 40 mit Nuten 42, 44, von denen jede einen Stab eines Paares von Stäben 46, 48 aufnimmt, um eine Anordnung zu bilden. Die Nuten 42, 44 sind allgemein parallel und, geringfügig nach innen versetzt, nahe von einander gegenüberliegenden peripheren Seitenkanten der Elektrode 40 angeordnet. Die Tiefe der Nuten 42, 44 kann so gewählt werden, dass eine obere Fläche jeder der Stäbe 46, 48 im wesentlichen mit einer oberen Fläche 41 der Elektrode 40 auf einer Ebene liegt, wenn die Stäbe 46, 48 in den Nuten 42, 44 angeordnet sind. Das Querschnittprofil der Stäbe 46, 48 kann komplementär zum Querschnittprofil der Nuten 42, 44 ausgebildet sein. Die Stäbe 46, 48 sind vorzugsweise so positioniert, dass sie zwischen den Nuten 42, 44 ausgetauscht werden können.

Den Stäben 46, 48 ist eine Mehrzahl von beispielsweise fünf Führungs- und Halteschienen 50, 52, 54, 56, 58 zugeordnet, von denen die Schienen 50, 58 periphere Schienen und die Schienen 52, 54, 56 zentrale Schienen sind, die auf der Fläche der Elektrode 40 zwischen der Schiene 50 und der Schiene 58 angeordnet sind. Die Schienen 50, 52, 54, 56, 58 sind im wesentlichen rechtwinklig oder senkrecht zu den Stäben 46, 48 ausgerichtet. Die Schienen 50, 52, 54, 56, 58, die zueinander parallel angeordnet sind, sind im wesentlichen kollinear mit einer entsprechenden Mehrzahl von Schienen 60, die dem Materialhandhabungssystem 12 zugeordnet sind, um eine Mehrzahl von Bahnen zu definieren, auf denen unbehandelte Substrate 16 in die Kammer 20 transportiert werden. Auf ähnliche Weise sind die Schienen 50, 52, 54, 56, 58 im wesentlichen kollinear mit einer entsprechenden Mehrzahl von Schienen 62 angeordnet, die dem Materialhandhabungssystem 14 zugeordnet sind, um eine Mehrzahl von Bahnen zu definieren, auf denen behandelte Substrate 16 aus der Kammer 20 ausgeladen werden. Jede der Bahnen ist zwischen einem benachbarten Paar Schienen 60, zwischen einem benachbarten Paar Schienen 62 und zwischen benachbarten Paaren von Schienen 50, 52, 54, 56, 58 definiert, so dass die Materialhandhabungssysteme 12, 14 und das Plasma-Behandlungssystem 10 eine äquivalente Anzahl von Bahnen haben. Fachleuten ist klar, dass die spezifische Anzahl von Schienen, abhängig von unter anderem den Abmessungen der Substrate 16 und den Abmessungen der Kammer 20 unterschiedlich sein kann.

Die Schienen 50, 52, 54, 56, 58 wirken zusammen, um die Substrate 16 im Abstand zu der Oberfläche 41 der Elektrode 40 zu halten. Genauer gesagt halten die Schienen 50, 52, 54, 56, 58 die Substrate 16 während der Plasmabehandlung oberhalb der Oberfläche 41 der Elektrode 40, während der die Substrate 16 dem Plasma im Behandlungsraum 26 ausgesetzt werden.

In den 3 und 3A bis 3D bezeichnen gleiche Bezugszeichen wie in den 1, 1A, 1B und 2 gleiche Merkmale. Der Stab 48 kann um eine Längsachse 63 zentriert sein. Der Stab 48, der rohrförmig ausgebildet sein kann, enthält eine Mehrzahl von Seiten 64, 66, 68, 70 von im wesentlichen gleicher Fläche, die nach außen gerichtet sind und die Außenfläche des Stabes 48 definieren. Die Seiten 64 und 66 schneiden sich entlang einer rechtwinkligen Ecke 72, die Seiten 66 und 68 schneiden sich entlang einer rechtwinkligen Ecke 74, die Seiten 68 und 70 schneiden sich entlang einer rechtwinkligen Ecke 76 und die Seiten 70 und 64 schneiden sich entlang einer rechtwinkligen Ecke 78. Somit hat der Stab 48 ein vierseitiges, polygonales Querschnittprofil.

Wie am besten aus 3A hervorgeht, ist entlang der Länge der Seite 64 eine Mehrzahl von Öffnungen 80 angeordnet, bei der die benachbarten Paare von Öffnungen 80 durch einen Abstand S1 getrennt sind. Die Öffnungen 80 sind linear ausgerichtet und zentral zwischen den rechtwinkligen Ecken 72, 78 positioniert, die an die Längskanten der Seite 64 grenzen. Die Seite 64 enthält ein Identifizierungsmerkmal 82, das in das den Stab 48 bildende Material eingeschrieben sein kann. Das Identifizierungsmerkmal 82 schafft für eine Bedienungsperson eine gut zugängliche Anzeige für den Wert des Öffnungsabstandes S1, so dass die Bedienungsperson den Abstand zwischen benachbarten Öffnungen 80 zuverlässig bestimmen kann.

Wie am besten aus 3B hervorgeht, ist ebenfalls entlang der Länge der Seite 66 eine Mehrzahl von Öffnungen 84 angeordnet, bei denen benachbarte Paare von Öffnungen 84 durch einen Abstand S2 getrennt sind. Die Öffnungen 84 sind linear ausgerichtet und zentral zwischen den rechtwinkligen Ecken 72, 74 positioniert, die an die Längskanten der Seite 66 grenzen. Die Seite 66 enthält ein Identifizierungsmerkmal 86, das in das den Stab 48 bildende Material eingeschrieben sein kann. Das Identifizierungsmerkmal 86 schafft für eine Bedienungsperson eine Anzeige für den Wert des Öffnungsabstandes S2, so dass die Bedienungsperson leicht und zuverlässig den Abstand zwischen benachbarten Öffnungen 84 bestimmen kann.

Auf ähnliche Weise, das geht am besten aus 3C hervor, ist eine Mehrzahl von Öffnungen 88 entlang der Länge der Seite 68 angeordnet. Die benachbarten Paare von Öffnungen 88 sind durch einen Abstand S getrennt. Die Öffnungen 88 sind linear ausgerichtet und zentral zwischen den rechtwinkligen Ecken 74, 76 positioniert, die an die Längskanten der Seite 68 grenzen. Die Seite 68 enthält ein Identifizierungsmerkmal 90, das in das den Stab 48 bildende Material eingeschrieben sein kann. Das Identifizierungsmerkmal 90 schafft für eine Bedienungsperson eine Anzeige für den Wert des Öffnungsabstandes S3, so dass die Bedienungsperson leicht und zuverlässig den Abstand zwischen benachbarten Öffnungen 88 bestimmen kann.

Wie am besten aus 3D hervorgeht, ist auch entlang der Länge der Seite 70 eine Mehrzahl von Öffnungen 92 angeordnet. Die benachbarten Paare von Öffnungen 92 sind durch einen Abstand S4 voneinander getrennt. Die Öffnungen 92 sind linear ausgerichtet und zentral zwischen den rechtwinkligen Ecken 76, 78 positioniert, die an die Längsseiten der Seite 70 grenzen. Die Seite 70 enthält ein Identifizierungsmerkmal 94, das in das den Stab 48 bildende Material eingeschrieben sein kann. Das Identifizierungsmerkmal 94 schafft für eine Bedienungsperson eine Anzeige des Wertes vom Öffnungsabstand S4, so dass die Bedienungsperson leicht und zuverlässig den Abstand zwischen benachbarten Öffnungen 92 bestimmen kann.

Die Identifizierungsmerkmale 82, 86, 90, 94 können durch andere, einem durchschnittlichen Fachmann geläufige vakuumkompatible Verfahren in dem Stab 48 angebracht werden. Wenn der Stab 48 in der Nut 42 installiert ist, dann liegt nur einer der Sätze von Öffnungen 80, 84, 86, 88 frei, da die übrigen drei Sätze von Öffnungen 80, 84, 86, 88 durch Abschnitte der Elektrode 40 verdeckt sind, die die Nut 42 begrenzen. Die freiliegende Seite der Seiten 64, 66, 68, 70 und damit der freiliegende Satz von Öffnungen 80, 84, 86, 88 wird durch das Anheben des Stabes 48 und sein Drehen um die Längsachse 63 geändert.

Die Identifizierungsmerkmale 82, 86, 90, 94 ermöglichen eine schnelle Identifizierung des jeweiligen Öffnungsabstandes auf jeder der Seiten 64, 66, 68, 70. Jedes der Identifizierungsmerkmale 82, 86, 90, 94 kann mindestens ein alphanumerisches Zeichen enthalten, das die entsprechende Entfernung oder den entsprechenden Abstand zwischen benachbarten Paaren von Öffnungen 80, 84, 88 bzw. 92 anzeigt oder ihn andeutet. Alternativ können die Identifizierungsmerkmale 82, 86, 90, 94 einfache nicht-alphanumerische geometrische Formen umfassen wie Striche oder Kreise, die die entsprechende Entfernung oder den Abstand zwischen benachbarten Paaren von Öffnungen 80, 84, 88 bzw. 92 anzeigen oder andeuten. In einer ebenfalls möglichen Ausführungsform der Erfindung können weniger als alle Seiten 64, 66, 68, 80 markiert sein, indem ein oder mehrere der entsprechenden Identifizierungsmerkmale 82, 86, 90, 94 weggelassen werden.

Der Aufbau des Stabes 46 ist im wesentlichen gleich dem Aufbau des Stabes 48, so dass jeder der Stäbe 46, 48 in eine jede der Nuten 42, 44 der Elektrode 40 eingesetzt werden kann. Ist der Stab 48 in Nut 44 eingesetzt, dann ist eine der Seiten 64, 66, 68, 70 exponiert und sichtbar. Auf ähnliche Weise ist, wenn der Stab 46 in Nut 42 eingesetzt ist, eine Seite des Stabes 46, die der freiliegenden Seite der Seiten 64, 66, 68, 70 des Stabes 48 entspricht, exponiert und sichtbar. Die Stäbe 46, 48 sind in ihren entsprechenden Nuten 42, 44 so angeordnet, dass die Öffnungen im Stab 48, beispielsweise die Öffnungen 80 in der Seite 64, direkt gegenüber von den Öffnungen 80 in der Seite 64 des Stabes 46 angeordnet sind. Diese Korrelation stellt sicher, dass die installierten Schienen 50, 52, 54, 56, 58 in einem im wesentlichen parallelen Verhältnis zueinander bei gleichmäßigem Abstand zwischen benachbarten Paaren von Schienen 50, 52, 54, 56, 58 angeordnet sind. Der Abstand zwischen benachbarten Paaren von Schienen 50, 52, 53, 56, 58 ist ohne weiteres durch den Bezug auf das entsprechende Identifizierungsmerkmal aus der Gruppe von Identifizierungsmerkmalen 82, 86, 90, 94 an den Stäben 46, 48 zu bestimmen und spezifiziert durch den zugänglichen Satz von Öffnungen 80, 84, 88, 92.

In einer ebenfalls möglichen Ausführungsform der vorliegenden Erfindung können die Stäbe 46, 48 unterschiedlich ausgebildet sein. Zum Beispiel können die Nuten 42, 44 und die Stäbe 46, 48 unterschiedliche komplementäre Querschnittprofile haben wie beispielsweise ein komplementär polygonales Querschnittprofil mit weniger oder mehr als vier aneinanderliegenden Seiten.

In weiteren möglichen Ausführungsformen der vorliegenden Erfindung können weniger als alle Seiten 64, 66, 68, 70 der Stäbe 46, 48 den jeweiligen Satz von Öffnungen 80, 84, 88, 92 enthalten. Beispielsweise können nur zwei Seiten, beispielsweise die Seiten 64 und 66 jeder der Stäbe 46, 48 mit Öffnungen 80 bzw. 82 ausgestattet sein, wie dies in 3 gezeigt ist, und die verbleibenden Seiten 68, 70 sind ohne Öffnungen. In diesem Fall kann ein weiterer Satz von Stäben (nicht dargestellt) vorhanden sein, deren Seiten mit Öffnungen ausgestattet sind, die dieselben Abstände haben wie die Öffnungen 80, 82 der Stäbe 46, 48, so dass dieser neue Satz Stäbe und die Stäbe 46, 48 mit Öffnungen in den Seiten 64, 66 den gleichen Satz möglicher Schienenabstände bietet wie die Stäbe 46, 48 mit den mit Öffnungen versehenen Seiten 64, 66, 68, 70.

Bei noch einer weiteren möglichen Ausführungsform der vorliegenden Erfindung kann ein Satz aus vier Stäben (nicht dargestellt) nur an jeweils einer einzigen Seite mit Öffnungen versehen sein und als Ersatz für mindestens einen der Stäbe 46, 48 zu verwenden sein. In diesem Fall wäre eine Seite der vier Stäbe ähnlich der Darstellung in den 3A bis 3D ausgebildet.

In den 4, 4A, 4B und 5 bezeichnen gleiche Bezugszeichen gleiche Merkmale wie in den 1 bis 3. Eine Schiene 56, die auch für Schiene 52 und Schiene 54 repräsentativ ist, enthält ein Paar Trägerflächen oder Kantenelemente 96, 98, die durch ein mittleres Trennelement 100 voneinander getrennt sind. Die Trägerflächen 96, 98 erstrecken sich zwischen einander gegenüberliegenden Enden 105, 107 der Schiene 56. Die Trägerflächen 96, 98 sind von einer Bodenfläche 102 im Abstand angeordnet, die an die Elektrode 40 angrenzt, wenn die Schiene 56 an den Stäben 46, 48 befestigt ist. Jede der Trägerflächen 96, 98 enthält eine abgeschrägte Fläche 104 bzw. 106 am Ende 105 der Schiene 56, die zum Materialhandhabungssystem 12 gerichtet ist, wenn die Schiene 56 mit den Stäben 46, 48 gekoppelt wird. Die abgeschrägten Flächen 104, 106 werden zur vertikalen Führung der Substrate 16 verwendet, die von den Schienen 60 des Materialhandhabungssystems 12 transportiert werden, um eine Toleranz für eine vertikale Fehlausrichtung der Schienen 60 gegenüber den Schienen 56 und den anderen Schienen 52, 54 zu bieten, die ebenfalls die abgeschrägten Enden 104, 106 aufweisen.

Das mittlere Trennelement 100 weist einander gegenüberliegende Seitenwände 116, 118 auf, die sich vertikal so erstrecken, dass sie sich mit einer entsprechenden Trägerfläche der Trägerflächen 96, 98 schneiden. Der Abstand W1 zwischen den Seitenwänden 116, 118 am Ende 105 ist geringer als der Abstand W2 zwischen den Seitenwänden 116, 118 an jedem Punkt entlang der Länge der Schiene 56. Aus dem Grunde sind die Trägerflächen 96, 98 in der Nähe des Endes 105, das an die Schienen 60 des Materialhandhabungssystems 12 angrenzt, breiter als in der Nähe des Endes 107, das an die Schienen 62 des Materialhandhabungssystems 14 angrenzt. Jede der Trägerflächen 96, 98 erreicht eine kleinste Breite an einem Ort L vom Ende 105 und weist von dem Ort bis zum Ende 107 eine konstante Breite auf. Die vergrößerte Breite der Trägerflächen 96, 98 nahe dem Ende 105 wirkt als Korrektiv für eine seitliche Fehlausrichtung der Substrate 16 während des Ladevorganges. In einer spezifischen Ausführungsform der Erfindung weist das Trennelement 100 eine Breite W1 am Ende 105 auf, die etwa gleich 4,5 mm ist und eine maximale Breite W2 nahe dem Ende 107, die etwa gleich 6,5 mm ist, und der Ort L ist etwa 260 mm vom Ende 105 entfernt.

Aus der Bodenfläche 102 der Schiene 56 erstreckt sich ein Paar Stifte oder Pfosten 108, 110, die an die Schienen 56 mit den Stäben 46, 48 angreifen. Der Pfosten 108 ist vom Pfosten 110 entlang der Länge der Schiene 56 in einem Abstand P angeordnet, der im wesentlichen gleich dem Mittellinienabstand G zwischen den Nuten 42, 44 in der Elektrode 40 ist, wie es in 2 gezeigt ist. Das Verbinden der Pfosten 108, 110 mit den Öffnungen 80 der Seite 64 sowie mit den Öffnungen 84, 88, 92 der Seiten 66, 68 bzw. 70 ist ohne alle Schwierigkeiten wiederholbar. Die Pfosten 108, 110 weisen einen feststehenden Trennungsabstand auf und die Öffnungen 80, 84, 88, 92 ebenfalls, weshalb die Bedienungsperson bei der Einstellung der Position der Schiene 56 und der Schienen 50, 52, 54, 58 nicht mehr subjektiv zu entscheiden hat.

In 4C bezeichnen gleiche Bezugszeichen gleiche Merkmale wie in 4B. Die Schiene 58 ist eine Außenschiene und weist eine einzige Trägerfläche 112 auf, deren Aufbau mit der Trägerfläche 96 der Schiene 56 (4B) identisch ist. Die Trägerfläche 112 weist eine abgeschrägte Fläche 120 auf, die gleich oder identisch mit den abgeschrägten Flächen 104, 106 (4A) der Schiene 56 ist, ein Trennelement 120, das ähnlich oder identisch mit dem Trennelement 100 (4A) der Schiene 56 ist, und eine Seitenwand 122, die gleich oder identisch mit der Seitenwand 116 (4A) ist. Schiene 50 in 4D ist ebenfalls eine Außenschiene mit einer einzigen Trägerfläche 114, die identisch zu der Trägerfläche 98 der Schiene 56 (4B) gestaltet ist. Die Trägerfläche 114 weist eine abgeschrägte Fläche 124 auf, die ähnlich wie oder identisch mit den abgeschrägten Flächen 104, 106 (4A) der Schiene 56 ist, weiter ein Trennelement 126, das ähnlich wie oder identisch mit dem Trennelement 100 (4A) der Schiene 56 ist, und eine Seitenwand 128, die ähnlich wie oder identisch mit der Seitenwand 116 (4A) ist.

In den 6 und 7, in denen gleiche Bezugszeichen gleiche Merkmale bezeichnen wie in den 1 bis 5, ist die Schiene 56 an einem Ende über den Stift 108 mit einer der Öffnungen 80 in der Seite 64 des Stabes 46 gekoppelt und ein entgegengesetztes Ende durch den Stift 110 mit einer der Öffnungen 80 in der Seite 64 des Stabes 48. Die Stifte 108, 110 erstrecken sich durch die Öffnungen 80 und teilweise in das Innere der Stäbe 46 bzw. 48. Die Schienen 50, 52, 54, 58 sind mit den Stäben 46, 48 auf eine Weise im Angriff, die im wesentlichen identisch mit dem Angriff zwischen der Schiene 56 und den Stiften 46, 48 ist. Selbstverständlich kann eine andere der Seiten 66, 68, 70 von jedem der Stäbe 46, 48 frei liegen, um die Breite zu verändern für das Substrat 16, das im Plasma-Behandlungssystem 10 einer Plasmabehandlung zu unterziehen ist. Die Schienen 50, 52, 54, 58 erstrecken sich, wenn sie mit den Stäben 46, 48 im Angriff sind, zwischen den Stäben 46, 48.

Die Stäbe 46, 48, die Nuten 42, 44 und die Öffnungen 80, 84, 88 92 wirken als ein Satz von Verbindungselementen und die Stifte 108, 110 jeder der Schienen 50, 52, 54, 58 wirken als ein zweiter, komplementärer Satz von Verbindungsgliedern, die in einen Satz von Öffnungen 80, 84, 88, 92 zum lösbaren Verbinden der Schienen 50, 52, 54, 58 mit der Elektrode 40 lösbar eingreifen, um die Elektrodenanordnung 38 zu bilden. Die komplementären Verbindungselementekonstruktionen können zum lösbaren Verbinden der Schienen 50, 52, 54, 58 mit der Elektrode 40 verändert werden. Zum Beispiel können die Stifte 108, 110 und die Öffnungen 80, 84, 88, 92 unterschiedliche komplementäre geometrische Formen haben. Alternativ können die Stifte 108, 110 und die Öffnungen 80, 84, 88, 92 durch eine andere Konstruktion ersetzt werden, die die gleiche Sicherheit und Wiederholsicherheit zum lösbaren Verbinden der Schienen 50, 52, 54, 58 bietet. In einem weiteren Beispiel können die Nuten 42, 44 und die Stäbe 46, 48 so geformt und dimensioniert sein, dass ein Abschnitt jeder der Stäbe 46, 48 sich oberhalb der Elektrode 40 erstreckt und die Schienen 50, 52, 54, 58 in der Nähe jedes der einander gegenüberliegenden Enden mit Aussparungen (nicht gezeigt) versehen sind, die den vorstehenden Abschnitt der entsprechenden Stäbe 46, 48 aufnehmen.

In 8 bezeichnen gleiche Bezugszeichen gleiche Merkmale wie in den 1 bis 7. Ein wahlweise vorzusehendes Höheneinstellelement in der Form eines Abstandelements 120 kann zwischen die Schiene 56 und den Stab 48 eingefügt werden und ein weiteres wahlweise vorzusehendes Höheneinstellelement oder Abstandselement (nicht gezeigt), das dem Abstandselement 120 gleicht oder ihm identisch ausgebildet ist, kann zwischen die Schiene 56 und den Stab 46 eingefügt werden, um die Höhe der Trägerelemente 96, 98 oberhalb der oberen Fläche der Elektrode 40 zu verändern. Diese Einstellmöglichkeit erlaubt die Einstellung der vertikalen Position der Schiene 56 gegenüber der Elektrode 40 auf eine Weise, das sie der vertikalen Position der Schienen 60 des Materialhandhabungssystems 12 entspricht. Das Abstandselement 120 kann die ringförmige Form einer Unterlegscheibe haben, die um den Stift 108 herum angeordnet ist, oder auf andere Weise ausgeführt sein. Ähnliche Abstandselemente (nicht gezeigt) können zum Einstellen der vertikalen Höhe der anderen Schienen 50, 52, 54, 58 vorgesehen sein.

Um die Elektrodenanordnung 38 des Plasma-Behandlungssystesm 10 für die Aufnahme von Substraten 16 unterschiedlicher Breite auszulegen und mit Bezug auf die 1 bis 8 wird die Kammerabdeckung 24 gegenüber der Kammerbasis 22 in die geöffnete Position bewegt, um Zugang zur Elektrodenanordnung 38 zu ermöglichen. Die Schienen 50, 52, 54, 58 werden durch eine vertikale Hebebewegung entfernt, die die Stifte 108, 110 aus ihrer Einsteckstellung löst. Jeder der Stäbe 46, 48 wird innerhalb der Nuten 42, 44 der Elektrode 40 so neu ausgerichtet, dass die entsprechende gleiche Seite der Seiten 64, 66, 68, 70 entlang der oberen Fläche der Elektrode 40 frei liegt.

Als Alternative kann ein weiterer Satz von Stäben (nicht gezeigt) mit unterschiedlichen Öffnungsabständen in die Nuten 42, 44 eingesetzt werden. Die Schienen 50, 52, 54, 56, 58 werden durch Koppeln mit den Nuten 42, 44 wieder eingesetzt, wenn nicht die Anzahl der Schienen verändert wird, um den Materialhandhabungssystemen 12, 14 eine andere Anzahl von Bahnen zu bieten. Die wahlweise vorzusehenden Abstandselemente 120 können eingesetzt werden, um den Abstand zwischen den Trägerflächen 92, 94 der Schienen 52, 54, 58, die Trägerfläche 112 der Schiene 58 und die Trägerfläche 114 der Schiene 50 der Elektrode 40 zu vergrößern.

Während des Betriebes kann eine Seitenkante mindestens eines Substrats 16 mit jeder der Trägerflächen 92, 94 der Schienen 52, 54, 58, der Trägerfläche 112 der Schiene 58 und der Trägerfläche 114 der Schiene 50 Kontakt haben. Zum Beispiel, und wie in 6 gezeigt, wird eine Seitenkante eines Substrats 16 von einer Trägerfläche 98 der Schiene 56 und eine weitere Seitenkante von der Trägerfläche 112 der Schiene 58 getragen.

Die Elektrode 40, die Schienen 50, 52, 54, 56, 58 und die Stäbe 46, 48 können aus einem leitenden Material, beispielsweise Aluminium oder einer Aluminiumlegierung, hergestellt sein. Die Stifte 108, 110 können der Haltbarkeit wegen aus einem rostfreien Stahl bestehen. Die Haltbarkeit ist wegen der häufigen Verbindung und dem Lösen der Verbindung der Schienen 50, 52, 54, 56, 58 mit den Stäben 46, 48 wichtig. Nach dem Zusammenbau bilden die Elektrode 40, die Schienen 50, 52, 54, 56, 58 und die Stäbe 46, 48 eine leitende Elektrodenanordnung.

Zur Verwendung in der Elektrodenanordnung 38 kann ein zweiter Satz von Stäben (nicht gezeigt) vorgesehen sein, deren Öffnungsabstände von den spezifischen Öffnungsabständen der Stäbe 46, 48 abweichen. Die Abstände der Öffnungen können so gewählt sein, dass sie den Anforderungen eines Kunden für spezielle Streifenbreiten entsprechen. Die Schienen 50, 52, 54, 56, 58 sind so ausgelegt, dass sie mit jedem gewählten Satz von Stäben 46, 48 zu verwenden sind. Darum ist nur ein einziger Satz von Schienen 50, 52, 54, 56, 58 erforderlich. Die spezifische Anzahl von Schienen kann sich jedoch abhängig von der Anzahl der für eine Elektrodenanordnung 38 vorzusehenden Substratbahnen ändern. Beispielsweise können die Schienen 50, 52, 54 und 58 für die Elektrodenanordnung 38 verwendet werden, wenn diese nur drei Aufnahmebahnen für Substrate 16 statt vier solcher Aufnahmebahnen besitzt. In einem weiteren Beispiel können die Schienen 50 und 58 verwendet werden, wenn die Elektrodenanordnung 38 nur eine einzige Aufnahmebahn für Substrate 16 aufweist.

Die vorliegende Erfindung wurde mit der Beschreibung unterschiedlicher Ausführungsformen dargestellt, und diese Ausführungsformen wurden sehr detailliert beschrieben; es ist jedoch nicht die Absicht des Anmelders, den Bereich der beigefügten Ansprüche auf solche Details zu begrenzen. Ein Fachmann erkennt ohne weiteres zusätzliche Vorteile und Modifikationen. Die Erfindung in ihren breiteren Aspekten ist darum nicht auf die spezifischen Details, dargestellten Einrichtungen und Verfahren und die der Darstellung halber gezeigten und beschriebenen Beispiele begrenzt. Dementsprechend können Abweichungen von solchen Details vorgenommen werden, ohne sich vom Geist oder Bereich des allgemeinen erfindungsgemäßen Konzeptes des Anmelders zu entfernen. Der Bereich der Erfindung selbst ist nur durch die nachfolgenden Ansprüche definiert.


Anspruch[de]
Elektrodenanordnung zum Halten einer oder mehrerer Substrate in einem Plasma-Behandlungssystem,

mit einer Elektrode, die eine Mehrzahl von Anschlußgliedern aufweist, und

mit einer Mehrzahl von Schienen, die der Elektrode zugeordnet sind und mit dieser zusammenwirken, um die Substrate auf der Elektrode zu halten, wobei jede der Schienen eine Mehrzahl von zweiten Anschlußgliedern aufweist, von denen jedes mit einem der ersten Anschlußglieder lösbar verbunden ist, um die Schienen abnehmbar an der Elektrode zu befestigen.
Elektrodenanordnung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die ersten Anschlußglieder außerdem eine Mehrzahl von Stäben aufweisen, von denen jeder eine Mehrzahl von ersten Öffnungen und eine Mehrzahl von in der Elektrode gebildeten, im wesentlichen parallelen Nuten hat, und dass jeder der Stäbe abnehmbar in einer der Nuten positioniert ist, um die ersten Öffnungen freizulegen. Elektrodenanordnung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass jede der Schienen sich zwischen den Stäben erstreckt, dass jedes der zweiten Anschlußglieder ein von einer entsprechenden Schiene vorstehender Stift ist und dass jeder der Stifte eine solche Größe hat, dass er in eine der ersten Öffnungen eingesteckt werden kann. Elektrodenanordnung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass nebeneinander liegende Paare der ersten Öffnungen durch einen im wesentlichen gleichmäßigen ersten Abstand voneinander getrennt sind, um einen im wesentlichen gleichmäßigen ersten Abstand zwischen jedem nebeneinander liegenden Paar der Schienen zu bilden. Elektrodenanordnung nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, dass jeder der Stäbe außerdem eine Mehrzahl von zweiten Öffnungen aufweist, dass jeder der Stäbe in einer der Nuten positionierbar ist, um mindestens eine der zweiten Öffnungen oder der ersten Öffnungen freizulegen, dass nebeneinander liegende Paare der zweiten Öffnungen durch einen im wesentlichen gleichmäßigen zweiten Abstand voneinander getrennt sind, um einen im wesentlichen gleichmäßigen zweiten Abstand zwischen jedem nebeneinander liegenden Paar der Schienen zu bilden, und dass der zweite Abstand von dem ersten Abstand abweicht. Elektrodenanordnung nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, dass jeder der Stäbe ein erstes Identifizierungsmerkmal enthält, das sich auf den ersten Abstand bezieht, und ein zweites Identifizierungsmerkmal, das sich auf den zweiten Abstand bezieht. Elektrodenanordnung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass jede der Schienen ein erstes Ende, ein zweites Ende und eine Trägerfläche aufweist, die sich in Längsrichtung zwischen dem ersten und dem zweiten Ende erstreckt, dass ein Abschnitt der Trägerfläche mindestens einer der Schienen in Richtung des ersten Endes geneigt ist und das erste Ende schneidet, und dass der Abschnitt der Trägerfläche dazu dient, eine vertikale Fehlausrichtung eines der auf die Trägerfläche aufgeladenen Substrates zu korrigieren. Elektrodenanordnung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass jede der Schienen ein erstes Ende, ein zweites Ende und eine Trägerfläche aufweist, die sich in Längsrichtung zwischen dem ersten und dem zweiten Ende erstreckt, dass ein Abschnitt der Trägerfläche mindestens einer der Schienen sich in Richtung des ersten Endes aufweitet und das erste Ende schneidet, und dass der Abschnitt der Trägerfläche dazu dient, eine laterale Fehlausrichtung eines der auf die Trägerfläche aufgeladenen Substrates zu korrigieren. Elektrodenanordnung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass jede der Schienen eine Trägerfläche aufweist, dass eine Mehrzahl von Höheneinstellgliedern abnehmbar zwischen den Schienen und der Elektrode eingesetzt ist und dass die Distanzstücke zusammenwirken, den Abstand zwischen der Trägerfläche und der Elektrode zu erhöhen. Elektrodenanordnung zum Halten einer oder mehrerer Substrate in einem Plasma-Behandlungssystem,

mit einer Elektrode, die eine erste Nut und eine zweite Nut aufweist, die im wesentlichen parallel zu der ersten Nut ausgerichtet ist,

mit einem ersten Stab in der ersten Nut,

mit einem zweiten Stab in der zweiten Nut, und

mit einer Mehrzahl von Schienen, die sich zwischen den ersten und den zweiten Stäben erstrecken und zusammenwirken, um die Substrate auf der Elektrode zu halten, wobei jede der Schienen mit den ersten und den zweiten Stäben lösbar verbunden ist, um die Schienen abnehmbar an der Elektrode zu befestigen.
Elektrodenanordnung nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, dass sowohl der erste Stab als auch der zweite Stab eine Mehrzahl von Öffnungen aufweist, von denen jedes nebeneinander liegende Paar der Öffnungen einen Abstand zwischen einem nebeneinander liegenden Paar von Schienen definiert. Elektrodenanordnung nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, dass jede der Schienen einen ersten Stift solcher Größe aufweist, dass er in eine der Öffnungen in dem ersten Stab eingesteckt werden kann, und einen zweiten Stift solcher Größe aufweist, dass er in eine der Öffnungen in dem zweiten Stab eingesteckt werden kann. Elektrodenanordnung nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, dass sowohl der erste Stab als auch der zweite Stab eine erste Seite mit einer Mehrzahl von ersten Öffnungen und eine zweite Seite mit einer Mehrzahl von zweiten Öffnungen aufweist, dass nebeneinander liegende Paare der ersten Öffnungen durch einen ersten Abstand voneinander getrennt sind, um einen ersten Abstand zwischen nebeneinander liegenden Paaren der Schienen zu bilden, und dass nebeneinander liegende Paare der zweiten Öffnungen durch einen zweiten Abstand voneinander getrennt sind, um einen zweiten Abstand zwischen nebeneinander liegenden Paaren der Schienen zu bilden. Elektrodenanordnung nach Anspruch 13, dadurch gekennzeichnet, dass die erste Seite ein erstes Identifizierungsmerkmal enthält, das sich auf den ersten Abstand bezieht, und die zweite Seite ein zweites Identifizierungsmerkmal, das sich auf den zweiten Abstand bezieht. Elektrodenanordnung nach Anspruch 14, dadurch gekennzeichnet, dass mindestens das erste Identifizierungsmerkmal oder das zweite Identifizierungsmerkmals mindestens ein alphanumerisches Zeichen enthält. Behandlungssystem zum Behandeln eines Substrats mit einem Plasma

mit einer Vakuumkammer, die einen Behandlungsraum aufweist, der zu einem partiellen Vakuum evakuiert werden kann,

mit einem in der Vakuumkammer definierten Gasanschluß zum Einführen eines Prozessgases in den Behandlungsraum,

mit einer Stromversorgung,

mit einer in dem Behandlungsraum angeordneten Elektrodenanordnung, die elektrisch mit der Stromversorgung verbunden ist, um das Prozessgas in das Plasma umzuwandeln, und die eine Mehrzahl von Anschlußgliedern sowie eine Mehrzahl von Schienen aufweist, die der Elektrode zugeordnet sind und mit dieser zusammenwirken, um die Substrate auf der Elektrode zu halten, wobei jede der Schienen eine Mehrzahl von zweiten Anschlußgliedern aufweist, von denen jedes mit einem der ersten Anschlußglieder lösbar verbunden ist, um die Schienen abnehmbar an der Elektrode zu befestigen.
Behandlungssystem nach Anspruch 16, dadurch gekennzeichnet, dass die ersten Anschlußglieder außerdem eine Mehrzahl von Stäben aufweisen, von denen jeder eine Mehrzahl von ersten Öffnungen und eine Mehrzahl von in der Elektrode gebildeten, im wesentlichen parallelen Nuten hat, und dass jeder der Stäbe abnehmbar in einer der Nuten positioniert ist, um die ersten Öffnungen freizulegen. Behandlungssystem nach Anspruch 17, dadurch gekennzeichnet, dass jede der Schienen sich zwischen den Stäben erstreckt, dass jedes der zweiten Anschlußglieder ein von einer entsprechenden Schiene vorstehender Stift ist und dass jeder der Stifte eine solche Größe hat, dass er in eine der ersten Öffnungen eingesteckt werden kann. Behandlungssystem nach Anspruch 17, dadurch gekennzeichnet, dass nebeneinander liegende Paare der ersten Öffnungen durch einen im wesentlichen gleichmäßigen ersten Abstand voneinander getrennt sind, um einen im wesentlichen gleichmäßigen ersten Abstand zwischen jedem nebeneinander liegenden Paar der Schienen zu bilden. Behandlungssystem nach Anspruch 19, dadurch gekennzeichnet, dass jeder der Stäbe außerdem eine Mehrzahl von zweiten Öffnungen aufweist, dass jeder der Stäbe in einer der Nuten positionierbar ist, um mindestens eine der zweiten Öffnungen oder der ersten Öffnungen freizulegen, dass nebeneinander liegende Paare der zweiten Öffnungen durch einen im wesentlichen gleichmäßigen zweiten Abstand voneinander getrennt sind, um einen im wesentlichen gleichmäßigen zweiten Abstand zwischen jedem nebeneinander liegenden Paar der Schienen zu bilden, und dass der zweite Abstand von dem ersten Abstand abweicht. Behandlungssystem nach Anspruch 20, dadurch gekennzeichnet, dass jeder der Stäbe ein erstes Identifizierungsmerkmal enthält, das sich auf den ersten Abstand bezieht, und ein zweites Identifizierungsmerkmal, das sich auf den zweiten Abstand bezieht. Behandlungssystem nach Anspruch 16, dadurch gekennzeichnet, dass jede der Schienen ein erstes Ende, ein zweites Ende und eine Trägerfläche aufweist, die sich in Längsrichtung zwischen dem ersten und dem zweiten Ende erstreckt, dass ein Abschnitt der Trägerfläche mindestens einer der Schienen in Richtung des ersten Endes geneigt ist und das erste Ende schneidet, und dass der Abschnitt der Trägerfläche dazu dient, eine vertikale Fehlausrichtung eines der auf die Trägerfläche aufgeladenen Substrate zu korrigieren. Behandlungssystem nach Anspruch 16, dadurch gekennzeichnet, dass jede der Schienen ein erstes Ende, ein zweites Ende und eine Trägerfläche aufweist, die sich in Längsrichtung zwischen dem ersten und dem zweiten Ende erstreckt, dass ein Abschnitt der Trägerfläche mindestens einer der Schienen sich in Richtung des ersten Endes aufweitet und das erste Ende schneidet, und dass der Abschnitt der Trägerfläche dazu dient, eine laterale Fehlausrichtung eines der auf die Trägerfläche aufgeladenen Substrate zu korrigieren. Behandlungssystem nach Anspruch 16, dadurch gekennzeichnet, dass jede der Schienen eine Trägerfläche aufweist, dass eine Mehrzahl von Höheneinstellgliedern abnehmbar zwischen den Schienen und der Elektrode eingesetzt ist und dass die Distanzstücke zusammenwirken, den Abstand zwischen der Trägerfläche und der Elektrode zu erhöhen.






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