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Dokumentenidentifikation DE112005000218T5 29.11.2007
Titel Bildschirm- bzw. Displayvorderplatte und Verfahren zur Herstellung derselben
Anmelder Dai Nippon Printing Co., Ltd., Tokio/Tokyo, JP
Erfinder Naito, Nobuo, Tokio/Tokyo, JP;
Arakawa, Fumihiro, Tokio/Tokyo, JP;
Masaki, Tadahiro, Tokio/Tokyo, JP
Vertreter Müller-Boré & Partner, Patentanwälte, European Patent Attorneys, 81671 München
DE-Aktenzeichen 112005000218
Vertragsstaaten AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW, AP, BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW, AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR, OA, BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ
WO-Anmeldetag 19.01.2005
PCT-Aktenzeichen PCT/JP2005/000608
WO-Veröffentlichungsnummer 2005072039
WO-Veröffentlichungsdatum 04.08.2005
Date of publication of WO application in German translation 29.11.2007
Veröffentlichungstag im Patentblatt 29.11.2007
IPC-Hauptklasse G09F 9/00(2006.01)A, F, I, 20070829, B, H, DE
IPC-Nebenklasse B32B 3/24(2006.01)A, L, I, 20070829, B, H, DE   B32B 15/08(2006.01)A, L, I, 20070829, B, H, DE   

Beschreibung[de]
GEBIET DER ERFINDUNG

Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf eine Bildschirm- bzw. Displayvorderplatte, die für das Verhindern von EMI (elektromagnetischer (Wellen) Interferenz) verwendbar ist, welche durch elektromagnetische Wellen, die von Bildschirmen bzw. Displays, wie Plasmabildschirmplatten (nachfolgend auch als PDPs bezeichnet), bewirkt ist, und zum Abschirmen von NIR (nahen Infrarotstrahlen), die von Displays bzw. Bildschirmen emittiert werden, und genauer auf eine Bildschirmvorderplatte, die exzellent in EMI Prevention, NIR Abschirmeigenschaften und Transparenz ist, die durch Laminieren einer Metallgitterschicht an ein transparentes Substrat durch eine transparente Kleberschicht hergestellt wird, in welcher die aufgerauhte Fläche bzw. Oberfläche der Kleberschicht, die an den Öffnungen der Metallgitterschicht freigelegt ist, mit einer weiteren Kleberschicht abgedeckt ist, durch welche ein naher Infrarotstrahlen abschirmender Film an die Metallgitterschicht laminiert wird, und auf ein Verfahren zur Herstellung der Bildschirmvorderplatte bzw. der Displayvorderplatte bzw. des Frontpaneels.

In dieser Beschreibung beruhen "Verhältnis", "Teil", "%" und dgl., welche Verhältnisse bzw. Proportionen anzeigen, auf einer Gewichtsbasis, außer sie ist anders spezifiziert, und das Symbol "/" bezeichnet, daß Schichten, die vor und nach diesem Symbol beschrieben sind, miteinander einstückig laminiert sind. "NIR", "UV" und "PET" sind Abkürzungen, Synonyme, funktionelle Ausdrücke, gemeinschaftliche Bezeichnungen oder Ausdrücke, die in der Technik verwendet werden, welche "nahe Infrarotstrahlen", "Ultraviolettlicht", und "Polyethylenterephthalat" bezeichnen.

STAND DER TECHNIK

Elektromagnetische Wellen, welche elektromagnetische Einrichtungen generieren, beeinflussen andere elektromagnetische Einrichtungen bzw. Elemente nachteilig, und es wird behauptet, daß sie auch auf den menschlichen Körper und Tiere Einfluß besitzen, und eine Vielzahl von Maßnahmen wurde bereits ergriffen, um derartige elektromagnetische Wellen abzuschirmen. Insbesondere PDPs, welche kürzlich in Gebrauch gelangten, generieren elektromagnetische Wellen mit Frequenzen von 30 bis 130 MHz, so daß sie Computer oder computerunterstützte Vorrichtungen, die nahe den PDPs angeordnet sind, beeinflussen bzw. beeinträchtigen. Es ist daher wünschenswert, soweit wie möglich elektromagnetische Wellen, die von den PDPs emittiert sind, abzuschirmen.

Eine PDP ist eine Anordnung, bestehend aus einer Glasplatte, die eine Datenelektrode und eine fluoreszierende Schicht aufweist, und einer Glasplatte, die eine transparente Elektrode aufweist, mit einem Gas, wie Xenon oder Neon, das in einem Raum zwischen den zwei Glasplatten versiegelt bzw. eingeschlossen ist. PDPs können in großen Schirmgrößen bzw. Bildschirmgrößen hergestellt werden, verglichen mit konventionellen Bildschirmen bzw. Anzeigen, welche CRTs (Kathodenstrahlröhren) verwenden, und werden nun populär gemacht. Wenn sie betätigt werden, generieren derartige PDPs eine große Menge an unerwünschter Strahlung, umfassend elektromagnetische Wellen, nahe Infrarotstrahlen, unerwünschtes Licht mit spezifischen Wellenlängen und Wärme. Um diese elektromagnetischen Wellen, nahen Infrarotstrahlen und dieses unerwünschte Licht mit spezifischen Wellenlängen abzuschirmen oder zu kontrollieren bzw. zu steuern bzw. zu regeln, wird normalerweise eine Plasmadisplay- bzw. Bildschirmvorderplatte auf die Vorderseite einer PDP, welche eine Plasmaanzeige bzw. einen Plasmabildschirm ausbildet, montiert. Es wird von einer derartigen Plasmadisplayvorderplatte insbesondere gefordert, daß sie Abschirmeigenschaften für elektromagnetische Wellen und Abschirmeigenschaften für nahe Infrarotstrahlen besitzt.

Allgemein ist es erforderlich, daß Bildschirmvorderplatten eine Effizienz (Funktion) von 30 dB oder mehr beim Abschirmen von elektromagnetischen Wellen mit Frequenzen von 30 MHz bis 1 GHz aufweisen, welche von Bildschirmen bzw. Displayelementen emittiert werden. Es ist auch erforderlich, daß sie nahe Infrarotstrahlen mit Wellenlängen von 800 bis 1.100 nm abschirmen, die von Bildschirmelementen emittiert werden, da diese Strahlen eine Fehlfunktion von ferngesteuerten Vorrichtungen, wie VTRs und Infrarotkommunikationseinrichtungen, bewirken.

Weiterhin müssen Bildschirmvorderplatten moderate Transparenz (die Eigenschaft zum Übertragen von sichtbaren Licht) und Helligkeit ebenso wie verschiedene Funktionen aufweisen, wie eine Funktion der Verstärkung bzw. Verbesserung der Bildsichtbarkeit, indem an Bildschirme die Eigenschaft des Verhinderns von Reflexion und Blenden von Fremdlicht und eine Funktion der Erhöhung von mechanischer Festigkeit verliehen wird.

Insbesondere, wenn Bildschirmvorderplatten freigelegte, aufgerauhte Oberflächen aufweisen oder feine Luftblasen enthalten, welche im Verlaufe ihrer Herstellung inkorporiert wurden, reflektieren sie Licht unregelmäßig, um Trübungen zu vergrößern bzw. zu erhöhen. Derartige Bildschirmvorderplatten können den Bildkontrast absenken, wenn sie auf Bildschirmen bzw. Anzeigen bzw. Displays, wie PDPs, festgelegt bzw. montiert sind. Bildschirmvorderplatten müssen daher eine derartige Transparenz besitzen, daß sie die Bildschirmsichtbarkeit nicht verschlechtern.

In einem konventionellen Verfahren zum Herstellen einer Bildschirmvorderplatte ist jede Schicht, wie eine Schicht, die die Funktion des Verhinderns von elektromagnetischer Welleninterferenz (EMI) aufweist und eine Schicht, die die Funktion des Abschirmens von nahen Infrarotstrahlen (NIR) aufweist, auf jeder Seite eines transparenten Substrats ausgebildet, das aus einer zerbrechlichen Glasplatte, die groß in der Fläche und schwer im Gewicht ist, ausgebildet, während das transparente Substrat umgeschlagen wird. Daher war die Produktion einer Bildschirmvorderplatte schwierig, hat eine große Anzahl von Schritten erfordert und war teuer. Aus diesem Grund besteht eine Anforderung bzw. Nachfrage nach einem Verfahren zum Herstellen einer Bildschirmvorderplatte, mit welcher eine hochgenaue Bildschirmvorderplatte stabil und billig in einer kleineren Anzahl von Schritten hergestellt werden kann, während bestehende Anlagen und Techniken verwendet werden, und mit welchem die Bildschirmvorderplatte auf einem Bildschirm bzw. einer Anzeige bzw. einem Display leicht montiert bzw. festgelegt werden kann.

Um weiterhin die Eigenschaft des Abschirmens von elektromagnetischen Wellen zu verbessern, müssen Bildschirmvorderplatten in den Rahmenteilen ihrer Metallgitterschichten freigelegte Seiten bzw. Flächen zum Erden aufweisen.

Jedoch gab es bis dato keine Bildschirmvorderplatten, die allen Erfordernissen, die praktischen Niveaus von Abschirmeigenschaften für elektromagnetische Wellen, Abschirmeigenschaften für nahe Infrarotstrahlen, gezeigte Bildqualität, gezeigte Bildsichtbarkeit, mechanische Festigkeit und Leichtigkeit der Produktion sind, genügen.

Ein transparentes, elektrisch leitfähiges, elektromagnetisches Wellenabschirmblatt, das durch Ausbilden eines transparenten Indiumzinnoxid (ITO) Films auf einem transparenten Film hergestellt wurde, wurde als ein elektromagnetische Wellen abschirmendes Blatt vorgeschlagen, das sowohl Durchsichteigenschaften als auch elektromagnetische Wellenabschirmeigenschaften aufweist (siehe beispielsweise japanische Patentoffenlegungs-Publikationen Nr. 278800/1989 und Nr. 323101/1993). Jedoch ist ein derartiges elektromagnetische Wellen abschirmendes Blatt dahingehend nachteilig, daß es in der elektrischen Leitfähigkeit unzureichend ist und daß es in der Eigenschaft des Abschirmens von elektromagnetischen Wellen versagt bzw. fehlerhaft ist.

Um den obigen Nachteil zu überwinden, wurde kürzlich ein elektromagnetische Wellen abschirmendes Blatt vorgeschlagen, welches durch Laminieren eines Metallgitters, das durch Ätzen einer Metallfolie (Metallschicht) erhalten ist, auf einen transparenten Film produziert wird (siehe beispielsweise japanische Patentoffenlegungs-Publikationen Nr. 119675/1999 und Nr. 210988/2001). Ein derartiges Metallgitter hat die Fähigkeit, elektromagnetische Wellen stark genug abzuschirmen, um starke, elektromagnetische Wellen, die von PDPs emittiert sind, abzuschirmen, jedoch weist es keine Fähigkeit auf, um nahe Infrarotstrahlen abzuschirmen. Da weiterhin ein derartiges Metallgitter üblicherweise durch Laminieren einer Metallfolie und eines transparenten Substrats mit einer Schicht eines Klebers (Kleberschicht) und durch photolithographisches Ausbilden der Metallfolie in ein Gitter hergestellt wird, werden die Oberflächenunregelmäßigkeiten der Metallfolie auf die Fläche bzw. Oberfläche der Kleberschicht übertragen, die an den Öffnungen des Metallgitters freigelegt bzw. belichtet ist, um die Oberfläche aufzurauhen. Darüber hinaus tendieren feine Luftblasen dazu, in die Kleberschicht im Verlaufe des Laminierens der Metallfolie und des transparenten Substrats inkorporiert zu werden. Die Luftblasen, die auf eine derartige Weise inkorporiert sind, verschlechtern bzw. senken die Klebekraft der Kleberschicht ab und reflektieren Licht unregelmäßig, um den Kontrast eines Bilds, das auf einer Anzeige, wie einer PDP, angezeigt ist, von der Seite des transparenten Substrats her gesehen zu verschlechtern.

Um die oben beschriebene Rauhigkeit der Kleberschicht, die an den Öffnungen des Metallgitters freigelegt ist, zu verringern, schlägt das japanische Patent Nr. 3473310 ein derartiges Metallgitter vor, wie es in 6 gezeigt ist, das zusätzlich die Wirkung des Abschirmens von nahen Infrarotstrahlen besitzt. Wie dies in 6(A) gezeigt ist, ist eine Metallschicht 21 an ein transparentes Substrat 11 durch eine Schicht eines transparenten Klebers (Kleberschicht) 13 laminiert und lediglich Bereiche bzw. Teile der Metallschicht 21, welche den Öffnungen 105 entsprechen, sind photolithographisch entfernt; die verbleibende Metallschicht bildet eine Metallgitterschicht 21, bestehend aus einem Gitterteil 103, bestehend aus Linienteilen 107, und einem Rahmenteil 101 zum Erden, das das Gitterteil 103 umgibt. Nachfolgend, wie dies in 6(B) gezeigt ist, wird ein Harz, welches im Brechungsindex um 0,14 oder weniger von der Kleberschicht 13 unterschieden ist, auf das Gitterteil 103 der Metallgitterschicht 21 aufgebracht, um eine Harzschicht 30 zu bilden, um die Öffnungen 105 des Gitterteils 103 mit der Harzschicht 30 auszufüllen und um zur selben Zeit optisch die gerauhte Oberfläche R der Kleberschicht 13, die an den Öffnungen 105 freigelegt ist, zu eliminieren, wodurch ein Trüben und ein Absinken im Kontrast, das durch unregelmäßige Reflektion von Licht und einem Absinken im Kontrast bewirkt ist, zu verhindern. Danach, wie dies in 6(C) gezeigt ist, wird eine Beschichtung, enthaltend ein Absorptionsmittel im nahen Infrarot, auf die transparente Harzschicht 30 aufgebracht, um darauf einen Abschirmfilm 40 für nahe Infrarotstrahlen auszubilden. In diesem Verfahren ist es jedoch, da das Harz auf die Metallgitterschicht 21, die Oberflächenunregelmäßigkeiten aufweist, aufgebracht ist, wie dies in 6(B) gezeigt ist, nicht einfach, die Oberfläche des Harzfilms perfekt glatt zu machen. Folglich muß die transparente Harzschicht 30 auf ihrer Oberfläche Wicklungsmuster WP aufweisen, welche die Reflexion der Oberflächenunregelmäßigkeiten der Metallgitterschicht 21 darstellen. Weiterhin wird auch der nahe Infrarotstrahlen abschirmende Film 40, der durch Aufbringen der Beschichtung auf die Oberfläche der transparenten Harzschicht 30 gebildet ist, ebenfalls nicht gleichmäßig in der Dicke (hat eine Dickenverteilung). Es bestand daher ein Problem, daß die Absorptionsleistung im nahen Infrarot ebenfalls nicht gleichmäßig wurde.

Weiterhin waren in elektromagnetische Wellen abschirmenden Komponenten, welche als Bildschirmvorderplatten verwendet wurden, elektromagnetische Wellen abschirmende Klebefilme bekannt, welche zufriedenstellend mit externen Elektroden zum Erden verbunden werden können und welche exzellent in den elektromagnetische Wellen abschirmenden Eigenschaften, Infrarotstrahlen-Abschirmeigenschaften, Transparenz und Nicht-Erkennbarkeit sind, ebenso wie Komponenten, die derartige elektromagnetische Wellen abschirmende Klebefilme verwenden (siehe beispielsweise japanische Patentoffenlegungs-Publikationen Nr. 15533/2003, Nr. 66854/2003, und Nr. 324431/2002). Um jedoch die Bildschirmvorderplatten, die in der japanischen Patentoffenlegungs-Publikation Nr. 15533/2003 beschrieben sind, herzustellen, ist es notwendig, einen Anschlußbereich zum Erden durch Entfernen der oberen Schicht durch einen Laserstrahl oder dgl. auszubilden. Um die Bildschirmvorderplatte, die in der japanischen Patentoffenlegungs-Publikation Nr. 66854/2003 beschrieben ist, herzustellen, ist es notwendig, einen Anschlußbereich lediglich durch Entfernen von einer oberen Schicht an der Kante der Vorderplatte auszubilden. Um die Displayvorderplatte bzw. Bildschirmvorderplatte, wie sie in der japanischen Patentoffenlegungs-Publikation Nr. 324431/2002 beschrieben ist, herzustellen, ist es notwendig, eine Elektrode (Anschlußbereich) mittels einer Silberpaste oder einem leitfähigen Klebeband herzustellen. Die Bildschirmvorderplatten, die in diesen Patentpublikationen beschrieben sind, sind somit dahingehend nachteilig, daß für die Herstellung zusätzlich der Schritt des Ausbildens eines Anschlußbereichs erforderlich ist und daß dieser Schritt zusätzliche Einrichtungen und Materialien erfordert, welche zu einem Kostenanstieg führen.

ZUSAMMENFASSUNG DER ERFINDUNG

Die vorliegende Erfindung wurde getätigt, um die oben beschriebenen Probleme im Stand der Technik zu lösen. Ein Ziel bzw. Gegenstand der vorliegenden Erfindung ist es daher, eine Bildschirm- bzw. Display- bzw. Anzeigevorderplatte zur Verfügung zu stellen, umfassend ein transparentes Substrat und eine Metallgitterschicht, die an das transparente Substrat durch eine transparente Kleberschicht laminiert ist, die die Eigenschaft des Verhinderns von EMI und die Eigenschaft des Abschirmens von NIR aufweist, die gleichmäßig in der Fähigkeit NIR abzuschirmen ist, keinerlei unregelmäßige Reflexion von Licht durch die Kleberschicht, die an den Öffnungen der Metallgitterschicht freigelegt ist, bewirkt, eine derartige Transparenz aufweist, um nicht die Displaysichtbarkeit zu verschlechtern; und ein Verfahren zum Herstellen der Bildschirmvorderplatte zur Verfügung zu stellen.

Ein weiteres Ziel bzw. ein Gegenstand der vorliegenden Erfindung ist es, eine Bildschirmvorderplatte zur Verfügung zu stellen, die in dem Rahmenteil ihrer Metallgitterschicht eine freigelegte bzw. belichtete Oberfläche zum Erden aufweist und um ein Verfahren zum Herstellen einer derartigen Bildschirmvorderplatte zur Verfügung zu stellen.

Um die oben beschriebenen Ziele bzw. Aufgaben zu erfüllen, stellt die vorliegende Erfindung ein Verfahren zum Herstellen einer Bildschirm- bzw. Display- bzw. Anzeigevorderplatte zur Verfügung, umfassend ein transparentes Substrat, eine Metallgitterschicht, die an wenigstens eine Fläche des transparenten Substrats durch eine erste, transparente Kleberschicht laminiert ist und einen nahe Infrarotstrahlen abschirmenden Film, der an die Fläche der metallischen Gitterschicht durch eine zweite, transparente Kleberschicht laminiert ist, umfassend die Schritte: (1) Laminieren einer Metallschicht an wenigstens eine Fläche eines transparenten Substrats durch eine erste, transparente Kleberschicht, wodurch ein Laminat erhalten ist, (2) Bereitstellen einer gittergemusterten Resistschicht auf der Metallschichtseite des Laminats, Ätzen der Metallschicht, um Abschnitte bzw. Teile derselben, welche nicht mit der Resistschicht abgedeckt sind, zu entfernen, und Entfernen der Resistschicht, wodurch eine Metallgitterschicht ausgebildet wird, die ein Gitterteil mit einer Mehrzahl von Öffnungen und ein Rahmenteil rund um das Gitterteil aufweist und (3) Laminieren eines nahe Infrarotstrahlen abschirmenden Films an die Seite des Gitterteils der Metallgitterschicht durch eine zweite, transparente Kleberschicht und Füllen der Flächen- bzw. Oberflächenunregelmäßigkeiten der ersten Kleberschicht, die an den Öffnungen des Gitterteils freigelegt sind, mit der zweiten Kleberschicht, um die freigelegte bzw. belichtete, aufgerauhte Fläche der ersten Kleberschicht transparent zu machen.

In dem Verfahren zum Herstellen einer Bildschirm- bzw. Display- bzw. Anzeigevorderplatte gemäß der vorliegenden Erfindung ist es bevorzugt, daß sowohl das Laminieren der Metallschicht an das transparente Substrat als auch das Laminieren des nahe Infrarotstrahlen abschirmenden Films an die Metallschicht durch Trockenlaminieren ausgeführt werden, wobei kontinuierliche Filme durch ein Aufwickellade- und -entladesystem laminiert werden. Weiterhin ist es bei dem Laminieren des nahe Infrarotstrahlen abschirmenden Films auf die Metallschichtseite durch das Aufwickellade- und -entladesystem bevorzugt, daß wenigstens ein Kantenabschnitt des Rahmenteils der Metallschicht freigelegt wird, indem eine Breite des nahe Infrarotstrahlen abschirmenden Films kleiner als jene der Metallschicht in dem Laminatfilm gemacht wird, wobei die Breite sich auf eine Größe in einer Richtung senkrecht zu einer Richtung bezieht, in welcher der nahe Infrarotstrahlen abschirmende Film und der Laminatfilm, enthaltend die Metallschicht, laufen bzw. ablaufen werden.

Die vorliegende Erfindung stellt auch eine Bildschirm- bzw. Displayvorderplatte zur Verfügung, umfassend ein transparentes Substrat, eine Metallgitterschicht, die an wenigstens eine Fläche des transparenten Substrats mittels einer ersten, transparenten Kleberschicht laminiert ist, und einen nahe Infrarotstrahlen abschirmenden Film, der an eine Fläche der Metallgitterschicht durch eine zweite, transparente Kleberschicht laminiert ist, die Metallgitterschicht ein Gitterteil mit einer Mehrzahl von Öffnungen aufweist, die zweite Kleberschicht Oberflächen- bzw. Flächenunregelmäßigkeiten der ersten Kleberschicht ausfüllt, die an den Öffnungen des Gitterteils freigelegt sind, um die freigelegte aufgerauhte Fläche der ersten Kleberschicht transparent zu machen.

In der Bildschirmvorderplatte gemäß der vorliegenden Erfindung ist es bevorzugt, daß die Metallgitterschicht weiterhin ein Rahmenteil rund um das Gitterteil aufweist und daß wenigstens ein Kantenabschnitt des Rahmenteils freigelegt ist, ohne durch den nahe Infrarotstrahlen abschirmenden Film abgedeckt zu sein.

In dem Verfahren zur Herstellung einer Bildschirmvorderplatte gemäß der vorliegenden Erfindung kann eine hochgenaue Bildschirmvorderplatte, die die Eigenschaft des Verhinderns von EMI und die Eigenschaft des Abschirmens von NIR aufweist, die gleichmäßig in der Fähigkeit zum Abschirmen von NIR ist, die keinerlei unregelmäßige Reflexion von Licht durch die an den Öffnungen der Metallgitterschicht freigelegte Kleberschicht aufweist und die Transparenz aufweist, um nicht die Bildschirmsichtbarkeit zu verschlechtern, stabil und billig in einer kleinen Anzahl von Schritten durch die Verwendung von den bestehenden Anlagen bzw. Einrichtungen und Technologien hergestellt werden.

Weiterhin ist es gemäß dem Verfahren zum Herstellen einer Bildschirmvorderplatte der vorliegenden Erfindung bevorzugt, daß sowohl das Laminieren der Metallschicht auf das transparente Substrat als auch das Laminieren des nahe Infrarotstrahlen abschirmenden Films auf die Metallschicht durch Trockenlaminieren ausgeführt werden, wodurch kontinuierliche Filme durch das Aufwickellade- und -entladesystem laminiert werden. Wenn Trockenlaminieren angewandt wird, ist es möglich, mit hoher Produktivität und hoher Ausbeute eine Bildschirmvorderplatte durch die Verwendung der bestehenden Anlagen bzw. Einrichtungen und Techniken in einem kontinuierlichen Verfahren des Aufwickellade- und -entladesystems herzustellen.

Weiterhin ist es gemäß dem Verfahren zum Herstellen einer Bildschirmvorderplatte der vorliegenden Erfindung bevorzugt beim Laminieren des nahe Infrarotstrahlen abschirmenden Films auf die Seite der Metallschicht durch das Aufwickellade- und -entladesystem wenigstens einen Kantenabschnitt des Rahmenteils der Metallschicht freizulegen, indem eine Breite des nahe Infrarotstrahlen abschirmenden Films kleiner als jene der Metallschicht in dem Laminierfilm gemacht wird, wobei die Breite sich auf eine Größe in einer Richtung senkrecht zu einer Richtung bezieht, in welcher der nahe Infrarotstrahlen abschirmende Film und der Laminatfilm, enthaltend die Metallschicht, laufen bzw. ablaufen. Indem dies ausgeführt wird, ist es leicht möglich, in dem Rahmenteil der Metallschicht einen freigelegten Bereich auszubilden, der für das Erden verwendbar ist, ohne gesondert einen Schritt des Abschälens und Entfernens einer Beschichtung, eines Films oder dgl. von dem Rahmenteil der Metallschicht auszuführen. Darüber hinaus kann die Bildschirmvorderplatte leicht auf einem Bildschirm bzw. einem Display montiert werden.

Andererseits wird gemäß der vorliegenden Erfindung eine Bildschirmvorderplatte zur Verfügung gestellt, umfassend ein transparentes Substrat und eine Metallgitterschicht, die auf das transparente Substrat durch eine transparente Kleberschicht laminiert ist, die die Eigenschaft des Verhinderns von EMI und die Eigenschaft des Abschirmens von NIR aufweist, die gleichmäßig bzw. gleichbleibend in der Fähigkeit und Abschirmen von NIR ist, selbst wenn die erste Kleberschicht einige Oberflächen- bzw. Flächenunregelmäßigkeiten aufweist, die keine unregelmäßige Reflexion von Licht durch die Kleberschicht bewirkt, die an den Öffnungen der Metallgitterschicht freigelegt ist und die Transparenz aufweist, um nicht die Bildschirmsichtbarkeit zu verschlechtern.

Weiterhin ist es gemäß der Bildschirm- bzw. Displayvorderplatte der vorliegenden Erfindung bevorzugt, daß wenigstens ein Kantenabschnitt bzw. Kantenbereich des Rahmenteils der Metallgitterschicht für das Erden freigelegt ist. Indem dies so ausgeführt wird, wird es möglich, die Bildschirmvorderplatte zu erden, um die Fähigkeit der Bildschirmplatte, elektromagnetische Wellen abzuschirmen, weiter zu verbessern, und darüber hinaus kann die Bildschirmvorderplatte auf einem Bildschirm bzw. einem Display einfach festgelegt werden.

KURZE BESCHREIBUNG DER ZEICHNUNGEN

1 ist eine Draufsicht, die eine Bildschirmvorderplatte gemäß einer Ausbildung der vorliegenden Erfindung zeigt;

2 ist eine perspektivische Ansicht, die das Gitterteil der Metallgitterschicht in der Bildschirmvorderplatte, die in 1 gezeigt ist, zeigt;

3 ist eine Schnittansicht, die ein Hauptteil der Bildschirmvorderplatte gemäß der Ausbildung der vorliegenden Erfindung zeigt;

4 ist eine Schnittansicht, die eine modifizierte Metallschicht zur Verwendung in einer Bildschirmvorderplatte gemäß einer Ausbildung der vorliegenden Erfindung zeigt;

5 sind Schnittansichten eines Hauptteils der Bildschirmvorderplatte zum Erklären eines Verfahrens zur Herstellung einer Bildschirmvorderplatte gemäß einer Ausbildung der vorliegenden Erfindung; und

6 sind Schnittansichten eines Hauptteils einer Bildschirmvorderplatte zum Erklären eines konventionellen Verfahrens zur Herstellung einer Bildschirmvorderplatte.

BESTE ART DER AUSFÜHRUNG DER ERFINDUNG

Ausbildungen der vorliegenden Erfindung werden nachfolgend unter Bezugnahme auf die beiliegenden Zeichnungen beschrieben werden.

Ein Verfahren zur Herstellung einer Bildschirmvorderplatte gemäß einer Ausbildung der vorliegenden Erfindung wird zuerst unter Bezugnahme auf 5 erklärt.

Wie in 5 gezeigt, umfaßt ein Verfahren zur Herstellung einer Bildschirmvorderplatte gemäß dieser Ausbildung die Schritte (1) Laminieren einer Metallschicht 21 an wenigstens eine Fläche bzw. Oberfläche eines transparenten Substrats 11 durch eine Schicht aus einem transparenten Kleber (erste Kleberschicht) 13, wodurch ein Laminat erhalten wird (5(A)), (2) Bereitstellen einer gittergemusterten Resistschicht auf einer Fläche der Metallschicht 21 des Laminats, Ätzen der Metallschicht 21, um Abschnitte bzw. Bereiche derselben zu entfernen, die nicht mit der Resistschicht abgedeckt sind, und Entfernen der Resistschicht, wodurch eine Metallgitterschicht 21 gebildet wird, die ein Gitterteil 103 aufweist, bestehend aus einer Mehrzahl von Linienteilen 107 und einer Mehrzahl von Öffnungen 105, und ein Rahmenteil 101 rund um das Gitterteil 103 (siehe 1, eine Draufsicht) (5(B)), und (3) Laminieren eines vorgeformten, nahe Infrarotstrahlen abschirmenden Films 41 auf Flächen des Gitterteils 103 und des Rahmenteils 101 der Metallgitterschicht 21 durch eine Schicht aus einem transparenten Kleber (zweite Kleberschicht) 33, und Füllen bzw. Verfüllen von Oberflächen- bzw. Flächenunregelmäßigkeiten R der ersten Kleberschicht 13, die an den Öffnungen 105 des Gitterteils 103 freigelegt sind, mit der zweiten Kleberschicht 33, um optisch die freigelegte bzw. belichtete, aufgerauhte Oberfläche R der ersten Kleberschicht 13 zu eliminieren, wodurch die aufgerauhte Oberfläche R transparent gemacht wird (5(C)).

In dem Verfahren zur Herstellung einer Bildschirmvorderplatte gemäß dieser Ausbildung ist es bevorzugt, daß sowohl das Laminieren der Metallschicht 21 an das transparente Substrat 11 als auch das Laminieren des nahe Infrarotstrahlen abschirmenden Films 41 an die Metallschicht 21 durch Trockenlaminieren ausgeführt werden, wobei kontinuierliche Filme durch ein Aufwickellade- und -entladesystem laminiert werden. Weiterhin ist es in diesem Verfahren bevorzugt, daß wenigstens ein Kantenabschnitt des Rahmenteils 101 der Metallschicht 21 freigelegt bzw. belichtet wird, indem eine Breite des nahe Infrarotstrahlen abschirmenden Films 41 kleiner als jene der Metallschicht 21 in dem Laminatfilm gemacht wird, wobei die Breite sich auf eine Größe in einer Richtung senkrecht zu einer Richtung bezieht, in welcher der nahe Infrarotstrahlen abschirmende Film 41 und der Laminatfilm, enthaltend das transparente Substrat 11 und die Metallschicht 21, laufen bzw. geführt werden (siehe 3).

Die Bildschirmvorderplatte 1, die durch das oben beschriebene Herstellungsverfahren hergestellt wird, umfaßt, wie dies in 1 bis 3 gezeigt ist, das transparente Substrat 11, die Metallgitterschicht 21, die auf wenigstens eine Fläche des transparenten Substrats 11 durch die erste, transparente Kleberschicht 13 laminiert ist, und den nahe Infrarotstrahlen abschirmenden Film 41, der an die Flächen des Metallgitterteils 103 und des Rahmenteils 101 der Metallgitterschicht 21 durch die zweite, transparente Kleberschicht 33 laminiert ist.

Wie dies in 1 bis 3 gezeigt ist, weist die Metallgitterschicht 21 das Gitterteil 103, bestehend aus einer Mehrzahl von Linienteilen 107 und einer Mehrzahl von Öffnungen 105, und das Rahmenteil 101 rund um das Gitterteil 103 auf; und die zweite Kleberschicht 33 füllt die Flächenunregelmäßigkeiten der ersten Kleberschicht 13, die an den Öffnungen 105 des Gitterteils 103 freigelegt sind, auf, um die freigelegte, aufgerauhte Fläche bzw. Oberfläche R der ersten Kleberschicht 13 transparent zu machen. Weiterhin, wie dies in 3 gezeigt ist, wird wenigstens ein Kantenabschnitt des Rahmenteils 101 der Metallschicht 21 freigelegt, ohne daß sie mit dem nahe Infrarotstrahlen abschirmenden Film 41 abgedeckt ist. In 2 sind die zweite Kleberschicht 33 und der nahe Infrarotstrahlen abschirmende Film 41, für die Einfachheit des Verständnisses der Konstruktion des Gitterteils 103 der Metallschicht 21 weggelassen.

Die Details des Verfahrens zur Herstellung einer Bildschirmvorderplatte gemäß dieser Ausbildung werden beschrieben, indem nachfolgend die oben beschriebenen Schritte in dem Herstellungsverfahren gemeinsam mit Materialien, die in den entsprechenden Schritten zu verwenden sind, aufeinanderfolgend erklärt werden.

[Erster Schritt]

Der erste Schritt, der in 5(A) gezeigt ist, ist der Schritt des Laminierens einer Metallschicht 21 an ein transparentes Substrat 11 durch eine Schicht aus einem transparenten Kleber (erste Kleberschicht) 13, wodurch ein Laminat erhalten wird.

(Transparentes Substrat)

Eine Vielzahl von Materialien, die Transparenz, isolierende Eigenschaften, Wärmebeständigkeit, mechanische Festigkeit und dgl. aufweisen, die gut genug sind, um den Betriebsbedingungen und den Herstellungsbedingungen zu widerstehen, können als das transparente Substrat 11 verwendet werden. Beispiele dieser Materialien, die hier verwendbar sind, umfassen Glas und transparente Harze.

Die Materialien, die für das transparente Substrat 11 verwendbar sind, beinhalten Glas, Silikatglas, Borsilikatglas und Kalknatronglas, und es ist bevorzugt, nichtalkalisches Glas zu verwenden, welches keine Alkalikomponenten beinhaltet bzw. enthält und welches eine niedrige thermische Expansionsrate bzw. -geschwindigkeit aufweist und exzellent in der Dimensionsstabilität und auch in den Bearbeitungseigenschaften in der Hochtemperaturwärmebehandlung ist. Wenn ein derartiges Nicht-Alkaliglas verwendet wird, kann das transparente Substrat ausgebildet werden, um als ein Substrat für eine Elektrode zu dienen.

Andererseits beinhalten transparente Harze, die für das transparente Substrat 11 verwendbar sind, Polyesterharze, wie Polyethylenterephthalat, Polybutylenterephthalat, Polyethylennaphthalat, Terephthalsäure-Isophthalsäure-Ethylenglycol-Copolymere und Terephthalsäure-Cyclohexandimethanol-Ethylenglykol-Copolymere; Polyamidharze, wie Nylon 6; Polyolefinharze, wie Polypropylen und Polymethylpenten; Acrylharze, wie Polymethylmethacrylat; Styrolharze, wie Polystyrol- und Styrol-Acrylnitril-Copolymere; Zelluloseharze, wie Triacetylzellulose; Imidharze; und Polycarbonate. Ein Blatt, Film, eine Platte oder dgl. aus irgendeinem dieser Harze kann als das transparente Substrat verwendet werden.

Ein aus einem transparenten Harz gefertigtes, transparentes Substrat 11 kann aus einem Copolymerharz oder einer Mischung (beinhaltend eine Legierung), enthaltend als eine Hauptkomponente irgendeines der oben aufgezählten Harze, gefertigt sein und kann auch ein Laminat aus zwei oder mehreren Schichten sein. Ein derartiges transparentes Substrat 11 kann entweder ein gerichteter bzw. orientierter oder nicht-orientierter bzw. nicht-gerichteter Film sein; um jedoch eine erhöhte Festigkeit zu erhalten, ist es bevorzugt, einen mono- oder biaxialen, gerichteten Film zu verwenden.

Allgemein ist es bevorzugt, daß das transparente Substrat 11, das aus einem transparenten Harz gefertigt ist, eine Dicke von etwa 12 bis 1000 &mgr;m, bevorzugter 50 bis 700 &mgr;m, optimal 100 bis 500 &mgr;m, aufweist. Andererseits sind etwa 1000 bis 5000 &mgr;m allgemein für die Dicke des transparenten Substrats, das aus Glas gefertigt ist, geeignet. In jedem Fall kann ein transparentes Substrat mit einer Dicke kleiner als dem obigen Bereich nicht eine ausreichend hohe, mechanische Festigkeit aufweisen, so daß es sich verwindet, wellig wird oder bricht; während ein transparentes Substrat mit einer Dicke größer als dem obigen Bereich eine exzessiv hohe Festigkeit aufweist, welche aus dem Gesichtspunkt der Kosten verschwenderisch ist.

Im allgemeinen wird geeigneterweise ein Film aus einem Polyesterharz, wie einem Polyethylenterephthalat oder Polyethylennaphthalat, ein Zelluloseharzfilm oder eine Glasplatte als das transparente Substrat 11 verwendet, da es (sie) exzellent sowohl in der Transparenz als auch der Wärmebeständigkeit und auch billig ist. Von diesen Materialien ist ein Polyethylenterephthalatfilm am meisten bevorzugt, da er schwer zu brechen ist, leicht im Gewicht und leicht zu formen ist. Ein transparentes Substrat, das eine höhere Transparenz aufweist, ist verwendbarer und die bevorzugte Transparenz des transparenten Substrats, ausgedrückt als eine Durchlässigkeit für sichtbares Licht, ist bzw. beträgt 80 % oder mehr.

Vor der Anwendung eines Klebers kann das transparente Substrat 11 (z.B. ein transparenter Substratfilm), das mit dem Kleber zu beschichten ist, einer haftfördernden Behandlung, wie einer Coronaentladebehandlung, Plasmabehandlung, Ozonbehandlung, Flämmbehandlung, Primerbeschichtungsbehandlung (auch als Verankerung, adhäsionsfördernde oder adhäsionsverbesserndes Agens), Vorheizbehandlung, Staubentfernungsbehandlung, Vakuumabscheidung oder Alkalibehandlung, unterworfen werden. Additive, wie ultraviolettes Licht, Absorbentien, Füllstoffe, Weichmacher und antistatische Agentien, können gegebenenfalls in transparente Harzfilme, die für das transparente Substrat 11 oder dgl. verwendbar sind, inkorporiert sein bzw. werden.

(Metallschicht)

Metalle, welche eine elektrische Leitfähigkeit aufweisen, die gut genug ist, um zufriedenstellend elektromagnetische Wellen abzuschirmen, wie Gold, Silber, Kupfer, Eisen, Nickel und Chrom, können als ein Material für die Metallschicht 21 verwendet werden. Die Metallschicht 21 kann eine Schicht aus nicht nur einem einzigen Metall sein, sondern auch eine Legierung, und kann auch aus entweder einer Einzelschicht oder mehreren Schichten zusammengesetzt sein. Spezifisch sind hier niedriggekohlte Stähle, wie niedriggekohlte, unberuhigte Stähle, niedriggekohlte, aluminiumfreie Stähle, Ni-Fe-Legierungen und Invarlegierungen, als Eisenmaterialien bevorzugt. Wenn kathodische Elektroabscheidung als eine Schwärzungsbehandlung ausgeführt wird, ist es bevorzugt, eine Kupferfolie oder eine Kupferlegierungsfolie als eine Metallschicht zu verwenden, da sie leicht als eine Schwärzungsschicht auf einem derartigen Material elektroabzuscheiden ist.

Obwohl es möglich ist, sowohl eine gewalzte Kupferfolie als auch eine elektrolytische Kupferfolie als die Kupferfolie zu verwenden, ist eine elektrolytische Kupferfolie bevorzugt, da sie gleichmäßig in der Dicke ist und von exzellenter Anhaftung an eine Schicht, die durch eine Schwärzungsbehandlung und/oder eine Chromatbehandlung gebildet ist, und da sie eine Dicke von weniger als 10 &mgr;m aufweisen kann.

Die Dicke der Metallschicht 21 ist etwa von 1 bis 100 &mgr;m und vorzugsweise von 5 bis 20 &mgr;m. Wenn die Metallschicht 21 eine Dicke kleiner als der obige Bereich aufweist, weist sie, obwohl sie einfach photolithographisch in ein Gitter bearbeitet werden kann, einen erhöhten, elektrischen Widerstandswert auf und hat somit eine verschlechterte, elektromagnetische Wellenabschirmwirkung. Wenn andererseits die Metallschicht 21 eine Dicke von mehr als dem obigen Bereich aufweist, kann sie nicht in das gewünschte, feine Gitter bearbeitet werden. Folglich hat das Gitter eine abgesenkte, wesentliche Öffnungsrate und eine abgesenkte Lichtdurchlässigkeit, was zu einem Absinken in dem Sichtwinkel und zu einer Verschlechterung der Bildsichtbarkeit führt.

Für die Metallschicht 21 wird eine Metallschicht, die eine Oberfläche bzw. Fläche mit einer derartigen Oberflächenrauhigkeit aufweist, daß ein mittlerer Oberflächenrauhigkeitswert von 10 Messungen, Rz, erhalten in Übereinstimmung mit JIS-B0601 (1994 Version), von 0,5 bis 10 &mgr;m beträgt, bis dato vorzugsweise bzw. günstigerweise verwendet. Dies deshalb, da, wenn die Metallschicht 21 eine Oberflächenrauhigkeit von mehr als der obigen aufweist, sich ein Kleber oder ein Resist nach seiner Aufbringung nicht über die gesamte Oberfläche ausbreitet oder das Inkorporieren von Luft bewirkt bzw. verursacht, um Luftblasen zu enthalten. Jedoch kann gemäß der vorliegenden Erfindung eine Metallschicht mit einer beliebigen Oberflächenrauhigkeit als die Metallschicht 21 verwendet werden. Selbstverständlich ist es effektiver, eine Metallschicht 21 mit einer derartigen Oberflächenrauhigkeit zu verwenden, daß der Rz Wert von 0,5 bis 10 &mgr;m beträgt.

(Schwärzungsschicht)

In dieser Ausbildung kann die oben beschriebene Metallschicht, die auf wenigstens einer Fläche derselben eine Schwärzungsschicht und/oder eine antikorrosive Schicht oder andere fakultative Schichten aufweist, als die Metallschicht 21 verwendet werden. Spezifisch kann eine Metallschicht 21 verwendet werden, die auf jeder Seite eine Schwärzungsschicht und eine antikorrosive Schicht (ein Laminat aus einer antikorrosiven Schicht 23A/einer Schwärzungsschicht 25A/einer Metallschicht 21/einer Schwärzungsschicht 25B/einer antikorrosiven Schicht 23B) aufweist, wie dies in 4 gezeigt ist.

Von diesen Schichten sind die Schwärzungsschichten 25A, 25B Schichten, die durch Unterwerfen der Flächen der Metallschicht 21 einer Aufrauhungsbehandlung und/oder Schwärzungsbehandlung erhalten werden. Für die Schwärzungsbehandlung kann jedes Verfahren, worin ein Metall, eine Legierung, ein Metalloxid oder Metallsulfid durch eine Vielzahl von Techniken abgeschieden wird, angewandt werden. Bevorzugte Verfahren, die für das Ausführen der Schwärzungsbehandlung geeignet sind, beinhalten Plattieren. Plattieren macht es möglich, einfach bzw. leicht eine Schwärzungsschicht auf der Metallschicht 21 auszubilden und die Oberfläche der Metallschicht 21 gleichmäßig zu schwärzen. Wenigstens ein Metall, gewählt aus Kupfer, Kobalt, Zink, Nickel, Molybdän, Zinn und Chrom, oder eine Verbindung derselben kann als ein Material für das Plattieren verwendet werden. Wenn die anderen Metalle oder Verbindungen verwendet werden, kann die Metallschicht 21 nicht vollständig geschwärzt werden oder die Anhaftung der Schwärzungsschicht an der Metallschicht 21 ist unzureichend. Diese Probleme treten signifikant in einem Fall auf, wo beispielsweise Cadmium für das Plattieren verwendet wird.

Ein Plattierverfahren, das günstigerweise angewandt wird, wenn eine Kupferfolie als die Metallschicht 21 verwendet wird, ist kathodisches Elektroabscheidungsplattieren, in welchen die Kupferfolie einer kathodischen Elektrolyse in einem Elektrolyten, wie Schwefelsäure, Kupfersulfat oder Kobaltsulfat, unterworfen wird, wodurch kationische Teilchen auf der Kupferfolie abgeschieden werden. Die kationischen Teilchen, die auf der Oberfläche der Metallschicht 21 in der oben beschriebenen Weise abgeschieden sind, rauhen diese Oberfläche stärker auf und zur selben Zeit machen sie die Metallschicht schwarz in der Farbe. Obwohl Kupferteilchen ebenso wie Teilchen von Kupferlegierungen oder anderen Metallen als kationische Teilchen verwendet werden können, ist es hier bevorzugt, Kupfer-Kobalt-Legierungsteilchen zu verwenden. Der mittlere Teilchendurchmesser der Kupfer-Kobalt-Legierungsteilchen ist vorzugsweise von 0,1 bis 1 &mgr;m. Die kathodische Elektroabscheidung, die oben beschrieben ist, ist für das Abscheiden von gleichmäßig dimensionierten Teilchen mit einem mittleren Teilchendurchmesser von 0,1 bis 1 &mgr;m geeignet. Weiterhin wird die Oberfläche der Kupferfolie, wenn sie mit einer hohen Stromdichte behandelt wird, kathodisch und generiert reduzierenden Wasserstoff, der aktiviert wird, so daß eine signifikant verbesserte Anhaftung zwischen der Kupferfolie und den Teilchen erzielt werden kann.

Wenn der mittlere Teilchendurchmesser der Kupfer-Kobalt-Legierungsteilchen außerhalb des oben beschriebenen Bereichs gemacht wird bzw. liegt, tritt das folgende Problem auf. Wenn der mittlere Teilchendurchmesser der Kupfer-Kobalt-Legierungsteilchen größer als der obige Bereich gemacht wird, wird die Metallschicht nicht zufriedenstellend geschwärzt und darüber hinaus tritt ein Abfallen bzw. Herunterfallen der abgeschiedenen Teilchen (ebenfalls als Abfallen der Pulverbeschichtung) leicht auf. Zusätzlich wird das externe Aussehen der agglomerierten Teilchen schlecht in der Dichte und das Aussehen und die Lichtabsorption werden merkbar nicht gleichmäßig. Andererseits sind Kupfer-Kobalt-Legierungsteilchen mit einem mittleren Teilchendurchmesser kleiner als der oben beschriebene Bereich ebenfalls unzureichend in ihrer Fähigkeit, die Metallschicht zu schwärzen, und können nicht vollständig die Reflexion von Fremdlicht zum Absenken der Bildsichtbarkeit vermeiden.

(Antikorrosive Schichten)

Die antikorrosiven Schichten 23A, 23B haben die Funktion, die Oberflächen bzw. Flächen der Metallschicht 21 und die Schwärzungsschichten 25A, 25B vor Korrosion zu schützen. Zusätzlich, wenn Teilchen verwendet werden, um Schwärzungsschichten 25A, 25B auszubilden (Schwärzungsbehandlung) verhindern die antikorrosiven Schichten 23A, 23B das Abfallen bzw. Herunterfallen oder die Deformation der Teilchen und darüber hinaus machen sie die Schwärzungsschichten 25A, 25B schwärzer. In einem Zeitraum, bevor die Metallschicht 21 an das transparente Substrat 11 laminiert ist, ist es notwendig, die Teilchen der Schwärzungsschichten 25A, 25B vor dem Herunterfallen und vor Verschlechterung zu schützen, so daß die antikorrosiven Schichten 23A, 23B vor dem Laminieren der Metallschicht 21 an das transparente Substrat 11 ausgebildet werden müssen.

Konventionelle antikorrosive Schichten können als die antikorrosiven Schichten 23A, 23B verwendet werden und Metalle, wie Chrom, Zink, Nickel, Zinn und Kupfer, Legierungen davon, Oxide dieser Metalle, sind als ein Material für die antikorrosiven Schichten 23A, 23B verwendbar. Vorzugsweise werden Chromverbindungsschichten, die durch Ausführen eines Plattierens mit Zink, gefolgt durch eine Chromatbehandlung, erhalten werden, als die antikorrosiven Schichten 23A, 23B verwendet. Um einen Widerstand gegenüber Säuren zu erhöhen, welcher erforderlich ist, wenn ein Ätzen und ein Waschen mit einer Säure ausgeführt werden, ist es bevorzugt, eine Siliziumverbindung in die antikorrosiven Schichten 23A, 23B zu inkorporieren, und eine derartige Siliziumverbindung beinhaltet ein Silan-Kopplungsagens. Die antikorrosiven Schichten 23A, 23B, die aus den oben beschriebenen Materialien gefertigt sind, sind auch exzellent in der Anhaftung an den Schwärzungsschichten 25A, 25B (insbesondere eine Kupfer-Kobalt-Legierungspartikelschicht) und an der ersten Kleberschicht 13 (insbesondere einem härtbaren Zwei-Komponenten-Urethanharzkleber).

Ein konventionelles Plattierverfahren kann verwendet werden, um eine Schicht aus irgendeinem der obigen Metalle, wie Chrom, Zink, Nickel, Zinn und Kupfer, Legierungen davon und Oxide dieser Metalle, auszubilden. Um eine Chromverbindungsschicht auszubilden, kann beispielsweise ein konventionelles Plattieren oder eine Chromatbehandlung (Chromsäuresalz) ausgeführt werden. Eine Seite des geschwärzten Substrats kann der Chromatbehandlung unterworfen werden, welche durch Beschichten oder Flußbeschichten durchgeführt wird, oder beide Seiten des geschwärzten Substrats können gleichzeitig einer Chromatbehandlung unterworfen werden, welche durch Tauchen ausgeführt wird.

Die Dicke der antikorrosiven Schichten 23A, 23B ist etwa 0,001 bis 10 &mgr;m, vorzugsweise 0,01 bis 1 &mgr;m.

(Chromatbehandlung)

Chromatbehandlung ist jene, daß eine Chromatbehandlungsflüssigkeit auf ein zu behandelndes Material aufgebracht wird. Um eine Chromatbehandlungsflüssigkeit aufzubringen, können Walzenbeschichten, Streichen, Gummiwalzenbeschichten, elektrostatisches Sprühen, Tauchbeschichten oder dgl., angewandt werden und die aufgebrachte Chromatbehandlungsflüssigkeit wird ohne, daß sie mit Wasser gewaschen wird, getrocknet. Eine wäßrige Lösung, enthaltend Chromsäure, wird üblicherweise als die Chromatbehandlungsflüssigkeit verwendet. Spezifische Beispiele von Chromatbehandlungsflüssigkeiten, die hier verwendbar sind, beinhalten Alsurf 1000 (Handelsname einer Chromatbehandlungsflüssigkeit, hergestellt von Nippon Paint Co., Ltd., Japan) und PM-284 (Handelsname einer Chromatbehandlungsflüssigkeit, hergestellt von Nippon Parkerizing Co., Ltd. Japan).

Es ist bevorzugt ein Zinkplattieren vor der oben beschriebenen Chromatbehandlung durchzuführen. Wenn ein Zinkplattieren so ausgeführt wird, kann die Schwärzungsschicht/antikorrosive Schicht (zwei Schichten aus Zinkschicht/Chromatbehandlungsschicht) erhalten werden, und diese Struktur kann eine weitere Verstärkung der interlaminaren Verbindung bzw. des interlaminaren Bondens, der Antikorrosion und des Schwärzungseffekts mit sich bringen.

(Verfahren des Laminierens)

Das transparente Substrat 11 und die Metallschicht 21 werden mit einer Schicht eines transparenten Klebers (erste Kleberschicht) 13 laminiert und der Querschnittsabschnitt dieses Laminats ist in 5(A) gezeigt. Dieses Verfahren des Laminierens ist wie folgt: ein Kleberharz wird in ein Latex, eine wäßrige Dispersion oder eine organische Lösungsmittellösung eingebracht, welche dann auf die Oberfläche des transparenten Substrats 11 und/oder die Metallschicht 21 durch ein konventionelles Druck- oder Beschichtungsverfahren, wie Siebdrucken, Tiefdrucken, Kommadrucken oder Walzbeschichten, gedruckt oder aufgebracht wird und wird, falls dies notwendig ist, getrocknet; auf diese Kleberschicht wird das andere Glied überlagert und Druck wird ausgeübt. Die Dicke von einer derartigen ersten Kleberschicht 13 (wenn sie getrocknet ist) ist etwa 0,1 bis 20 &mgr;m, vorzugsweise 1 bis 10 &mgr;m. Es ist bevorzugt, daß die erste Kleberschicht 13 transparent ist und daß der Unterschied im Brechungsindex zwischen der ersten Kleberschicht 13 und der zweiten Kleberschicht 33 so klein wie möglich ist. Spezifisch ist es bevorzugt, daß der Unterschied im Brechungsindex zwischen der ersten Kleberschicht 13 und der zweiten Kleberschicht 33 0,14 oder weniger beträgt.

Spezifisch wird nach dem Aufbringen eines Klebers auf die Oberfläche der Metallschicht 21 und/oder des transparenten Substrats 11 und dem Trocknen des aufgebrachten Klebers das andere Glied auf die Kleberschicht überlagert und Druck wird dann ausgeübt. Vorzugsweise werden die zwei Schichten durch ein Verfahren, das durch die Fachleute als Trockenlaminieren bezeichnet wird, laminiert.

(Trockenlaminieren)

Trockenlaminieren ist ein Verfahren des Laminierens von zwei Gliedern in der folgenden Weise: durch ein Beschichtungsverfahren, wie eine Walze, Umkehrwalze oder ein Tiefdrucken, wird ein Kleber, der in einem Lösungsmittel dispergiert oder gelöst ist, auf eines der zwei Glieder aufgebracht, um einen Film so auszubilden, daß der Film, nachdem er getrocknet ist eine Dicke von etwa 0,1 bis 20 &mgr;m aufweist, vorzugsweise 1 bis 10 &mgr;m, und das Lösungsmittel wird verdampft, wodurch eine Kleberschicht ausgebildet wird; unmittelbar nach dem Ausbilden der Kleberschicht wird das andere Laminierglied auf die Kleberschicht überlagert; und dieses Laminat wird bei 30 bis 80 °C für mehrere Stunden bis mehrere Tage gealtert, falls dies notwendig ist, um den Kleber auszuhärten. Das Material für die Kleberschicht, die in diesem Trockenlaminieren verwendbar ist, beinhaltet thermohärtende Kleber und Kleber, welche in ionisierender Strahlung, wie ultraviolettem Licht (UV) oder Elektronenstrahlen (EB), härten.

Spezifische Beispiele von thermohärtenden Klebern, die hier verwendbar sind, beinhalten härtbare Zwei-Komponeten-Urethankleber, die durch die Reaktion von polyfunktionellen Isocyanaten, wie Tolyol, Diisocyanat oder Hexamethylendiisocyanat mit Hydroxygruppen enthaltenden Verbindungen, wie Polyetherpolyolen oder Polyacrylatpolyolen, erhalten werden; acrylische Kleber; und Gummikleber. Von diesen sind die härtbaren Zwei-Komponenten-Urethankleber bevorzugt. In einem Fall, wo ein thermohärtender bzw. wärmehärtender Kleber verwendet wird, wird nach dem Laminieren der zwei Glieder die Verbindung der zwei Glieder durch Härten des Klebers in einer Umgebung von Raumtemperatur oder einer angehobenen bzw. höheren Temperatur vervollständigt.

Andererseits in einem Fall, wo ein durch ionisierende Strahlung härtendes Harz, welches in ionisierender Strahlung, wie ultraviolettem Licht (UV) oder Elektronenstrahlen (EB), härtet (reagiert), als der Kleber verwendet wird, wird nach dem Laminieren der zwei Glieder mit einer Schicht aus einem derartigen Kleber das Verbinden der Glieder durch Härten des Klebers durch Anwenden bzw. Aufbringen einer ionisierende Strahlung darauf vervollständigt.

[Zweiter Schritt]

Der zweite Schritt, der in 5(B) gezeigt ist, ist der Schritt des photolithographischen Ausbildens der Metallschicht 21, die auf das transparente Substrat 11 laminiert ist, in ein Siebmuster.

(Photolithographie)

Eine Metallgitterschicht 21, welche als eine elektromagnetische Wellen abschirmende Schicht dient, ist ausgebildet durch: photolithographisches Ausbilden einer gittergemusterten Resistschicht auf der Oberfläche der Metallschicht 21 des Laminats, Ätzen der Metallschicht 21, um Abschnitte bzw. Teile derselben, welche nicht mit der Resistschicht abgedeckt sind, zu entfernen und Abstreifen der Resistschicht.

Die metallische Gitterschicht 21, die in der oben beschriebenen Weise hergestellt ist, hat ein Gitterteil 103 und ein Rahmenteil 101 um das Gitterteil 103, wie dies in 1 in einer Draufsicht gezeigt ist. Weiterhin, wie dies in 2 einer perspektivischen Ansicht und in 3 einer Schnittansicht gezeigt ist, besteht das Gitterteil 103 aus einer Mehrzahl bzw. Vielzahl von Linienteilen 107 (die verbleibenden Teile der Metallschicht) und einer Mehrzahl bzw. Vielzahl von Öffnungen 105, die durch die Linienteile 107 definiert sind. Das Rahmenteil 101 besteht vollständig aus der verbleibenden Metallschicht, die keine Öffnungen aufweist. Das Rahmenteil 101 ist fakultativ und kann so zur Verfügung gestellt sein, daß es das Gitterteil 103 umgibt oder sich wenigstens über einen Teil des Bereichs, der das Gitterteil 103 umgibt, erstreckt.

Auch in diesem zweiten Schritt wird ein bandförmiges Laminat in dem Zustand einer kontinuierlich aufgewickelten Rolle bearbeitet. Während nämlich ein derartiges Laminat entweder kontinuierlich oder intermittierend in einem gestreckten bzw. gedehnten und nicht gelockerten Zustand zugeführt wird, werden das Maskieren, Ätzen und das Resistabstreifen ausgeführt.

(Maskieren)

Ein Maskieren wird beispielsweise auf die folgende Weise ausgeführt: zuerst wird ein photoempfindlicher Resist auf die Metallschicht 21 aufgebracht und getrocknet; diese Resistschicht wird einem Kontaktbelichten unter Verwendung einer Originalplatte mit einem vorbestimmten Muster (einem Muster entsprechend den Linienteilen 107 des Gitterteils 103 und dem Rahmenteil 101) unterworfen; danach werden Entwicklung mit Wasser, Filmhärtungsbehandlung und ein Trocknen bzw. Ofentrocknen ausgeführt. Der Resist wird in der folgenden Weise aufgebracht: Während kontinuierlich oder intermittierend das bandartige Laminat in dem Zustand einer kontinuierlich aufgewickelten Rolle abgewickelt und zugeführt wird, wird ein Resist, der aus Kasein, PVA oder Gelatine gebildet ist, auf die Metallschicht 21 des Laminats durch ein derartiges Verfahren wie Tauchen (Immersion), Streichen oder Flußbeschichten aufgebracht. Alternativ kann ein trockener Filmresist als der Resist verwendet werden; die Verwendung eines trockenen Filmresists kann die Arbeitseffizienz verbessern. Wenn Kasein für den Resist verwendet wird, wird das oben beschriebene Trocknen üblicherweise in einer erwärmten Umgebung ausgeführt und in diesem Fall ist es wünschenswert, das Trocknen bei einer so niedrigen Temperatur wie möglich auszuführen, um das Laminat am Aufrollen bzw. Zurückziehen zu hindern.

(Ätzen)

Das Ätzen des Laminats wird nach dem Maskieren des Laminats in der oben beschriebenen Weise ausgeführt. Da das Laminat in dieser Ausbildung kontinuierlich geätzt wird, ist es bevorzugt, als ein Ätzmittel eine Eisen- oder Kupferchloridlösung zu verwenden, welche leicht zirkuliert werden kann.

Das Ätzen des Laminats kann durch die Verwendung einer Einrichtung und von Verfahren, welche grundsätzlich dieselben, wie jene für die Verwendung in der Herstellung von Lochmasken für Kathodenstrahlröhren oder Farb-TVs sind, durchgeführt werden, in welchen bandförmige, kontinuierliche Stahlgrundlagen bzw. -basisplatten (insbesondere eine dünne Platte mit einer Dicke von 20–80 &mgr;m) geätzt werden. Es ist somit für das Ätzen des Laminats möglich, die bestehenden Einrichtungen für die Herstellung von Lochmasken zu verwenden und kontinuierlich eine Serie von Schritten von einem Maskieren bis zu einem Ätzen auszuführen, so daß die Produktionseffizienz extrem hoch ist.

Das in der oben beschriebenen Weise geätzte Laminat wird einem Waschen mit Wasser, Abstreifen des Resists mit einer alkalischen Lösung und einem Reinigen unterworfen und wird dann getrocknet.

(Gitterteil)

Das Gitterteil 103 der Metallgitterschicht 21 ist ein Bereich, der durch das Rahmenteil 101 umgeben ist. Das Gitterteil 103 hat Linienteile 107, welche eine Mehrzahl von Öffnungen 105 definieren. Es gibt keine Beschränkungen betreffend die Form der Öffnungen 105 (Gittermuster) und Beispiele der Form der Öffnungen 105, die hier verwendbar sind, umfassen Dreiecke, wie gleichseitige Dreiecke, Quadrate, wie regelmäßige Quadrate, Rechtecke, Rhomben und Trapezoide, Polygone, wie ein Hexagon, Kreise und Ovale. Das Gitterteil 103 kann Öffnungen aufweisen, welche eine Kombination von Öffnungen mit zwei oder mehreren unterschiedlichen Formen sind.

Aus dem Gesichtspunkt der Öffnungsrate des Gitterteils 103 und aus der Nicht-Erkennbarkeit dieses Teils ist es bevorzugt, daß die Linienbreite W der Linienteile 107 des Gitterteils 103 (siehe 2) 50 &mgr;m oder weniger, vorzugsweise 20 &mgr;m oder weniger, beträgt. Aus dem Gesichtspunkt der Lichtdurchlässigkeit ist es bevorzugt, daß der Abstand zwischen den Linien (Linienzwischenraum) P in den Linienteilen 107 (siehe 2) 125 &mgr;m oder mehr, vorzugsweise 200 &mgr;m oder mehr, beträgt. Die Öffnungsrate ist vorzugsweise 50 % oder mehr. Um das Auftreten von Moirestreifen oder dgl. zu vermeiden, kann der Neigungswinkel (der Winkel zwischen den Linienteilen 107 des Gitterteils 103 und den Seiten (Kanten) der Displayvorderplatte bzw. der Bildschirmvorderplatte 1 (elektromagnetisches Wellenabschirmblatt)) geeignet unter Berücksichtigung der Bildpunkt- und Emissionseigenschaften eines Bildschirms gewählt werden.

Wie dies in 5(B) gezeigt ist, ist die Oberfläche der ersten Kleberschicht 13, die an den Öffnungen 105 des Gitterteils 103 freigelegt bzw. belichtet ist, aufgerauht (übertragen) durch die Oberflächenunregelmäßigkeiten von jenen Abschnitten der Metallschicht 21, welche durch Ätzen entfernt wurden, und verbleibt als eine aufgerauhte Oberfläche R. Eine derartige aufgerauhte Oberfläche R diffundiert Licht unregelmäßig, um eine Trübung bzw. einen Schleier zu erhöhen, und wenn eine Vorderplatte mit einer derartigen aufgerauhten Oberfläche auf einen Bildschirm, wie eine PDP, angebracht bzw. montiert wird, ist der Kontrast eines Bilds, das auf dem Bildschirm angezeigt ist, abgesenkt und die Bildsichtbarkeit ist somit verschlechtert.

[Dritter Schritt]

Der dritte Schritt, der in 5(C) gezeigt ist, ist der Schritt des Laminierens eines vorgeformten, nahe Infrarotstrahlen abschirmenden Films 41 auf die Seiten des Gitterteils 103 und des Rahmenteils 101 der Metallgitterschicht 21 mittels einer Schicht eines transparenten Klebers (zweite Kleberschicht) 33.

(Verfahren des Laminierens)

Das Material für die zweite Kleberschicht 33 und das Verfahren des Laminierens des nahe Infrarotstrahlen abschirmenden Films 41 auf die Metallschicht 21 können dasselbe wie das Material für die erste Kleberschicht 13 und das Verfahren des Laminierens der Metallschicht 21 auf das transparente Substrat 11 sein.

Ein härtbarer Zwei-Komponenten-Urethankleber wird für die zweite Kleberschicht 33 bevorzugt. Um weiterhin optisch die aufgerauhte Oberfläche R der ersten Kleberschicht 13 zu eliminieren, die an den Öffnungen 105 des Gitterteils 103 der Metallschicht 21 freigelegt bzw. belichtet ist, ist es wünschenswert, daß der Unterschied im Brechungsindex zwischen der ersten Kleberschicht 13 und der zweiten Kleberschicht 33 so klein wie möglich ist, vorzugsweise 0,14 oder weniger. Ein derartig kleiner Unterschied im Brechungsindex kann leicht erzielt werden, wenn derselbe Kleber verwendet wird, um die erste Kleberschicht 13 und die zweite Kleberschicht 33 auszubilden.

Trockenlaminieren ist ein bevorzugtes Verfahren des Laminierens des nahe Infrarotstrahlen abschirmenden Films 41 an die Metallschicht 21.

Wenigstens das Gitterteil 103 der Metallschicht 21 mit der zweiten Kleberschicht 33 abzudecken, reicht für den Zweck und in dem Schritt des Trockenlaminierens des nahe Infrarotstrahlen abschirmenden Films 41 an die Metallschicht 21, kann nur das Gitterteil 103 mit einem Kleber durch intermittierendes Beschichten beschichtet werden. Indem ein Kleber in einer derartigen Weise aufgebracht wird, ist es möglich, wenigstens einen Kantenabschnitt (üblicherweise vier Kantenabschnitte) des Rahmenteils 101 der Metallschicht 21 freizulegen bzw. belichten. In diesem Fall ist es in dem Laminierverfahren des Aufwickellage- und -entladesystems, in welchem die Metallschicht 21 und der nahe Infrarotstrahlen abschirmende Film 41 in Form von bandartigen, kontinuierlichen Filmen (Geweben) zugeführt werden und laminiert werden, während sie in der längeren Richtung laufen, möglich, wenn die Breite des nahen Infrarotstrahlen abschirmenden Films 41 schmäler gemacht ist als jene der Metallschicht 21, um gleich der Kleberaufbringbreite zu sein, wobei die Breite sich auf die Größe einer Richtung senkrecht zu der Richtung, in welche der nahe Infrarotstrahlen abschirmende Film 41 und der Laminatfilm, beinhaltend das transparente Substrat 11 und die Metallschicht 21, laufen, zum Freilegen bzw. Belichten für ein Erden von wenigstens einem der zwei Kantenabschnitte in der Bandlaufrichtung des Rahmenteils 101 zu dehnen bzw. zu recken. In diesem Fall werden die anderen zwei Kantenabschnitte des Rahmenteils 101, die senkrecht auf die Bandlaufrichtung gedehnt bzw. gereckt sind, mit dem nahe Infrarotstrahlen abschirmenden Film 41 abgedeckt und die Abschnitte des nahe Infrarotstrahlen abschirmenden Films 41, welche diese Kantenabschnitte des Rahmenteils 101 abdecken, können entweder belassen werden wie sie sind oder geeignet entfernt werden. Selbstverständlich kann ein nahe Infrarotstrahlen abschirmender Film 41 mit einer größeren Breite verwendet werden und der Abschnitt des nahe Infrarotstrahlen abschirmenden Films 41, welcher wenigstens einen Kantenabschnitt des Rahmenteils 101 abdeckt, kann durch ein konventionelles Halbstanzverfahren oder dgl. entfernt werden.

Weiterhin ist es möglich, die zwei Kantenabschnitte des Rahmenteils 101, die in der Bandlaufrichtung gespannt bzw. gereckt sind, durch Aufbringen von lediglich einem Kleber auf das Gitterteil 103 und eine Metallschicht 21 und die zwei Kantenabschnitte des Rahmenteils 101 freizulegen bzw. zu belichten, die senkrecht zu der Bandlaufrichtung gedehnt bzw. gereckt sind, wobei die Aufbringbreite des Klebers an beiden Breitenenden abgesenkt ist. In diesem Fall ist, wenn die Breite des nahe Infrarotstrahlen abschirmenden Films 41 kleiner als jene der Metallschicht 21 gemacht ist, um gleich der Kleberaufbringbreite zu sein, das Rahmenteil 101 (die zwei Kantenabschnitte des Rahmenteils 101) nicht mit dem nahe Infrarotstrahlen abschirmenden Film 41 abgedeckt, so daß der Schritt des Entfernens des nahe Infrarotstrahlen abschirmenden Films 41 nicht notwendig ist.

(Nahe Infrarotstrahlen abschirmender Film)

Der nahe Infrarotstrahlen abschirmende Film 41 ist ein vorgeformter Film, welcher wenigstens nahe Infrarotstrahlen mit spezifischen Wellenlängen absorbiert. Die spezifischen Wellenlängen von nahen Infrarotstrahlen sind hier etwa 800 bis 1100 nm. Es ist insbesondere wünschenswert, daß der nahe Infrarotstrahlen abschirmende Film 41 80 % oder mehr, bevorzugter 90 % oder mehr, der nahen Infrarotstrahlen mit Wellenlängen in dem Bereich von 800 bis 1100 nm absorbiert. Der nahe Infrarotstrahlen abschirmende Film 41, welcher nahe Infrarotstrahlen mit den spezifischen Wellenlängen bis zu diesem Ausmaß absorbiert, kann eine Fehlfunktion von ferngesteuerten Vorrichtungen, wie VTRs und von Infrarotkommunikationseinrichtungen, verhindern.

Es ist bevorzugt für den nahe Infrarotstrahlen abschirmenden Film 41, Materialien zu verwenden, enthaltend Absorbentien für nahes Infrarot (die als "NIR Absorbentien" bezeichnet sind), die nahe Infrarotstrahlen mit den spezifischen Wellenlängen absorbieren. Jegliche Absorbentien für nahes Infrarot sind hier verwendbar und es ist möglich, Färbemittel zu verwenden, die eine große Absorption in dem Bereich von nahem Infrarot zeigen, die hohe Durchlässigkeit für Licht in dem sichtbaren Lichtbereich besitzen und die keine große Absorption in den spezifischen Wellenlängen in dem Bereich sichtbaren Lichts zeigen. Allgemein ist ein großer Teil des Lichts in dem Bereich sichtbaren Lichts, der von PDPs emittiert ist, oranges Licht, welches aus dem Emissionsspektrum von Neonatomen stammt, so daß ein Färbemittel, welches Licht von etwa 590 nm absorbiert, auch inkorporiert werden kann. Beispiele von Färbemitteln, die für das nahe Infrarotabsorbens verwendbar sind, beinhalten Cyaninverbindungen, Phthalocyaninverbindungen, Immoniumverbindungen, Diimmoniumverbindungen, Naphthalocyaninverbindungen, Naphthalochinonverbindungen, Anthrachinonverbindungen und Dithiolkomplexe. Diese Färbemittel können entweder alleine oder als eine Mischung von zwei oder mehreren Färbemitteln verwendet werden.

Derartige Filme, wie ein Film, in welchem ein Färbemittel für das Absorbens nahe Infrarot dispergiert ist, und ein Film, der durch Anwenden eines Färbemittels gemeinsam mit einem Bindemittel als eine Tinte und Trocknen des Tintenfilms erhalten wurde, können als der nahe Infrarotstrahlen abschirmende Film 41 verwendet werden, und Beispiele von Filmen, die für den nahe Infrarotstrahlen abschirmenden Film 41 verwendbar sind, beinhalten kommerziell verfügbare Filme, enthaltend NIR Absorbentien (z.B. Handelsnamen Nr. 2832, hergestellt von Toyobo Co., Ltd., Japan).

Wenn der nahe Infrarotstrahlen abschirmende Film 41 an die Metallschicht 21 in der oben beschriebenen Weise laminiert ist, werden nahe Infrarotstrahlen, die von PDPs emittiert werden, absorbiert, so daß die Fehlfunktion von ferngesteuerten bzw. -geregelten Vorrichtungen, wie VTRs, und von Infrarotkommunikationseinrichtungen, welche nahe der PDPs verwendet werden, vermeidbar ist.

Wenn der nahe Infrarotstrahlen abschirmende Film 41 auf das Laminat aus dem transparenten Substrat 11/der ersten Kleberschicht 13/der Metallschicht 21 (in der Form eines Gitters) durch die zweite, transparente Kleberschicht 33 in der oben beschriebenen Weise laminiert ist, werden die Oberflächenunregelmäßigkeiten der ersten Kleberschicht 13, die an den Öffnungen 105 des Gitterteils 103 der Metallschicht 21 freigelegt bzw. belichtet ist, mit der zweiten Kleberschicht 33 verfüllt, wodurch die freigelegte bzw. belichtete, aufgerauhte Oberfläche R der ersten Kleberschichten 13 geglättet ist bzw. wird.

Das Laminieren des nahe Infrarotstrahlen abschirmenden Films 41 wird durch Trockenlaminieren ausgeführt. Der Kleber, welcher verwenden wird, um die zweite Kleberschicht 33 auszubilden, ist von einer ein Lösungsmittel löslichen Art und seine Viskosität ist etwa 1 bis 1000 cps. Daher befeuchtet der Kleber für die zweite Kleberschicht 33 in zufriedenstellender Weise eine Seite, an welcher der Kleber aufgebracht ist, verbreitet sich gut auf der Oberfläche und kann, selbst wenn die Seite Unregelmäßigkeiten aufweist, die Unregelmäßigkeiten ausfüllen.

Indem so der nahe Infrarotstrahlen abschirmende Film 41 laminiert wird, wird die aufgerauhte Oberfläche R der ersten Kleberschicht 13, die an den Öffnungen 105 des Gitterteils 103 der Metallschicht 21 freigelegt ist, wie dies in 5(B) gezeigt ist, eliminiert (die Grenzfläche zwischen der ersten Kleberschicht 13 und der zweiten Kleberschicht 33 ist optisch eliminiert), so daß eine unregelmäßige Reflexion von Licht unterdrückt ist. Daher ist, selbst wenn die Vorderplatte auf einer Anzeige bzw. einem Bildschirm, wie einer PDP, festgelegt ist, der Kontrast eines Bilds, das auf dem Bildschirm angezeigt ist, verstärkt und die Bildsichtbarkeit kann somit verbessert werden.

In einer konventionellen Bildschirmvorderplatte war es unvermeidbar, daß Luft in den Öffnungen des Gitterteils inkorporiert ist, um Luftblasen auszubilden, wenn die Metallgitterschicht und das andere Glied, das mit dem druckempfindlichen Kleber beschichtet ist, laminiert werden. Aus diesem Grund mußte der Schritt des Entfernens der Luftblasen durch Entlüftung, damit sich der Kleber in alle Ecken der Öffnungen ausbreitet, damit diese transparent werden, bis dato spezifisch ausgeführt werden. Dieser Schritt ist ein chargenweises Verfahren, welches beispielsweise in der folgenden Weise ausgeführt wird: Die Bildschirmvorderplatte wird in einem druckbeständigen, teuren, geschlossenen Behälter, wie einem Autoklaven, angeordnet, wird auf eine Temperatur von etwa 30 bis 100 °C erhitzt und wird entweder durch ein unter Druck setzen oder ein Dekomprimieren und unter Druck setzen und Dekomprimieren des geschlossenen Behälters für einen Zeitraum von 30 bis 60 Minuten behandelt. Im Gegensatz dazu ist ein derartiger ineffizienter Schritt für das Verfahren zur Herstellung einer Bildschirmvorderplatte gemäß dieser Ausbildung nicht erforderlich.

Weiterhin wird der nahe Infrarotstrahlen abschirmende Film 41 an die Metallschicht 21 trocken laminiert und dieses Laminieren wird üblicherweise durch das Aufwickellade- und -entladesystem ausgeführt, in welchem kontinuierliche bandartige Filme (Bahnen) laminiert werden, während sie laufen bzw. ablaufen. Wenn daher die Breite, die Größe in der Richtung senkrecht zur Laufrichtung des nahen Infrarotstrahlen abschirmenden Films 41 kleiner als jene der Metallschicht 21 gemacht ist und die zwei Filme, während sie laufen, laminiert werden, indem der nahe Infrarotstrahlen abschirmende Film 41 zu einer Seite versetzt ist oder in dem Zentrum positioniert ist, ist es leicht möglich, wenigstens einen Kantenabschnitt des Rahmenteils 101 der Metallschicht 21 freizulegen.

Indem der nahe Infrarotstrahlen abschirmende Film 41 und der Laminatfilm, enthaltend die Metallschicht 21, zum Laufen bzw. Ablaufen veranlaßt werden, wobei der nahe Infrarotstrahlen abschirmende Film 41 zu einer Seite versetzt ist, ist es möglich, die Seite von wenigstens einem aus dem oberen, unteren, rechten oder linken Abschnitt des Rahmenteils 101, der das Siebteil 103 umgibt, freizulegen. Indem der nahe Infrarotstrahlen abschirmende Film 41 und der Laminatfilm veranlaßt werden, mit dem nahe Infrarotstrahlen abschirmenden Film 41 im Zentrum positioniert zu laufen, ist es möglich, die Seiten von wenigstens zwei aus dem oberen, unteren, rechten und linken Abschnitt des Rahmenteils 101, der das Gitterteil 103 umgibt, freizulegen.

Das Rahmenteil 101 der Metallschicht 21 ist somit wenigstens teilweise freigelegt bzw. belichtet und das freigelegte bzw. belichtete Teil kann für ein Erden verwendet werden. Es ist daher nicht notwendig, einen Anschluß (durch gesondertes Abstreifen und Entfernen einer Beschichtung eines Films oder dgl. von dem Rahmenteil der Metallschicht), was bis dato ausgeführt wurde, auszubilden.

Obwohl weiterhin der Schritt des Laminierens des nahe Infrarotstrahlen abschirmenden Films 41 bis dato gesondert von dem Schritt des Aufbringens eines transparenten Harzes auf das Gitterteil 103 der Metallschicht 21 ausgeführt wurde, wird er in dieser Ausbildung gleichzeitig mit dem Schritt des Glättens der aufgerauhten Oberfläche R der ersten Kleberschicht 13, die an den Öffnungen 105 des Gitterteils 103 der Metallschicht 21 freigelegt ist, so durchgeführt, daß die Anzahl der Schritte, die erforderlich sind, kleiner ist.

Weiterhin ist das Trockenlaminieren eine Basistechnik für die Fachleute und die Bildschirmvorderplatte der Ausbildung kann leicht durch Trockenlaminieren hergestellt werden, indem die bestehenden Einrichtungen und Techniken mit hoher Produktivität und hohen Ausbeuten verwendet werden.

Da weiterhin der nahe Infrarotstrahlen abschirmende Film 41, der in einer vorbestimmten Dicke ausgeführt ist, durch Trockenlaminieren laminiert ist, ist die nahe Infrarotstrahlen absorbierende Schicht gleichmäßig in der Dicke, weist keine Unebenheiten oder Änderungen innerhalb der gleichen Ebene in der Dicke, wie dies in 5(C) gezeigt ist, auf. Es ist daher möglich, das Problem zu lösen, daß eine nahe Infrarotstrahlen absorbierende Schicht, die durch Beschichtung ausgebildet ist, nicht gleichmäßig in der Dicke sein kann, wie dies in 6(C) gezeigt ist.

Weiterhin ist zusätzlich zu dem Trockenlaminieren Photolithographie auch eine Basistechnik für die Fachleute, so daß das Verfahren der Erfindung vorteilhaft ist.

In allen Schritten in dem Herstellungsverfahren ist es möglich, ein kontinuierliches, aufgewickeltes bzw. aufgerolltes, bandartiges Laminat zu bearbeiten, während es kontinuierlich oder intermittierend gemeinsam mit dem transparenten Substrat 11 des Laminats, das aus einem flexiblen Material gefertigt ist, zugeführt wird. Die Bildschirmvorderplatte kann daher mit hoher Produktivität in einer kleinen Anzahl von Schritten hergestellt werden, zwei oder mehrere Schritte, die gemeinschaftlich in einem Schritt ausgeführt sind, und darüber hinaus können die bestehenden Herstellungsanlagen für die Produktion verwendet werden.

(Modifizierte Ausbildungen)

Die vorliegende Erfindung umfaßt die folgenden Modifikationen.

  • (1) Die obige Ausbildung wurde unter Bezugnahme auf den Fall beschrieben, wo das transparente Substrat 11 und der nahe Infrarotstrahlen abschirmende Film 41 Flexibilität besitzen und durch das Aufwickellade- und -entladesystem bearbeitet werden. Jedoch in einem Fall, wo sie nicht flexibel sind, können ebene Blätter verwendet werden. In diesem Fall können die ebenen Blätter nicht kontinuierlich bearbeitet werden, sondern können bearbeitet werden, während sie intermittierend zugeführt werden, und es können dieselben Effekte und Wirkungen bzw. Funktionen erzielt werden wie jene, die erhalten werden, wenn die Blätter durch das Aufwickellade- und -entladesystem bearbeitet werden, mit der Ausnahme der Effekte, die charakteristisch erhalten werden, wenn das Verfahren durch das Aufwickellade- und -entladesystem bearbeitet bzw. durchgeführt wird.
  • (2) Die Bildschirm- bzw. Anzeigevorderplatte 1 gemäß der oben beschriebenen Ausbildung kann mit verschiedenen, nicht einschränkenden Gliedern, wie optischen Komponenten, die die Funktion des Verhinderns von Reflexion und/oder Blenden von Licht besitzen, und Verstärkungen, die mechanische Festigkeit aufweisen, kombiniert werden. Wenn die Bildschirmvorderplatte mit derartigen Gliedern kombiniert wird, ist die Reflexion von Bildlicht von einer PDP und Fremdlicht, das in die Anzeige bzw. den Bildschirm von außen eintritt, unterdrückt und die Sichtbarkeit eines Bilds, das auf einem Bildschirm angezeigt ist, ist somit verbessert. Darüber hinaus ist es möglich, die Bildschirmvorderplatte vor Beschädigung zu schützen, welche durch externe Kräfte bewirkt ist.

BEISPIELE

Spezifische Beispiele der oben beschriebenen Ausbildung werden nachfolgend gegeben.

Beispiel 1

Es wurde eine 10-&mgr;m dicke, elektrolytische Kupferfolie in der Form einer Bahn, die an einer Fläche eine Schwärzungsschicht, die aus Kupfer-Kobalt-Legierungsteilchen gefertigt ist, als die Metallschicht hergestellt. Ein 100-&mgr;m dicker, biaxial gerichteter bzw. gereckter PET Film A4300 (Handelsname von Polyethylenterephthalat, hergestellt von Toyobo Co., Ltd., Japan) in der Form einer Bahn, die dieselbe Breite wie jene der elektrolytischen Kupferfolie aufweist, wurde als das transparente Substrat hergestellt. Das transparente Substrat und die Metallschicht (die Schwärzungsschichtseite) wurden mit dem ersten Kleber trocken laminiert, der aus einer Schicht aus einem transparenten, härtbaren Zwei-Komponenten-Urethankleber gefertigt ist und wurden dann bei 50 °C für 3 Tage getrocknet, wodurch ein Laminat erhalten wird. Für den Kleber wurde als ein Hauptagens Takelack A-310 (Handelsname von Takeda Chemical Industries, Ltd., Japan), bestehend aus Polyestherurethanpolyol, und ein Härtungsagens A-10 (Handelsname, hergestellt von Takeda Chemical Industries, Ltd., Japan), bestehend aus Hexamethylendiisocyanat, verwendet. Der Kleber wurde in einer derartigen Menge aufgebracht, daß die getrocknete Kleberschicht eine Dicke von 7 &mgr;m aufwies.

Die Schwärzungsschicht/die Metallschicht in dem Laminat, das in der oben beschriebenen Weise erhalten ist, wurden photolithographisch in ein Gitter gefertigt, wodurch ein Muster, bestehend aus einem Gitterteil und einem Rahmenteil, gebildet wird, die Draufsicht des Musters ist in 1 gezeigt. Unter Verwendung der bestehenden Herstellungsanlage für Lochmasken von Farb-TVs wurde das Laminat in der Form einer kontinuierlichen, bandartigen Bahn einer Serie von Schritten von Maskieren bis Ätzen unterworfen (die durch das Aufwickellade- und -entladesystem ausgeführt werden).

Zuerst wurde ein Kasein-Negativphotoresist auf die gesamte Metallschichtseite des Laminats durch Flußbeschichten aufgebracht. Dieses Laminat wurde intermittierend zu der nächsten Station geführt, wo die Resistschicht einem Kontaktbelichten mit Licht durch eine negative Gittermusterplatte (bestehend aus Linienteilen, die Transparenz aufweisen, und Öffnungen, die Licht abschirmende Eigenschaften besitzen) unterworfen wurde. Während das Laminat von einer Station zur nächsten transferiert wird, wurden Entwicklung mit Wasser, Filmhärten und Trocknen durch Wärme ausgeführt. Das ausgehärtete Laminat wurde weiter zur nächsten Station gefördert, wo das Laminat durch Sprühen einer wäßrigen Eisenchloridlösung, einem Ätzmittel, über das Laminat geätzt wurde, um Öffnungen in dem Laminat auszubilden. Während das Laminat von einer Station zur nächsten transferiert wird, wurden Waschen mit Wasser, Resist abstreifen, Reinigen und Trocknen durch Erhitzen bzw. Erwärmen ausgeführt, wodurch eine Metallgitterschicht, bestehend aus einem Gitterteil, das Öffnungen in der Form von regelmäßigen Quadraten aufweist, und einem 15 mm breiten Rahmenteil rund um das Gitterteil erhalten wurde, wobei die Weiten bzw. Breiten der Linien, die die Öffnungen definieren, 10 &mgr;m betrugen, der Abstand zwischen den Linien, (der Linienzwischenraum) 300 &mgr;m ist, der Neigungswinkel (der Winkel zwischen den Linien und der Seite des Substrats) 49 Grad betrug.

Derselbe transparente, härtbare Zwei-Komponenten-Urethankleber, wie jener, der für die erste Kleberschicht verwendet wurde, wurde auf die Oberfläche der Metallgitterschicht, die in der oben beschriebenen Weise hergestellt wurde, aufgebracht, um die zweite Kleberschicht auszubilden, welche dann getrocknet wurde. Auf diese zweite Kleberschicht wurde ein vorausgebildeter NIR Film Nr. 2832 (Handelsname eines nahe Infrarotstrahlen abschirmenden Films, hergestellt von Toyobo Co., Ltd., Japan) laminiert und dieser wurde bei 50 °C für drei Tage getrocknet bzw. gealtert, wodurch ein Laminat erhalten wird. Die Öffnungen des Gitterteils der Metallschicht wurden somit mit dem härtbaren Zwei-Komponenten-Urethankleber (für die zweite Kleberschicht) verfüllt, so daß die aufgerauhte Fläche bzw. Oberfläche der ersten Kleberschicht, die an den Öffnungen freigelegt war, eliminiert wurde, und die Oberfläche der zweiten Kleberschicht wurde mit dem nahe Infrarotstrahlen abschirmenden Film, der gleichmäßig in der Dicke ist, abgedeckt. Es wurde somit eine Bildschirmvorderplatte erhalten mit einer ebenen und glatten Oberfläche, die einen Querschnitt, wie in 5(C) gezeigt, aufweist.

Beispiel 2

Eine Bildschirmvorderplatte wurde in derselben Weise, wie in Beispiel 1, erhalten, mit der Ausnahme, daß die Breite des NIR Films 15 mm schmäler als jene der Metallschicht ausgebildet wurde und daß das transparente Substrat und die Metallschicht trocken laminiert wurden, wobei die zwei Blätter an einer Kante, die sich in der Filmlaufrichtung erstreckt, ausgerichtet waren. Die auf diese Weise erhaltene Bildschirmvorderplatte war jene, in welcher ein Kantenabschnitt des Rahmenteils der Metallschicht nicht mit dem NIR Film abgedeckt war und in einer Breite von 15 mm freigelegt war.

Beispiel 3

Eine Bildschirmvorderplatte wurde in derselben Weise, wie in Beispiel 1, erhalten, mit der Ausnahme, daß eine 10 &mgr;m dicke, elektrolytische Kupferfolie, die an jeder Seite eine Schwärzungsschicht, die aus Kupfer-Kobalt-Legierungsteilchen gefertigt war und eine antikorrosive Schicht, die durch Chromatbehandlung ausgebildet war, aufweist, als die Metallschicht verwendet wurde.

(Auswertung)

Die Bildschirmvorderplatten wurden in bezug auf Trübung, gesamte Lichtdurchlässigkeit, Sichtbarkeit, Fähigkeit, elektromagnetische Wellen abzuschirmen, und Fähigkeit, nahe Infrarotstrahlen abzuschirmen, evaluiert bzw. ausgewertet. Die Trübung wurde in Übereinstimmung mit JIS-K7136 bestimmt und die gesamte Lichtdurchlässigkeit wurde in Übereinstimmung mit JIS-K7361-1 unter Verwendung eines Colorimeters HM150 (Handelsname, hergestellt von Murakami Color Research Laboratory, Japan) gemessen.

Die Sichtbarkeit wurde in der folgenden Weise evaluiert: Die Bildschirmvorderplatte wurde auf die Vorderseite einer PDP, "WOOO" (Handelsname, hergestellt von Hitachi, Ltd., Japan) montiert und ein Testmuster, ein weißes durchgezogenes bzw. einteiliges Bild und ein schwarzes durchgezogenes bzw. einteiliges Bild wurden aufeinanderfolgend auf dem Bildschirm angezeigt und wurden visuell an einem Punkt 50 Zentimeter entfernt von der Anzeige bzw. dem Display beobachtet mit Sichtwinkeln von 0 bis 80 Grad. Spezifisch wurden Beobachtungen betreffend Helligkeit, Kontrast und Reflexion sowie Blenden von Fremdlicht zu dem Zeitpunkt der schwarzen Anzeige und die Unebenheit der Schwärzungsschicht zum Zeitpunkt der weißen Anzeige getätigt.

Die Fähigkeit, elektromagnetische Wellen abzuschirmen, wurde durch das KEC Verfahren (ein Verfahren der Messung von elektromagnetischen Wellen, das durch Kansai Electronic Industry Development Center, Japan, entwickelt wurde) bestimmt.

Die Fähigkeit, nahe Infrarotstrahlen abzuschirmen, wurde durch ein Spektrophotometer "best-570" (hergestellt von Nippon Bunko Kabushiki Kaisha, Japan) bestimmt.

Als ein Ergebnis hatten die Bildschirmvorderplatten der Beispiele 1 und 2 einen Trübungswert von 2,1 und eine gesamte Lichtdurchlässigkeit von 58,2 und waren auch in der Sichtbarkeit exzellent.

Die Bildschirmvorderplatte von Beispiel 3 war gleich jener von Beispiel 1 im Trübungswert und der gesamten Lichtdurchlässigkeit, jedoch war sie in der Sichtbarkeit überlegen bzw. besser.

Betreffend die Fähigkeit, elektromagnetische Wellen abzuschirmen, unterdrückten bzw. dämpften alle Bildschirmvorderplatten der Beispiele 1 bis 3 mit Raten von 30 bis 60 dB, elektromagnetische Wellen, die Frequenzen von 30 MHz bis 1000 MHz aufwiesen und wurden somit als eine zufriedenstellend exzellente Eigenschaft, elektromagnetische Wellen abzuschirmen, besitzend bestätigt.

Weiterhin ließen betreffend die Fähigkeit, nahe Infrarotstrahlen abzuschirmen, die gesamten Gitterteile der Bildschirmvorderplatten der Beispiele 1 bis 3 10 % bis 5 % Licht mit Wellenlänge von 800 bis 1100 nm durch; diese Durchlässigkeiten waren ausreichend und die Streuung in der Durchlässigkeit war gering.

Zusammenfassung

Ein Verfahren zum Herstellen einer Bildschirm- bzw. Displayvorderplatte gemäß der vorliegenden Erfindung umfaßt die Schritte (1) Laminieren einer Metallschicht 21 auf wenigstens eine Fläche eines transparenten Substrats 11 mit einer ersten transparenten Kleberschicht 13, wodurch ein Laminat erhalten wird, (2) Bereitstellen einer gittergemusterten Resistschicht auf einer Fläche der Metallschicht 21 des Laminats, Ätzen der Metallschicht 21, um Abschnitte bzw. Teile derselben zu entfernen, welche nicht mit der Resistschicht abgedeckt sind, und Entfernen der Resistschicht, wodurch eine Metallgitterschicht 21 ausgebildet wird, die ein Gitterteil 103 mit einer Mehrzahl von Öffnungen 105 und ein Rahmenteil 101 um das Gitterteil 103 aufweist, und (3) Laminieren eines nahe Infrarotstrahlen abschirmenden Films 41 des Gitterteils 103 auf der Seite der Metallgitterschicht 21 mittels einer zweiten, transparenten Kleberschicht 33 und Füllen bzw. Verfüllen der Flächenunregelmäßigkeiten R der ersten Kleberschicht 13, die an den Öffnungen 105 des Gitterteils 103 freigelegt sind, mit der zweiten, transparenten Kleberschicht 33, um die freigelegte, aufgerauhte Oberfläche R der ersten Kleberschicht 13 transparent zu machen.


Anspruch[de]
Verfahren zum Herstellen einer Bildschirm- bzw. Displayvorderplatte, umfassend ein transparentes Substrat, eine Metallgitterschicht, die an wenigstens eine Fläche des transparenten Substrats durch eine erste, transparente Kleberschicht laminiert ist, und einen Nah-Infrarotstrahlen abschirmenden Film, der an die Fläche der metallischen Gitterschicht durch eine zweite, transparente Kleberschicht laminiert ist, umfassend die Schritte:

(1) Laminieren einer Metallschicht an wenigstens eine Fläche eines transparenten Substrats durch eine erste transparente Kleberschicht, wodurch ein Laminat erhalten ist,

(2) Bereitstellen einer gittergemusterten Resistschicht auf der Metallschichtseite des Laminats, Ätzen der Metallschicht, um Abschnitte bzw. Teile derselben, welche nicht mit der Resistschicht abgedeckt sind, zu entfernen, und Entfernen der Resistschicht, wodurch eine Metallgitterschicht ausgebildet wird, die ein Gitterteil mit einer Mehrzahl von Öffnungen und ein Rahmenteil rund um das Gitterteil aufweist, und

(3) Laminieren eines Nah-Infrarotstrahlen abschirmenden Films an die Seite des Gitterteils der Metallgitterschicht durch eine zweite, transparente Kleberschicht und Füllen der Flächen- bzw. Oberflächenunregelmäßigkeiten der ersten Kleberschicht, die an den Öffnungen des Gitterteils freigelegt sind, mit der zweiten Kleberschicht, um die freigelegte bzw. belichtete, aufgerauhte Fläche der ersten Kleberschicht transparent zu machen.
Verfahren nach Anspruch 1, wobei sowohl das Laminieren der Metallschicht an das transparente Substrat als auch das Laminieren des Nahinfrarotstrahlen abschirmenden Films an die Metallschicht durch Trockenlaminieren ausgeführt werden, wobei kontinuierliche Filme durch ein Aufwickellade- und -entladesystem laminiert werden. Verfahren nach Anspruch 2, wobei beim Laminieren des Nahinfrarotstrahlen abschirmenden Films an die Metallschichtseite durch das Aufwickellade- und -entladesystem wenigstens ein Kantenabschnitt des Rahmenteils der Metallschicht freigelegt wird, indem eine Breite des Nah-Infrarotstrahlen abschirmenden Films kleiner als jene der Metallschicht in dem Laminatfilm gemacht wird, wobei die Breite sich auf eine Größe in einer Richtung senkrecht zu einer Richtung bezieht, in welcher der Nah-Infrarotstrahlen abschirmende Film und der Laminatfilm, enthaltend die Metallschicht, laufen bzw. ablaufen werden. Bildschirm- bzw. Displayvorderplatte umfassend:

ein transparentes Substrat,

eine Metallgitterschicht, die an wenigstens eine Fläche des transparenten Substrats mittels einer ersten, transparenten Kleberschicht laminiert ist, und

einen Nah-Infrarotstrahlen abschirmenden Film, der an eine Fläche der Metallgitterschicht durch eine zweite, transparente Kleberschicht laminiert ist,

die Metallgitterschicht ein Gitterteil mit einer Mehrzahl von Öffnungen aufweist, die zweite Kleberschicht Oberflächen- bzw. Flächenunregelmäßigkeiten der ersten Kleberschicht ausfüllt, die an den Öffnungen des Gitterteils freigelegt sind, um die freigelegte, aufgerauhte Fläche der ersten Kleberschicht transparent zu machen.
Bildschirm- bzw. Displayvorderplatte nach Anspruch 4, wobei die Metallgitterschicht weiterhin ein Rahmenteil rund um das Gitterteil aufweist und wenigstens ein Kantenabschnitt des Rahmenteils freigelegt ist, ohne durch den Nah-Infrarotstrahlen abschirmenden Film abgedeckt zu sein.






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