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No Patent No Titel
1 DE60305929T2 ZIRCONIUM KOMPLEX FÜR DIE CVD-METHODE UND HERSTELLUNGSVERFAHREN FÜR EINEN DÜNNEN FILM
2 DE60120254T2 Abscheidung und thermische Behandlung von dünnen Schichten aus Mehrkomponentenoxyden von Typ ZrSnTi und HfSnTi unter Verwendung eines flüssigen lösungsmittelfreien Vorläufergemisch
3 DE10392519T5 System zur Abscheidung eines Films auf einem Substrat unter Verwendung eines Gas-Precursors mit niedrigem Dampfdruck
4 DE69915592T2 BESCHICHTUNGSVERFAHREN ZUR BENUTZUNG EINES Cu(hfac)-VORLÄUFERS MIT EINEM PHENYLETHYLEN-LIGAND
5 DE69914092T2 HERSTELLUNGSVERFAHREN FÜR RUTHENIUM-METALLSCHICHTEN
6 DE10325629A1 Verfahren zur Abscheidung von Verbindungen auf einem Substrat mittels metallorganischer Gasphasendeposition
7 DE69431443T2 VERFAHREN ZUM BESCHICHTEN MIT DÜNNEN METALLSCHICHTEN VON GRUPPE III A-METALLEN
8 DE10238776A1 Flüssiges Material für die Gasphasenabscheidung nach chemischem Verfahren, Verfahren zum Ausbilden eines Films durch Gasphasenabscheidung nach chemischem Verfahren und Vorrichtung für die Gasphasenabscheidung nach chemischem Verfahren
9 DE69705348T2 Verfahren zur Gasphasenabscheidung und Vorrichtung zur Abscheidung
10 DE69801231T2 VERFAHREN ZUR CHEMISCHE DAMPFABLAGERUNG VON METALLFILME
11 DE19738330C2 Chemische Dampfabscheidungsvorrichtung, Abscheidungsverfahren für Metallorganische Verbindungen und Verwendung des Verfahrens
12 DE69608821T2 VERFAHREN ZUR ABSCHEIDUNG UND VERWENDUNG EINES VORPRODUKTS HIERFÜR
13 DE19736449A1 Verbundwerkstoff
14 DE69318976T2 MITTELS MOCVD HERGESTELLTE DÜNNE FERROELEKTRISCHE SCHICHTEN
15 DE69408434T2 AUFWACHSEN EINER EPITAKTISCHEN SCHICHT AUS EINER STICKSTOFFDOTIERTEN II-VI-VERBINDUNG AUF EINEM MONOKRISTALLINEN SUBSTRAT
16 DE19738330A1 Chemische Dampfabscheidungsvorrichtung und Abscheidungsverfahren für organische Metalle
17 DE69404564T2 Verfahren zum Herstellen verbesserter CVD Kupferfilme
18 DE69216021T2 Flüchtige Vorläufer zur chemischen Dampfphasenabscheidung von Kupfer
19 DE19603282A1 Verfahren zum chemischen Aufdampfen von Kupfer-Aluminium-Legierungen
20 DE69111587T2 Verfahren zur CVD von Kupfer.
21 DE68914277T2 PHOTOCHEMISCHE ABSCHEIDUNG VON HOCHREINEN GOLDFILMEN.
22 DE4318310A1 Verfahren zur Herstellung von Übergangsmetallen bzw. deren Oxiden
23 DE4124686A1 Verfahren zur Abscheidung einer Kupfer enthaltenden Schicht II
24 DE4122473A1 Verfahren zur Abscheidung von Titan, Zirkonium oder Hafnium enthaltenden Schichten
25 DE4122449A1 Verfahren zur Abscheidung einer Kupfer enthaltenden Schicht I
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