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Patente IPC-Klasse C23C 16/448
 
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No Patent No Titel
1 DE60312504T2 VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUR DARSTELLUNG DAMPFFÖRMIGER REAGENZIEN FÜR DIE CHEMISCHE ABSCHEIDUNG AUS DER DAMPFPHASE
2 DE102006023046A1 Verfahren, Vorrichtung und Ausgangsmaterial zum Bereitstellen eines gasförmigen Precursors
3 DE60032980T2 Verfahren und Vorrichtung zum Überführen eines flüssigen Materials in ein Gas.
4 EP1825020 SYSTEM ZUM NACHFÜLLEN VON FLÜSSIGEN VORLÄUFERN
5 EP1808510 Dünnfilmherstellungsvorrichtung
6 EP1803836 Verdampfungsquelle und Verfahren zum Ablagern eines Dünnfilms damit
7 EP1794349 NORALDRUCK-CVD
8 EP1747302 BUBBLER ZUR KONSTANTEN DAMPFZUFUHR EINER FESTEN CHEMIKALIE
9 EP1704267 HOCHLEISTUNGSVERDAMPFER ZUR VERDAMPFUNG VON FLÜSSIGEM VORLÄUFER UND MEHREREN FLÜSSIGEN VORLÄUFERN BEI DER HALBLEITER-DÜNNSCHICHTABSCHEIDUNG
10 EP1669474 Vorrichtung zum Gaszuführ
11 EP1664375 VORLÄUFERZUFUHRSYSTEM
12 EP1649076 VORRICHTUNG UND VERFAHREN ZUR STEUERUNG DES DAMPFDRUCKS EINER CHEMIKALIENQUELLE
13 DE60204706T2 VERDAMPFER
14 EP1643003 Verdampfer für CVD-Anlage.
15 DE60020781T2 Sprudelvorrichtung mit zwei Fritten
16 DE60203912T2 BEHÄLTERANORDNUNG FÜR CHEMIKALIEN
17 DE60106675T2 Verdampfer
18 DE102004021578A1 Verfahren und Vorrichtung zur Abscheidung von ein-oder mehrkomponentigen Schichten und Schichtfolgen unter Verwendung von nicht-kontinuierlicher Injektion von flüssigen und gelösten Ausgangssubstanzen über eine Mehrkanalinjektionseinheit
19 DE10296556T5 Verfahren und Vorrichtung zum Herstellen eines Zwischenstoffes
20 DE10241965A1 Beschichtungsgaserzeuger und Verfahren
21 DE10137673A1 Vorrichtung zur Zufuhr von Gasgemischen zu einem CVD-Reaktor
22 DE10136858A1 Beschichtungsvorrichtung
23 DE19920745C2 Verfahren und Vorrichtung zum Beschichten eines Substrates mit einem Material
24 DE19803740C2 Gasphasenbeschichtungsverfahren und Vorrichtung zur Gasphasenbeschichtung von Werkstücken
25 DE19749292C2 Vernickelungssystem sowie Verfahren zur Wiedergewinnung von Nickel in einem Vernickelungssystem
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