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No Patent No Titel
1 DE69935938T2 Ein strahlungsempfindliches Material und Verfahren zur Herstellung von einem Muster damit
2 EP1860508 Zusammensetzung und Verfahren zum Entfernen von Fotolack
3 DE10304631B4 Lichtempfindliche Harzzusammensetzung vom Negativ-Typ
4 DE60219544T2 Methode zur Naheffekt-Korrektur mit teilweise strahlungsdurchlässigen, nicht aufgelösten Hilfsstrukturen
5 DE60034488T2 STRAHLUNGSEMPFINDLICHE COPOLYMERE, FOTORESISTZUSAMMENSETZUNGEN UND ZWEISCHICHTRESISTSYSTEME FÜR DEN TIEFEN UV-BEREICH
6 DE60219562T2 Lithographische Mustererzeugung unter Verwendung einer Maske mit gedämpften Phasenschiebern hoher Transmission und mehrfache Belichtung mit optimierter Kohärenz
7 EP1856577 POSITIVER TROCKENFILMFOTOLACK UND ZUSAMMENSETZUNG FÜR DESSEN HERSTELLUNG
8 DE102006030359A1 Verfahren zum Entwickeln eines Photolacks
9 EP1853973 VERFAHREN ZUM ENTFERNEN VON PHOTOLACK, ÄTZRÜCKSTÄNDEN UND KUPFEROXID VON SUBSTRATEN MIT KUPFER UND MATERIALIEN MIT NIEDRIGER DIELEKTRIZITÄTSKONSTANTE
10 DE60127788T2 Farbprüfen mittels Tintenstrahldruck
11 DE69609242T3 Fotopolymerisierbare Zusammensetzungen
12 DE60034515T2 Flachdruckplattenvorläufer und Verfahren zur Herstellung einer Flachdruckplatte
13 DE112005003399T5 Positivresist-Zusammensetzung und Verfahren zur Erzeugung eines Resistmusters
14 DE60034606T2 Lichtempfindliche Harzzusammensetzung für Flexodruckplatten
15 DE10345496B4 Verfahren zum Bestimmen einer lateralen Position eines Substrats in einer lithographischen Belichtungseinrichtung
16 EP1852744 LICHTEMPFINDLICHES LITHOGRAPHISCHES DRUCKPLATTENMATERIAL
17 DE10355573B4 Verfahren zum Erhöhen der Produktionsausbeute durch Steuern der Lithographie auf der Grundlage elektrischer Geschwindigkeitsdaten
18 DE102006027356A1 Lichtempfindliche Zusammensetzung, insbesondere Photolack
19 EP1708025 Lichtempfindliche Lithografiedruckform
20 EP1852743 Verfahren zur Herstellung von lichtempfindlichen Harzzusammensetzungen und dieses verwendende Reliefmuster
21 DE102007017803A1 Vorrichtung und Verfahren zur Korrektur einer Halbleiterelement-Maske
22 EP1850183 Verfahren und Vorrichtung zur thermischen Entwicklung mit Dampfbehandlung
23 EP1849041 LITHOGRAPHISCHES VERFAHREN
24 DE60127021T2 Esterverbindungen, Polymere, Photoresistkompositionen und Mustererzeugungsverfahren
25 DE60312443T2 Stereolithographische Harze mit Hochtemperaturbeständig und mit höher Schlagzähigkeit
26 DE60310460T2 Verfahren und deren Maske zur Musterherstellung in einer Polymerschicht
27 DE102007021743A1 Masken und Verfahren zum Strukturieren
28 EP1849042 PROZESS ZUR HERSTELLUNG VON LITHOGRAPHISCHEN DRUCKPLATTEN
29 EP1847879 Verfahren zur Reinigung einer automatischen Bearbeitungsvorrichtung
30 EP1847878 LICHTEMPFINDLICHE ZUSAMMENSETZUNG ZUR ENTFERNUNG VON FLÜSSIGKEITEN
31 DE102006024741A1 Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung, Masken zur Herstellung einer Vorrichtung und Vorrichtung
32 EP1847880 Halogen-Sauerstoff-Säuren und Derivate davon enthaltende Zusammensetzung für die Reinigung mikroelektronischer Substrate
33 EP1664935 ABLÖS- UND REINIGUNGSZUSAMMENSETZUNGEN FÜR DIE MIKROELEKTRONIK
34 DE102007023581A1 Zusammensetzung zur Ausbildung eines Musters und in-plane-Druckverfahren unter Verwendung derselben
35 DE60126443T2 Polymere, Resistzusammensetzungen und Strukturierungsverfahren
36 EP1844367 ZUSAMMENSETZUNG ZUR ENTFERNUNG VON FOTOLACKRESTEN NACH DEM ÄTZEN UND ANTIREFLEXIONS-UNTERBESCHICHTUNGEN
37 DE60033775T2 Lithographischer Apparat mit einem System zur Positionsdetektion
38 EP1843207 Vorrichtung und Verfahren zum Behandeln von Wafern
39 EP1843208 Photoresistentfernungsvorrichtung, Verfahren zum Recyclen des Photoresistentfernungsmittels und Verfahren zur Herstellung einer die Photoresistentfernungsvorrichtung verwendenden Dünnfilmtransistoranordnungstafel
40 DE112006000129T5 Verfahren zum Reparieren einer alternierenden Phasenverschiebungsmaske
41 DE60125755T2 VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG EINER FLEXODRUCKPLATTE
42 EP1657594 Verfahren zur Hydrophilierung von Siebruckschablonenträgern sowie Verfahren zur Entfernung von Schablonenmaterial von einem Siebdruckschablonenträger und Entschichtungsflüssigkeit hierfür
43 EP1840647 PHASENVERSCHIEBUNGSMASKE, PHASENVERSCHIEBUNGSMASKEN-HERSTELLUNGSVERFAHREN UND HALBLEITERELEMENT-HERSTELLUNGSVERFAHREN
44 DE102006058560A1 Verfahren zur Bildung hochaufgelöster Strukturen mit gewünschter Dicke oder hohem Aspektverhältnis mittels eines Trockenfilmresists
45 DE60218755T2 VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG VON STRUKTUREN AUF NANOMASSSTAB IN LICHTAUSHÄRTBAREN ZUSAMMENSETZUNGEN MIT EINEM ELEKTRISCHEN FELD
46 DE60126736T2 STRAHLUNGSEMPFINDLICHE POLYSILAZAN-ZUSAMMENSETZUNG, DARAUS ERZEUGTE MUSTER SOWIE EIN VERFAHREN ZUR VERASCHUNG EINES ENTSPRECHENDEN BESCHICHTUNGSFILMS
47 EP1840659 Halogen-Sauerstoff-Säuren und Derivate davon enthaltende Zusammensetzung für die Reinigung mikroelektronischer Substrate
48 EP1837706 Resistzusammensetzung, Verfahren zur Formung einer Resiststruktur, Halbleiterbauelement und Herstellungsverfahren dafür
49 DE60311479T2 Vorrichtung zur Reinigung und Inspektion von Retikeln
50 EP1836535 WASSERFREIE, NICHT KORROSIVE MIKROELEKTRONISCHE REINIGUNGSZUSAMMENSETZUNGEN
51 DE10243742B4 Verfahren zur Strukturierung von Halbleitersubstraten unter Verwendung eines Fotoresists
52 DE60311746T2 Verfahren zur Herstellung eines Musters und Muster mit daran haftenden Substanzen
53 DE60312166T2 MASKE UND EIN DIESE MASKE BENUTZENDES HERSTELLUNGSVERFAHREN
54 DE102004010002B4 Maskenhalter zum Halten einer lithografischen Reflexionsmaske und Verfahren
55 EP1832932 REINIGUNGSFLÜSSIGKEIT FÜR DIE LITHOGRAPHIE UND VERFAHREN ZUM REINIGEN DAMIT
56 DE69934229T2 ZUSAMMENSETZUNG ZUR ENTSCHICHTUNG VON PHOTOLACK UND ORGANISCHEN MATERIALIEN VON SUBSTRATOBERFLÄCHEN
57 DE60032552T2 Verfahren zur Herstellung eines Farbbildes, das eine die anderen überlagernde Eigenschaft aufweist
58 DE10203839B4 Resist für die Fotolithografie mit reaktiven Gruppen für eine nachträgliche Modifikation der Resiststrukturen
59 DE60216882T2 Photomaske mit Vorrichtung zum Schutz vor Staub und Belichtungsmethode unter Verwendung dieser Photomaske
60 EP1828847 TRIDIMENSIONALE STRUKTUREN FÜR EINEN INKJET-DRUCKKOPF UND RELEVANTER HERSTELLUNGSPROZESS
61 DE102007010581A1 Testmuster und Verfahren zum Auswerten der Übertragungseigenschaften eines Testmusters
62 EP1828848 WASSERFREIE NICHT KORROSIVE MIKROELEKTRONISCHE REINIGUNGSVERBINDUNGEN MIT POLYMERISCHEN CORROSIONSINHIBITOREN
63 DE602004002598T2 Methode und Gerät zur Erstellung von optischen Näherungseffekt-Korrekturelementen für ein Maskenmuster in der optischen Lithographie
64 DE102006014298A1 Verfahren zur Herstellung von Strukturelementen in einem fotoempfindlichen Lack auf einem Substrat sowie Anordnung zur Durchführung eines thermischen Heizprozesses
65 EP1825328 LICHTEMPFINDLICHE HARZZUSAMMENSETZUNG UND LICHTEMPFINDLICHER TROCKENER FILM DURCH VERWENDUNG DAVON
66 DE60032190T2 Chemisch verstärkte, positiv arbeitende Resistzusammensetzung
67 DE4419237B4 Verfahren zur Entfernung eines eine Siliciumverbindung oder eine Germaiumverbindung enthaltenden Photoresists
68 DE19838148B4 Verfahren zum Herstellen von Halbleiterbauelementen
69 DE60125539T2 Als Negativlack wirkende - chemisch verstärkte - Fotolack-Zusammensetzung
70 EP1820062 TROCKENFILM-FOTORESIST DES POSITIVTYPS UND ZUSAMMENSETZUNG ZU SEINER HERSTELLUNG
71 DE60217213T2 Methode zur Herstellung einer Fotomaske
72 DE69535516T2 Gitter-Gitter interferometrisches Ausrichtungssystem
73 EP1820063 TROCKENFILM-FOTORESIST DES POSITIVTYPS
74 EP1820064 STRAHLUNGSHÄRTBARE BESCHICHTUNGSMASSEN
75 DE60310498T2 Verfahren zur Reinigung durch Entfernung von Teilchen von Oberflächen, Reinigungsvorrichtung und lithographischer Projektionsapparat
76 DE60216794T2 VERFAHREN ZUR ERZEUGUNG ELLIPTISCHER UND ABGERUNDETER MUSTER MITTELS STRAHLFORMUNG
77 EP1818724 KORREKTURFLÜSSIGKEIT ZUR VERWENDUNG AUF LITHOGRAPHISCHEN DRUCKPLATTEN UND BILDKORREKTURVERFAHREN FÜR LITHOGRAPHISCHE DRUCKPLATTEN
78 DE60032378T2 KORREKTURMASKE MIT LICHT ABSORBIERENDEN PHASENVERSCHIEBUNGSZONEN
79 EP1816519 Neue Sulfoniumverbindung, diese enthaltende lichtempfindliche Zusammensetzung und Strukturbildungsverfahren unter Verwendung der lichtempfindlichen Zusammensetzung
80 EP1815297 VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG VON FLEXODRUCKFORMEN SOWIE DAZU GEEIGNETES FLEXODRUCKELEMENT
81 EP1815296 VERBINDUNG ZUR BESCHICHTUNG ÜBER EINEM FOTORESISTMUSTER
82 EP1813990 VERFAHREN ZUR ERZEUGUNG EINER RESISTSTRUKTUR
83 EP1812825 DYNAMISCHER ENTWICKLUNGSPROZESS MIT EINER ENTIONISIERTEN WASSERLACHE
84 DE102005002533B4 Verfahren zum Erzeugen eines Abbildungsfehler vermeidenden Maskenlayouts für eine Maske
85 DE602004003379T2 LICHTEMPFINDLICHE HARZZUSAMMENSETZUNG, INKJET-AUFZEICHNUNGSKOPF MIT DER ZUSAMMENSETZUNG UND WIEDERGABEVERFAHREN DAFÜR
86 DE102005028489B4 Verfahren und Vorrichtung zum Herstellen eines Flachtafeldisplays
87 DE112005002819T5 Positivresist - Zusammensetzung und Verfahren zur Erzeugung eines Resist - Musters
88 DE69133544T2 Vorrichtung zur Projektion eines Maskenmusters auf ein Substrat
89 EP1810083 LICHTEMPFINDLICHE HARZZUSAMMENSETZUNG UND LICHTEMPFINDLICHER TROCKENFILM DURCH DEREN VERWENDUNG
90 DE60124377T2 EINRICHTUNG ZUM TRANSFERIEREN EINES MUSTERS AUF EIN OBJEKT
91 EP1811340 Lichtempfindliche Harzzusammensetzung und Verfahren zur Herstellung eines Halbleiterbauelements damit
92 DE60030819T2 Analoger sowie digitaler Farbauszug
93 DE4426119B4 Photobildfähige Massen, enthaltend 1,2-dihalogenierte Ethane auf Schichtträgermaterial, zur Verbesserung des Druckbildes
94 EP1811335 FOTOMASKENROHLING, FOTOMASKE UND VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG DIESER
95 DE60309524T2 Verfahren zur Ausrichtung und Verfahren zur Herstellung eines Artikels
96 DE69933825T2 Chemisch verstärkte Positivresistzusammensetzung
97 DE102006046000A1 EUV Maskenblank und Verfahren zu dessen Herstellung
98 DE19910363B4 Positives, lichtempfindliches bebilderbares Element
99 DE60031429T2 METHODE ZUR BESTIMMUNG EINES MASKENSATZES ZUR HERSTELLUNG EINES INTEGRIERTEN SCHALTKREISES
100 DE60307017T2 Rohling für Halbton-Phasenschiebermaske, sowie Verfahren zu seiner Herstellung
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