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1 DE60219562T2 Lithographische Mustererzeugung unter Verwendung einer Maske mit gedämpften Phasenschiebern hoher Transmission und mehrfache Belichtung mit optimierter Kohärenz
2 DE102007021743A1 Masken und Verfahren zum Strukturieren
3 DE112006000129T5 Verfahren zum Reparieren einer alternierenden Phasenverschiebungsmaske
4 DE60311479T2 Vorrichtung zur Reinigung und Inspektion von Retikeln
5 DE102007010581A1 Testmuster und Verfahren zum Auswerten der Übertragungseigenschaften eines Testmusters
6 DE60310498T2 Verfahren zur Reinigung durch Entfernung von Teilchen von Oberflächen, Reinigungsvorrichtung und lithographischer Projektionsapparat
7 DE60032378T2 KORREKTURMASKE MIT LICHT ABSORBIERENDEN PHASENVERSCHIEBUNGSZONEN
8 DE102005002533B4 Verfahren zum Erzeugen eines Abbildungsfehler vermeidenden Maskenlayouts für eine Maske
9 DE60307017T2 Rohling für Halbton-Phasenschiebermaske, sowie Verfahren zu seiner Herstellung
10 DE60031429T2 METHODE ZUR BESTIMMUNG EINES MASKENSATZES ZUR HERSTELLUNG EINES INTEGRIERTEN SCHALTKREISES
11 DE60004798T3 VERFAHREN ZUR ERZEUGUNG EINER MASKE AUF EINER OBERFLÄCHE
12 DE102006004230A1 Verfahren zur Herstellung einer Maske für die lithografische Projektion eines Musters auf ein Substrat
13 DE60212777T2 OPC-Verfahren mit nicht auflösenden Phasensprung-Hilfsstrukturen
14 DE102004014482B4 Verfahren zum Erweitern von Limitierungen für Strukturweiten beim Herstellungsprozess von Fotomasken
15 DE102005034669A1 Photolithographische Maske und Verfahren zum Bilden eines Musters auf der Maske
16 DE60306438T2 Verfahren und Vorrichtung zur Zerlegung von Halbleiter-Bauelementmustern in Phasen- und Chromregionen für chromfreie Phasenlithographie
17 DE102005027697A1 EUV-Reflexionsmaske und Verfahren zu deren Herstellung
18 DE112004002429T5 Verfahren und Vorrichtung zum Erzeugen von Druckdaten, Programm zum Erzeugen von Druckdaten und computerlesbares Aufzeichnungsmedium, welches das Programm enthält
19 DE69930006T2 VERFAHREN ZUR KORREKTUR EINER PHOTOMASKE DURCH KOMPENSIERUNG DES DEFEKTS
20 DE102006008734A1 Verfahren zum Herstellen eines transparenten Maskenrohlingsubstrats, Verfahren zum Herstellen eines Maskenrohlings und Verfahren zum Herstellen einer Belichtungsmaske
21 DE102005003184A1 Dreitonmaske, Verfahren zu deren Herstellung und Verwendung einer Dreitonmaske
22 DE102005005591B3 Verfahren zur Optimierung der Geometrie von Strukturelementen eines Musters eines Schaltungsentwurfs für eine Verbesserung der optischen Abbildungseigenschaften und Verwendung des Verfahrens zur Herstellung einer Photomaske
23 DE112004001662T5 Laminierte fotoempfindliche Reliefdruckoriginalplatte und Verfahren zur Erzeugung der Reliefdruckplatte
24 DE60114690T2 Halbton-Phasenschiebermaske sowie deren Rohlinge und Verfahren zur Erzeugung von Strukturen unter Einsatz dieser Maske
25 DE60112355T2 Verfahren zum Entwurf und Verfahren zur Verwendung einer Phasenverschiebungsmaske
26 DE60205005T2 Photoempfindliches Harzlaminat
27 DE202005018237U1 Vorrichtung zum Bedrucken eines flächensteifen Flächensubstrats
28 DE102005035144A1 Belichtungsmaskenherstellungsverfahren, Zeichnungsvorrichtung, Halbleitereinrichtungsherstellungsverfahren und Maskenrohlingsprodukt
29 DE102005043338A1 Lichtdurchlässiges Substrat für Maskenrohling und Maskenrohling
30 DE60105904T2 Rohling für Phasenschiebermaske, Phasenschiebermaske und Verfahren zu deren Herstellung
31 DE19622037B4 Verfahren zur Prüfung von Defekten in auf Photomasken ausgebildeten Strukturen
32 DE102004017131A1 Lithographiemaske für die Herstellung von Halbleiterbauelementen
33 DE60201358T2 Methode zur Korrektur einer Photomaske, sowie Methode zur Herstellung eines Halbleiterelements
34 DE102004014482A1 Verfahren zum Erweitern von Limitierungen für Strukturweiten beim Herstellungsprozess von Fotomasken
35 DE102004007678B3 Verfahren zur Herstellung einer Maske
36 DE102004040764A1 Verfahren zum Korrigieren von Verletzungen von Maskenregeln nach optischer Nachbarschaftskorrektur, maschinenlesbares Speichermedium und System
37 DE19841528B4 Verfahren und Gerät zum Erzeugen von Halbleiterbelichtungsdaten
38 DE102004057180A1 Photomasken mit Schattenelementen in denselben und dazugehörige Verfahren und Systeme
39 DE60102717T2 Rohling für Phasenschiebermaske, Phasenschiebermaske, und Herstellungsverfahren
40 DE60102397T2 Phasenschiebermaske-Rohling, Phasenschiebermaske und Herstellungsverfahren
41 DE19729600B4 Mustervergleichsüberprüfungssystem und -verfahren, die ein Grauwertpunktraster verwenden
42 DE102004013459A1 Verfahren zur Herstellung einer reflektierenden Maske und Verfahren zur Herstellung eines Halbleiterbauelements
43 DE69819898T2 Verfahren zur Herstellung eines Druckvorbereitungs-Bildes durch Tintenstrahlaufzeichnung
44 DE19648063B4 Verfahren zum Herstellen einer Mikrolinse eines Halbleiterbauteils
45 DE69725438T2 DÄMPFENDE EINGEBETTETE BLANKOPHASENVERSCHIEBUNGSMASKEN
46 DE60004798T2 VERFAHREN ZUR ERZEUGUNG EINER MASKE AUF EINER OBERFLÄCHE
47 DE19611726B4 Blindstruktur zur Außeraxial-Belichtung
48 DE69721536T2 VERBUND-HOCHDRUCKPLATTEN UND VERFAHREN ZU DEREN HERSTELLUNG
49 DE69721391T2 Flexodruckelement mit einer Pulverschicht und Verfahren zur Herstellung einer Flexodruckplatte davon
50 DE69904969T2 Bildaufzeichnungselement und Verfahren zur Herstellung einer Flachdruckplatte damit
51 DE69809682T2 Lichtempfindliches Element für den Flexodruck
52 DE19611436C2 Verfahren zum Herstellen einer Belichtungsmaske
53 DE69806112T2 Verfahren zur Herstellung positiv arbeitender Druckplatten aus einem wärmeempfindlichen Bildaufzeichnungselement
54 DE69709738T2 ROHLING FÜR BELICHTUNGSMASKE
55 DE69518809T2 Selbstausrichtende Justiermarken für Phasenverschiebungsmasken
56 DE19735165C2 Verfahren zur Herstellung einer Röntgenstrahlenmaske
57 DE19919036C1 Ätzmaske und Verfahren zu deren Herstellung
58 DE19743554C2 Verfahren zum Herstellen einer Röntgenstrahlmaske
59 DE69606218T2 Verfahren zur Herstellung von Flexodruckformen
60 DE69328220T2 Verfahren zur Herstellung einer Phasenschiebermaske oder eines Phasenschiebermasken-Rohlings
61 DE69605646T2 Bilderzeugungselement zur Herstellung einer Flachdruckplatte, wobei das Bilderzeugnungselement eine thermosensitive Maske enthält
62 DE69700934T2 Bildaufzeichnungselement und Verfahren zur Herstellung einer Flachdrukplatte damit
63 DE19856895A1 Vorlagenmontagegerät
64 DE69032223T2 Verfahren zum Formen von Buchstaben für die Herstellung von Halbton-Tiefdruckplatten
65 DE69605236T2 Flexodruckelement mit einer durch IR-Bestrahlung ablativen Schicht und Verfahren zur Herstellung einer Flexodruckplatte
66 DE69510902T2 Eingebettete Phasenverschiebungsmasken sowie Verfahren zu dessen Herstellung
67 DE19734486C2 Photomasken-Prüfgerät und Verfahren zum Prüfen von Photomasken
68 DE19918814A1 Verfahren zum Belichten eines bildaufnehmenden Aufzeichnungsfilms auf ein auf einer Übertragungsvorrichtung angeordnetes Farbstoffsammelblatt
69 DE19841528A1 Verfahren und Gerät zum Erzeugen von Halbleiterbelichtungsdaten
70 DE69032222T2 Verfahren zum Formen von Buchstaben für die Herstellung von Halbton-Tiefdruckplatten
71 DE69228725T2 Verfahren zur Wiederherstellung lithographischen Phasenverschiebungsmasken
72 DE19815872C1 Musterzeichner für Maskenblank
73 DE19856330A1 Verfahren zum Belichten eines Imagesetter-Aufzeichnungsfilms in einer Vorrichtung für Farb-Probedrucke
74 DE69227747T2 Apparat zur Herstellung einer Modellplatte und Verfahren zur Herstellung von Drucksachen
75 DE69321328T2 Verfahren zur Erzeugung negativ-arbeitender auswaschbarer Reliefbilder und Elemente dafür
76 DE19737916A1 Maske zur Herstellung von Halbleitern oder sonstigen mikrostrukturierten Objekten
77 DE69318882T2 Gelatinöses Aufzeichnungsmaterial
78 DE69320092T2 Durch Licht gesteigerte Diffusion-Strukturierung von organischen Polymer-Substraten
79 DE69225759T2 Verfahren zur direkten Herstellung von Druckplatten unter Verwendung eines Tintenstrahlsystems
80 DE19729600A1 Mustervergleichsüberprüfungssystem und -verfahren, die ein Grauwertpunktraster verwenden
81 DE19747773A1 Verfahren und Vorrichtung zum Korrigieren von Belichtungsmustern und eine Belichtungsmaske, Verfahren zur Belichtung und Halbleitervorrichtung
82 DE69501452T2 Gerät zur Darstellung von Mustern zum Einsatz im extremen UV-Bereich
83 DE68928352T2 Gefüllte Rastermaske
84 DE19636751A1 Verfahren zum Korrigieren von Fehlern in Phasenschiebemasken
85 DE19726835A1 Photomaske für einen Prozeßspielraumtest und ein Verfahren zum Durchführen eines Prozeßspielraumtests unter Verwendung dieser Maske
86 DE19648063A1 Maske zum Mustern einer Mikrolinse
87 DE68928200T2 MUSTER-KORREKTURVERFAHREN
88 DE19631160A1 Verfahren und Vorrichtung zur Korrektur von Musterdaten zum Entwurf einer Photomaske
89 DE19607547A1 Verfahren zur Herstellung einer Maskenstruktur
90 DE19625894A1 Verfahren und Vorrichtung zum Erzeugen von Abrasterdaten, die zum Herstellen einer Photomaske verwendet werden
91 DE68926488T2 Maskenfilm
92 DE69302662T2 Verfahren mit fokussierten Ionenstrahl und Kontrolle der Aufladung
93 DE19622037A1 Verfahren zur Prüfung von Defekten in auf Photomasken ausgebildeten Strukturen
94 DE68926358T2 Lichtempfindliches Material und Phasenhologramm
95 DE69025227T2 Bildaufzeichnungsvorrichtung mit einem reversiblen wärmeempfindlichen Medium
96 DE19611436A1 Verfahren zum Herstellen einer Belichtungsmaske
97 DE19611726A1 Strichplatte zur Außer-Achsenbeleuchtung
98 DE68923638T2 Korrekturverfahren für Maske.
99 DE68921237T2 Maskenstruktur für Lithographie und Einpassvorrichtung dafür.
100 DE68902591T2 Röntgenstrahl-Absorptionsmittel für Röntgenstrahllithographie und Herstellung durch Zerstäubung.
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