PatentDe  


No Patent No Titel
1 DE69935938T2 Ein strahlungsempfindliches Material und Verfahren zur Herstellung von einem Muster damit
2 DE112005003399T5 Positivresist-Zusammensetzung und Verfahren zur Erzeugung eines Resistmusters
3 DE60127021T2 Esterverbindungen, Polymere, Photoresistkompositionen und Mustererzeugungsverfahren
4 DE60126443T2 Polymere, Resistzusammensetzungen und Strukturierungsverfahren
5 DE10203839B4 Resist für die Fotolithografie mit reaktiven Gruppen für eine nachträgliche Modifikation der Resiststrukturen
6 DE60032190T2 Chemisch verstärkte, positiv arbeitende Resistzusammensetzung
7 DE112005002819T5 Positivresist - Zusammensetzung und Verfahren zur Erzeugung eines Resist - Musters
8 DE19910363B4 Positives, lichtempfindliches bebilderbares Element
9 DE69736374T2 Photoresistzusammensetzungen, die Copolymere als Bindemittel enthalten
10 DE602005000462T2 Resistmaterial und Verfahren zur Herstellung von Mustern
11 DE10200897B4 Resist zur Bildung einer Struktur für die Justierung eines Elektronen- oder Ionenstrahls und Verfahren zur Bildung der Struktur
12 DE10203838B4 Fluorhaltiger Fotoresist mit Reaktionsankern für eine chemische Nachverstärkung und verbesserten Copolymerisationseigenschaften
13 DE10147011B4 Chemisch verstärkte Resistzusammensetzung und Verfahren zur Bildung eines gemusterten Films unter Verwendung derselben
14 DE10246546B4 Verwendung eines Resistsystems und Lithographieverfahren zur Herstellung von Halbleiterbauelementen
15 DE60025297T2 Strahlungsempfindliche Harzzusammensetzung
16 DE10312204B4 Verwendung von N-Iminen in wärmeempfindlichen positiv arbeitenden Beschichtungen
17 DE69926532T2 PHOTORESISTS, POLYMERE UND VERFAHREN FÜR DIE MIKROLITHOGRAPHIE
18 DE60204980T2 ADDITIV ENTHALTENDE PHOTORESISTZUSAMMENSETZUNG FÜR DIE DUV-LITHOGRAPHIE
19 DE102004047273A1 Elektrisch leitfähiger Resist für die Fotomaskenherstellung
20 DE102004046405A1 Copolymer, Zusammensetzung enthaltend das Copolymer und Verfahren zur Strukturierung eines Substrats unter Verwendung der Zusammensetzung
21 DE69733469T2 PHOTORESIST ZUSAMMENSETZUNGEN MIT POLYCYCLISCHEN POLYMEREN MIT SÄURELABILEN GRUPPEN AM ENDE
22 DE112004000257T5 Strahlungsempfindliche Harzzusammensetzung, Verfahren zur Herstellung derselben und Verfahren zur Herstellung einer Halbleiteranordnung mit derselben
23 DE69927104T2 Polymer für lichtempfindichen Resist und dieses Polymer enthaltende Resistzusammensetzung
24 DE60108874T2 RESISTZUSAMMENSETZUNG
25 DE69922155T2 VORLÄUFER EINER PHOTOEMPFINDLICHEN HARZZUSAMMENSETZUNG UND VERFAHREN ZU DESSEN HERSTELLUNG
26 DE10135246B4 Neue, auf Polykondensaten basierende Resists mit gesteigertem Auflösungsvermögen für den Einsatz in der 157 nm Lithografie
27 DE60200970T2 Positiv arbeitende lichtempfindliche Zusammensetzung
28 DE69612182T3 Polymer und Resistmaterial
29 DE10137100B4 Transparenzverbesserung von Resist-Copolymeren für die 157 nm-Fotolithografie durch Einsatz von fluorierten Zimtsäurederivaten
30 DE60010959T2 Resistzusammensetzungen und Bildaufzeichnungsverfahren
31 DE10239505B4 Wärmeempfindlicher positiv arbeitender Lithographie-Druckplattenvorläufer mit hoher Chemikalienbeständigkeit
32 DE10337506A1 Wärmeempfindlicher positiv arbeitender Lithographie-Druckplattenvorläufer
33 DE10312204A1 Verwendung von N-Iminen in wärmeempfindlichen positiv arbeitenden Beschichtungen
34 DE10302111A1 Bebilderbare Elemente und Zusammensetzungen für Bebilderung mittels UV-Bestrahlung
35 DE69817687T2 Positiv-Fotoresist-Zusammensetzung
36 DE60100463T2 Chemisch verstärkte, positiv arbeitende Resistzusammensetzung
37 DE69628996T2 Polymerzusammensetzung und Rezistmaterial
38 DE60002378T2 Positiv arbeitende, photoempfindliche Harzzusammensetzung, Verfahren zur Herstellung eines Reliefmusters, und Verwendung eines Reliefmusters
39 DE10228338A1 Herstellung von transparenten fluorhaltigen Resistpolymeren in Fotoresists mit Reaktionsankern für eine chemische Nachverstärkung von Resiststrukturen durch radikalische Terpolymerisation mit Acrylaten, Methacrylaten und Butenolderivaten
40 DE69905968T2 Eine Fotoresistzusammensetzung
41 DE19850181C2 Strahlungsempfindliche Zusammensetzung und deren Verwendung für thermisch bebilderbare Druckplatten
42 DE10249006A1 Photosensitive Polymere, diese umfassende Resist-Zusammensetzungen und Verfahren zur Herstellung von Photoresist-Mustern
43 DE69718974T2 Neue Polymere und Photoresistzusammensetzungen
44 DE10208785A1 Lithografieverfahren zur Fotomaskenherstellung mittels Elektronenstrahllithografie
45 DE10203839A1 Resist für die Fotolithografie mit reaktiven Gruppen für eine nachträgliche Modifikation der Resiststrukturen
46 DE69626707T2 Lichthärtbare Zusammensetzung
47 DE10203838A1 Fluorhaltiger Fotoresist mit Reaktionsankern für eine chemische Nachverstärkung und verbesserten Copolymerisationseigenschaften
48 DE10200897A1 Resist zur Bildung einer Struktur für die Justierung eines Elektronen- oder Ionenstrahls und Verfahren zur Bildung der Struktur
49 DE69808824T2 Flachdruck-Vorlagenplatte
50 DE69624085T2 Chemisch verstärkte Positiv-Photoresists
51 DE10238038A1 Photosensitives Polymer und Photoresistverbindung daraus
52 DE69431618T2 Strahlungsempfindliches Material und Verfahren zur Herstellung eines Musters
53 DE10142600A1 Siliziumhaltiger Resist für die Fotolithografie bei kurzen Belichtungswellenlängen
54 DE69806880T2 Resistzusammensetzungen, ihre Herstellung und ihre Verwendung für Bildaufzeichnungsverfahren
55 DE69621701T2 Säurekatalysierte Positiv-Photoresists
56 DE10131670A1 Fotoresists mit Reaktionsankern für eine chemische Nachverstärkung von Resiststrukturen für Belichtungen bei 157 nm
57 DE10147011A1 Chemisch verstärkte Resistzusammensetzung und Verfahren zur Bildung eines gemusterten Films unter Verwendung derselben
58 DE69711288T2 Bilderzeugendes Element zur Herstellung von lithographischen Druckplatten
59 DE10162971A1 Chemisch verstärkende, positiv arbeitende Resistmasse
60 DE29724584U1 Wärmeempfindliche Zusammensetzung und damit hergestellter Vorläufer einer Lithographie-Druckform
61 DE10136075A1 Belichtungsverfahren
62 DE69800897T2 Chemisch verstärkte Positiv-Resistzusammensetzung
63 DE69612182T2 Polymer und Resistmaterial
64 DE69126834T3 Positiv arbeitende Photoresistzusammensetzung
65 DE69703310T2 Positiv arbeitende photoempfindliche Zusammensetzung
66 DE69425389T2 Positiv arbeitendes strahlungsempfindliches Gemisch
67 DE69424884T2 Positiv arbeitende Photoresistzusammensetzung
68 DE69608167T2 Positiv arbeitende Photoresistzusammensetzung
69 DE69422590T2 Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
70 DE69423800T2 Positiv arbeitende fotoempfindliche Zusammensetzung
71 DE69131732T2 Verfahren zur Erzeugung eines Musters
72 DE69230457T2 Strahlungsempfindliches Gemisch, das Polymere mit säureunstabilen Gruppierungen enthält
73 DE19834746A1 Strahlungsempfindliches Gemisch mit IR-absorbierenden, betainischen oder betainisch-anionischen Cyaninfarbstoffen und damit hergestelltes Aufzeichnungsmaterial
74 DE19834745A1 Strahlungsempfindliches Gemisch mit IR-absorbierenden, anionischen Cyaninfarbstoffen und damit hergestelltes Aufzeichnungsmaterial
75 DE69511601T2 Lichtempfindliche lithographische Druckplatte
76 DE69131150T2 Resist-Materialien
77 DE69130701T2 Lichtempfindliches gefärbtes Harz, farbiges Bild, Verfahren zur Herstellung von Farbfiltern und Verfahren zur Herstellung einer Schwarzmatrix
78 DE69322946T2 Photolackzusammensetzung
79 DE69130594T2 Verfahren zur Erzeugung eines Musters
80 DE19739302A1 Positiv arbeitendes IR-sensitives Gemisch, damit hergestelltes thermisch bebilderbares Aufzeichnungsmaterial sowie Verfahren zur Herstellung einer Druckform für den Offsetdruck
81 DE69129878T2 Bildaufbauschicht
82 DE19546140C2 Photoempfindliche Zusammensetzung
83 DE69406687T2 Ein Verfahren zum gesteuerten Entschützen von Polymeren und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung welches diese zum Teil entschützten Polymere für Photoresiste benutzt
84 DE69126834T2 Positiv arbeitende Photoresistzusammensetzung
85 DE69221076T2 Verfahren für Diffusion-Strukturierung
86 DE69125634T2 Chemisch verstärktes Photolack-Material
87 DE69125745T2 Geschwindigkeitsverbesserer für säuresensibilisierten Photolack
88 DE19703752A1 Black-Matrix in Farbbildröhren und Verfahren zur Herstellung der Black-Matrix
89 DE69030836T2 Material und Verfahren zur Herstellung von Mikromustern
90 DE69307666T2 Direkt nach der Belichtung verwendbares Druckmaterial
91 DE69500131T2 Positive Resistzusammensetzung
92 DE69124865T2 Photolackzusammensetzung
93 DE19533608A1 Positivarbeitendes strahlungsempfindliches Gemisch und Verfahren zur Herstellung von Reliefstrukturen
94 DE19533607A1 Positivarbeitendes strahlungsempfindliches Gemisch und Verfahren zur Herstellung von Reliefstrukturen
95 DE19626003A1 Chemisch verstärkte Resist-Zusammensetzungen und Verfahren zur Herstellung von Resist-Mustern
96 DE68926019T2 Positiv arbeitende hochempfindliche Photolack-Zusammensetzung
97 DE68922922T2 Strahlungsempfindliche Materialien und damit hergestellte Artikel.
98 DE69020023T2 Feinmusterherstellungsverfahren.
99 DE69009231T2 Positiv arbeitende Photoresistzusammensetzung.
100 DE68917521T2 Hoch-empfindlicher Positivresist mit hohem Auflösungsvermögen für Elektronenstrahlen.
1

IPC
A Täglicher Lebensbedarf
B Arbeitsverfahren; Transportieren
C Chemie; Hüttenwesen
D Textilien; Papier
E Bauwesen; Erdbohren; Bergbau
F Maschinenbau; Beleuchtung; Heizung; Waffen; Sprengen
G Physik
H Elektrotechnik

Anmelder
Datum

Patentrecherche

Copyright © 2008 Patent-De Alle Rechte vorbehalten. eMail: info@patent-de.com