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No Patent No Titel
1 EP1847878 LICHTEMPFINDLICHE ZUSAMMENSETZUNG ZUR ENTFERNUNG VON FLÜSSIGKEITEN
2 EP1813990 VERFAHREN ZUR ERZEUGUNG EINER RESISTSTRUKTUR
3 DE102005028489B4 Verfahren und Vorrichtung zum Herstellen eines Flachtafeldisplays
4 DE69835160T2 KOMPOSIT-RELIEFDRUCKPLATTEN
5 DE102005057109A1 Vorrichtung und Verfahren für mechanisches Prozessieren flacher, dünner Substrate im Durchlaufverfahren
6 DE10120659B4 Verfahren zur Strukturierung einer Photolackschicht
7 DE102006034549A1 Vertiefungs-Photolack-Struktur einer Halbleiter-Vorrichtung und Verfahren zum Herstellen derselben
8 DE10237042B4 Zusammensetzung und Verfahren zur Resistentfernung
9 EP1730599 VORRICHTUNG UND VERFAHREN ZUM THERMISCHEN ENTWICKELN FLEXOGRAPHISCHER DRUCKHÜLLEN
10 DE10120673B4 Verfahren zur Strukturierung einer Photolackschicht
11 DE102006029225A1 Randwallentfernung bei der Immersionslithographie
12 DE10120660B8 Verfahren zur Strukturierung einer Photolackschicht
13 EP1025464 KOMPOSIT-RELIEFDRUCKPLATTEN
14 DE10120660B4 Verfahren zur Strukurierung einer Photolackschicht
15 EP1645912 Lithographisches Druckverfahren
16 EP1627259 FÜR DIE ENTFERNUNG VON FOTORESIST, FOTORESIST-NEBENPRODUKTEN UND ÄTZRESTEN GEEIGNETE ZUSAMMENSETZUNGEN UND VERWENDUNG DAFÜR
17 DE102004047249A1 Lithographieverfahren zur Herstellung hochaufgelöster Fotoresiststrukturen
18 DE102004025837A1 Lithographieverfahren zur Herstellung von Resiststrukturen
19 DE102004025202A1 Fotolackverarbeitungsverfahren
20 DE102004025203A1 Fotolackverarbeitungsverfahren
21 DE10120675B4 Verfahren zur Strukturierung einer Photolackschicht
22 DE10120674B4 Verfahren zur Strukturierung einer Photolackschicht
23 DE10120676B4 Verfahren zur Strukturierung einer Photolackschicht
24 EP1469353 ZWEISCHICHTIGER FILM UND VERFAHREN ZUR AUSBILDUNG EINER STRUKTUR DAMIT
25 DE10332855A1 Verfahren zum Bilden einer Mikrostruktur auf einem Substrat unter Verwendung einer Resiststruktur, und Restistoberflächenbehandlungsmittel
26 DE10114861B4 Verfahren und Vorrichtung zum Entlacken eines Bereiches auf einem Maskensubstrat
27 EP1370910 THERMISCH AUSHÄRTENDE ANTIREFLEXIONSBESCHICHTUNGEN MIT ARYLURETHANEN DER HYDROXYPROPYLZELLULOSE
28 DE10227867A1 Zusammensetzung zum Entfernen von Sidewall-Residues
29 DE10237042A1 Zusammensetzung und Verfahren zur Resistentfernung
30 EP1279071 HERSTELLUNGSPROZESSE FÜR SUBSTRATE MIT MEHREREN TIEFEN
31 EP1271249 VERFAHREN ZUR AUSBILDUNG EINES RESISTMUSTERS IN UMGEKEHRT VERJÜNGTER FORM
32 DE10120674A1 Verfahren zur Strukturierung einer Photolackschicht
33 DE10120673A1 Verfahren zur Strukturierung einer Photolackschicht
34 DE10120675A1 Verfahren zur Strukturierung einer Photolackschicht
35 DE10120660A1 Verfahren zur Strukurierung einer Photolackschicht
36 DE10120676A1 Verfahren zur Strukturierung einer Photolackschicht
37 DE10120659A1 Verfahren zur Strukturierung einer Photolackschicht
38 DE10114861A1 Verfahren und Vorrichtung zum Entlacken eines Bereiches auf einem Maskensubstrat
39 EP1149328 VERFAHREN UND EINRICHTUNG ZUR HERSTELLUNG VON DRUCKPLATTEN
40 DE69033623T2 GRAVIERVERFAHREN MIT BILDMASKE UND LICHTEMPFINDLICHER LAMINATFILM FÜR BESAGTE BILDMASKE
41 DE69609279T2 Entwicklung von lithographischen Diazodruckplatten auf der Druckpresse
42 EP1046082 ENTWICKLER FLÜSSIGKEIT FÜR PHOTOPOLYMER-DRUCKPLATTEN
43 EP0769724 Entwicklung von lithographischen Diazodruckplatten auf der Druckpresse
44 EP1005668 ABZIEHBARE PHOTOPOLYMER-DRUCKPLATTE UND VERFAHREN ZU DEREN HERSTELLUNG
45 DE3856395T2 Entschichtungsverfahren für Lackmaske
46 DE68929079T2 Vorrichtung für die Behandlung einer lichtempfindlichen Druckplatte
47 DE69418569T2 Resistmateralien und entsprechende Verfahren
48 DE69229074T2 Verfahren zur Behandlung der Peripherie von unbelichteten Photolackplatten
49 EP0652488 Resistmateralien und entsprechende Verfahren
50 EP0910816 VERBUND-HOCHDRUCKPLATTEN UND VERFAHREN ZU DEREN HERSTELLUNG
51 EP0889367 Verfahren zur Erzeugung eines Musters in einem Photoresist
52 DE19723310A1 Einrichtung zum Entwickeln von zylindrischen Oberflächen
53 DE3856202T2 Triamin-Entschichtungslösung für positive Photolacke
54 EP0860743 Behandlungsmethode für Halbleiter und Verfahren zur Erzeugung von Mustern
55 EP0720057 LITHOGRAPHISCHE DRUCKFORM SOWIE VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG EINER DRUCKPLATTE
56 DE68925154T2 Verfahren zur Herstellung von Flachdruckplatten
57 DE3751127T2 Herstellung von permeabelen polymeren Filmen oder Schichten durch Auslaugung.
58 DE19502113A1 Verfahren zur Herstellung eines Resistmusters
59 DE3851461T2 Verfahren zur Herstellung von Schattenmasken.
60 DE68918117T2 Verfahren zur Herstellung von Flachdruckplatten.
61 EP0624828 ENTWICKLERSZIRKULATIONSVERFAHREN WÄHREND DER HERSTELLUNG VON FLEXODRUCKPLATTEN UND APPARAT DAFÜR.
62 DE4411846A1 Verfahren zur Herstellung eines feinen Resistmuster
63 DE4406871A1 Bilderzeugungsverfahren
64 DE3788744T2 Verfahren zur Farbbilderzeugung mit kontinuierlichem Ton, das Laser- der Leuchtdioden gebraucht.
65 DE68911748T2 Verfahren zur Herstellung einer Halbleitervorrichtung.
66 DE3689179T2 Verfahren zur Herstellung von ätzresistenten Schutzlacken durch bevorzugtes Eindringen.
67 DE4311502A1 Verfahren zur Erzeugung eines Mehrfarbenbildes
68 DE3884188T2 SILIKON ENTHALTENES NEGATIVES PHOTORESISTMATERIAL UND DESSEN VERWENDUNG ZUM HERSTELLEN VON GEMUSTERTEN OBERFLÄCHEN.
69 DE3882944T2 Verfahren zur Herstellung negativer Bilder auf einem positiv arbeitenden, durch Puder entwickelbaren photographischen Element.
70 DE3687902T2 Verfahren und Vorrichtung für Photolackverarbeitung.
71 DE3687903T2 Verfahren und Vorrichtung für Photolackverarbeitung.
72 DE3784953T2 Druckplatten-Behandlungsmaschine.
73 DE3688481T2 Hochkontrast-Photolackentwickler mit verbesserter Empfindlichkeit.
74 DE3687749T2 Photolack-Behandlungsverfahren.
75 DE3685941T2 Automatische Entwickelvorrichtung.
76 EP0517923 VERFAHREN ZUR BILDUNG SEHR PRÄZISER LACKMUSTER.
77 EP0517201 Vorrichtung zur Entsorgung von fotopolymeren Materialien.
78 DE3686242T2 Entwickelvorrichtung für Photolacke.
79 DE4216888A1 Verfahren zur Bildung eines gemusterten Resists
80 DE3842354A1 Verfahren zur lithographischen Herstellung von galvanisch abformbaren Mikrostrukturen mit dreieckigem oder trapezförmigem Querschnitt
81 DE3936502A1 Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung negativer Resistmuster
82 DE3636697C2 Lichtempfindliches Gemisch, Verfahren zu seiner Herstellung und seine Verwendung
83 DE3600442C2 Lichtempfindliches Gemisch
84 DE2723613C2 Verfahren zur Herstellung von Metallbildern
85 DE3814566C1 Verfahren zur Herstellung von Galvano- und Ätzmasken
86 DE2953553C2 Lichtempfindliches Gemisch
87 DE3842481A1 Verfahren zur Herstellung einer Röntgenstrahlmaske
88 DE3733874A1 Druckformherstellung mittels auswaschbarem Bildträger
89 DE3729432A1 Verfahren zur Herstellung einer Maske für Strahlungslithographie
90 DE2953429C2 Trockenfilmresist
91 DE3731897A1 Verfahren zum Herstellen einer Maske für ein Halbleiter-Substrat
92 DE2660921C3 Verfahren zur Herstellung von punktgeätzten Masken
93 DE3546007A1 Lichtempfindlicher Film für elektrophotographische Zwecke
94 DE3636697A1 Negativ-arbeitende lichtempfindliche Zusammensetzung, Verfahren zu ihrer Herstellung und ihre Verwendung
95 DE2722951C2 Verwendung von Copolymeren aus 2,3-Epithiopropylmethacrylat und Acrylaten zur Herstellung von Ätzmasken
96 DE0193543T1 VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG VON DESSINIERTEN PHOTOSCHUTZLACKSCHICHTEN.
97 DE2660951C2 Lichtempfindliches Mehrschichtmaterial
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