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Patente IPC-Klasse H01J 37/09
 
PatentDe  


No Patent No Titel
1 DE69932067T2 APERTURBLENDE MIT STRAHLABSCHIRMUNG FÜR ELEKTRONENSTRAHL
2 EP1661154 TEILCHEN-OPTISCHE VORRICHTUNG
3 DE69733544T2 KONISCHE PRALLFLACHE ZUR REDUZIERUNG DES AUFLADUNGSDRIFTS IN EINEM TEILCHENSTRAHLGERAT
4 DE102004052995A1 Vorrichtung zur Strukturierung eines Partikelstrahls
5 DE60015205T2 Verfahren und Vorrichtung zur Steuerung einer variablen Apertur in einem Ionenimplantierungsgerät
6 DE60016481T2 Kontinuierlich variable Apertur für Ionenimplantierungsgerät hoher Energie
7 EP1577926 Teilchenstrahlsystem mit hoher Stromdichte
8 EP1526563 Aperturblende für Teilchenstrahlapparat
9 DE69633505T2 Ablenksystem
10 EP1200979 MINIMIERUNG DES ELEKTRONEN-FOGGING IN ELKTRONENSTRAHL-LITHOGRAPHIE
11 EP1197985 Raster Ladungsträgerstrahlmikroskop
12 DE4418439C2 Rasterelektronenmikroskop
13 EP1126502 Verfahren und Vorrichtung zur Röntgenstrahlen-Abschirmung einer Elektronenbestrahlungseinheit
14 EP1121704 APERTURBLENDE MIT STRAHLABSCHIRMUNG FÜR ELEKTRONENSTRAHL
15 DE10042626A1 Elektronenstrahl-Belichtungsvorrichtung, Einstellverfahren sowie Blockmaske für die Einstellung
16 DE69703050T2 Schlitzvorrichtung für einen Strahl geladener Teilchen
17 DE4032918C2 Vorrichtung zur Beaufschlagung eines Materials mit einem Elektronenstrahl
18 DE69601576T2 Vorrichtung zur Analyse eines Ernergiespektrums
19 DE69130375T2 Mehrfache Strahlaustastblendenvorrichtung und Herstellungsverfahren derselben
20 DE69226553T2 Vorrichtung und Verfahren zur Belichtung mittels Ladungsträgerstrahlen
21 DE29621027U1 UV-Reaktor mit Locheinsatz zur Einstrahlung von ultraviolettem Licht in ein Reaktionsmedium
22 DE69017095T2 Anordnung von Strahlaustastungsblenden, Verfahren zur Herstellung derselben, Gerät und Verfahren zur Belichtung von mit einem Strahl geladenen Teilchen.
23 DE4032918A1 Verfahren und Vorrichtung zur Abschirmung eines Elektronenstrahles
24 DE9015012U1 Vorrichtung zur Abschirmung eines Elektronenstrahls
25 DE3504705A1 Aperturblende mit zellenförmiger Mehrlochstruktur und Austastelektroden zur Erzeugung einer Mehrzahl von individuell austastbaren Korpuskularstrahlsonden für ein Lithografiegerät
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