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1 DE102005061663A1 Ionenimplantationsvorrichtung, Verfahren zur Steuerung einer Ionenimplantationsvorrichtung sowie Abbremseinrichtung
2 DE102005029582A1 Ionenstrahlneutralisator
3 DE112004002106T5 Fehlerkennungs- und Steuerungsverfahren für Ionenimplantationsprozesse, und System zum Ausführen davon
4 DE69928649T2 Gerät und Verfahren zur Steuerung einer Strahlform in Litographiesystemen
5 DE102004052580A1 System und Verfahren zum Zuführen von Vorstufengasen zu einer Implantationsanlage
6 DE102004063643A1 Ionenimplantationsvorrichtung und Verfahren zum Implantieren von Ionen durch Verwendung derselben
7 DE69916930T2 Ionendosis-Messgerät für einen Ionenstrahl-Implantierungsgerät und Verfahren
8 DE69916241T2 IONENIMPLANTIERUNGSVORRICHTUNG GESTALTET ZUR AUSFILTERUNG VON NEUTRALEN IONEN AUS DEM IONENSTRAHL UND METHODE
9 DE69913313T2 Quadrupol-Vorrichtung für Projektionslithographie mittels geladener Teilchen
10 DE69913100T2 PROJEKTIONSLITHOGRAPHIE MITTELS LADUNGSTRÄGERN
11 DE69727112T2 Elektronenstrahl-Belichtungsgerät und Belichtungsverfahren
12 DE69724310T2 Abtastverfahren und -vorrichtung für ein Ionenimplantationsgerät
13 DE69906515T2 BESCHLEUNIGUNGS- UND ANALYSEVORRICHTUNG FÜR EINE IONENIMPLANTATIONSANLAGE
14 DE69432098T2 Elektronenstrahl-Lithographie-System
15 DE69903539T2 VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUR IMPLANTATION MIT IONEN NIEDRIGER ENERGIE
16 DE69623361T2 Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung mittels Projektionslithographie und Gerät dafür
17 DE69715380T2 Gerät zur Belichtung mittels geladenem Teilchenstrahl mit einer Trägertisch-Positionsmesseinrichtung
18 DE69525563T2 Ionenimplantierungsgerät
19 DE69804117T2 VORRICHTUNG UND VERFAHREN ZUR VERBESSERTEN ABTASTEFFIZIENZ IN EINEM IONENIMPLANTATIONSGERÄT
20 DE69615804T2 Elektronenstrahl-Belichtungsgerät
21 DE69611218T2 Elektronenquelle für ein Mehrstrahl-Elektronenlithographie-System
22 DE69702500T2 IONENSTRAHLSCHUTZSCHIRM ZUR ANWENDUNG IN IMPLANTIERUNGSANLAGEN
23 DE69511338T2 Struktur zur Ausrichtung der Apertur einer Ionenquelle mit einem vorbestimmten Ionenstrahlengang
24 DE69408114T2 Anordnung zur direkten Elektronenstrahlschrift für ULSI Lithographie, mit einfacher Rotation- und Verstärkungseinstellung der angestrahlten Muster, und Elektronenstrahl-Direktschriftverfahren
25 DE69408017T2 Ionen implantierer
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