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No Patent No Titel
1 DE19906815B4 Flüssigkristallanzeige und Verfahren zur Herstellung derselben
2 DE19654711C2 Halbleitereinrichtung und Verfahren zu deren Herstellung
3 DE19906815A1 Flüssigkristallanzeige und Verfahren zur Herstellung derselben
4 EP0800207 Halbleiterbauelementen
5 DE19546179A1 Verfahren zum Herstellen dünner Halbleitersubstratschichten
6 EP0752719 Verfahren zur Herstellung einer Silzium auf Saphir integrierten Schalkreisanordnung
7 DE68925054T2 Verschweisstes Keramik-Metall-Verbundsubstrat, damit aufgebaute Schaltkarte und Verfahren zur Herstellung derselben
8 EP0335679 Verschweisstes Keramik-Metall-Verbundsubstrat, damit aufgebaute Schaltkarte und Verfahren zur Herstellung derselben
9 EP0651439 Herstellung von Substraten für spannungsbeanspruchte Halbleiter.
10 EP0422152 SEITENWAND-DOTIERUNGSVERFAHREN FÜR MESA-STRUKTUREN VON SOS- UND SOI-BAUELEMENTEN.
11 EP0596582 Verschweisstes Keramik-Metall-Verbundsubstrat und damit aufgebaute Schaltkarte.
12 DE3882849T2 ANORDNUNGEN MIT CMOS-ISOLATOR-SUBSTRAT MIT NIEDRIGER STREUUNG UND VERFAHREN ZU DEREN HERSTELLUNG.
13 EP0305513 ANORDNUNGEN MIT CMOS-ISOLATOR-SUBSTRAT MIT NIEDRIGER STREUUNG UND VERFAHREN ZU DEREN HERSTELLUNG.
14 DE4233777A1 Halbleitereinrichtung mit einem aktiven Bereich in einer Halbleiterschicht auf einer Isolierschicht und Herstellungsverfahren dafür
15 EP0442144 Verfahren zur Herstellung von CMOS/SOI-Anordnungen mit hoher Geschwindigkeit, niedrigem Leckstrom und verbesserter Strahlungshärte.
16 EP0418983 Verfahren zum Herstellen eines Feldeffektentransistors und eines Halbleiterelementes.
17 EP0343738 Herstellung von elektronischen Bauelementen bestehend aus CdHgTe mit Schaltungen aus Silizium auf Saphir.
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