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1 DE69737542T2 Halbleiterschaltung mit dielektrischer Schicht zwischen zwei Metallebenen und Verfahren zur Herstellung
2 DE69933235T2 ZWISCHENSCHICHT ZWISCHEN TITANNITRID UND HIGH DENSITY PLASMA OXID
3 DE102005057072A1 Halbleiter mit einem Metallisierungsstapel auf Kupferbasis mit einer letzten Aluminiummetallleitungsschicht
4 DE69835900T2 Isolator aus porösem Siliziumoxycarbid für integrierte Schaltungen
5 DE69929496T2 Struktur für Kupferleitungsverbindungsleitung, die eine metallische Keimschicht umfasst
6 DE69534636T2 Halbleitervorrichtung und deren Herstellungsverfahren
7 DE69928146T2 Metallisierungsstruktur auf einem fluorhaltigen Dielektrikum und Herstellungsverfahren dafür
8 DE69733596T2 Verfahren zur Herstellung eines Al/Ti Schichtverbindungsleiters
9 DE102004031128A1 Elektrischer Schaltkreis mit einer Kohlenstoff-Leiterstruktur und Verfahren zum Herstellen einer Kohlenstoff-Leiterstruktur eines elektrischen Schaltkreises
10 DE102004021239A1 Lange getemperte integrierte Schaltungsanordnungen und deren Herstellungsverfahren
11 DE69633150T2 Siliziumcarbid-Metall-Diffusionsbarriere-Schicht
12 DE69630556T2 Halbleiteranordnung und Verdrahtungsverfahren
13 DE69531480T2 Mehrlagenverbindung einer Halbleiteranordnung und Herstellungsverfahren
14 DE69624712T2 VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG EINER METALL-LEITUNGSSTRUKTUR FÜR EINE INTEGRIERTE SCHALTUNG MIT VERBESSERTEM ELEKTROMIGRATIONSWIDERSTAND
15 DE69625265T2 Halbleiterstrukturen
16 DE69621863T2 Halbleiteranordnung in der Grösse eines oder mehrerer Chips
17 DE69430461T2 Neue Verbindungstechnik in bedeckten TiSi2/TiN
18 DE69525795T2 Halbleiteranordnung und Herstellungsverfahren
19 DE69523991T2 Löt-Anschlusskontakt und Verfahren zu seiner Herstellung
20 DE69525100T2 Hügelfreie mehrschichtige Metallüberbahnen für Hochleistungs-Dünnfilmstruktur
21 DE69517295T2 Weicher Metallleiter und Herstellungsverfahren
22 DE69513459T2 Verfahren zur Herstellung einer Al-Ge Legierung mit einer WGe Polierstoppschicht
23 DE69514686T2 HALBLEITERELEMENT MIT ERSTEN UND ZWEITEN, DURCH EIN MATERIAL NIEDRIGER DIELEKTRIZITÄTSKONSTANTE GETRENNTEN METALLISIERUNGSLAGEN UND VERFAHREN ZUM HERSTELLEN DES ELEMENTS
24 DE69514858T2 Dünnschicht-Struktur mit leitfähiger Molybdän-Chrom Verdrahtung
25 DE69513501T2 NIEDRIGE DIELEKTRIZITÄTSKONSTANTEN-SCHICHTENTECHNIK
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