No |
Patent No |
Titel |
3901 |
EP1509953 |
LICHTQUELLEN MIT EINER KONTINUIERLICHEN BREITEMISSIONSWELLENLÄNGE UND DAFÜR NÜTZLICHE LEUCHTSTOFFZUSAMMENSETZUNGEN |
3902 |
DE10340711A1 |
Elektronische Vorrichtung enthaltend organische Halbleiter |
3903 |
DE69823450T2 |
Vorrichtung mit einer Oxidschicht auf GaN und Verfahren zur Herstellung |
3904 |
DE102004041346A1 |
Halbleiter und Verfahren zur Herstellung desselben |
3905 |
DE102004042373A1 |
Geschichtetes piezoelektrisches Element und dessen Herstellungsverfahren |
3906 |
DE10340938A1 |
Sensoranordnung |
3907 |
DE69915971T2 |
Verfahren zur Herstellung von IGBT-Gateelektroden |
3908 |
DE69728648T2 |
HALBLEITERVORRICHTUNG MIT HOCHFREQUENZ-BIPOLAR-TRANSISTOR AUF EINEM ISOLIERENDEN SUBSTRAT |
3909 |
EP1506579 |
CMOS BAUELEMENT MIT EINER SCHOTTKY-BARRIERE UND VERFAHREN |
3910 |
DE102004027663A1 |
Maskenlose Array-Schutz-Prozessabfolge zur Bildung von Durchgangsverbindungen in magnetischen Zufallszugriffsspeichern |
3911 |
DE102004039660A1 |
Halbleitervorrichtung mit einem Kondensator, der eine verbesserte strukturelle Stabilität und erhöhte Kapazität besitzt, und Verfahren zur Herstellung der Halbleitervorrichtung |
3912 |
DE10339319A1 |
Edelgasgefülltes Sensorelement für optische Sensoren |
3913 |
DE69915584T2 |
Photovoltaisches Modul und Energieerzeugungssystem |
3914 |
DE102004039059A1 |
Vorrichtung und Verfahren zum Reinigen von Halbleitersubsstraten |
3915 |
DE69433828T2 |
Halbleiteranordnung mit einem lateralen Bipolartransistor, welcher SiGe enthält, und Verfahren zu deren Herstellung |
3916 |
DE10336128A1 |
Verfahren zur Herstellung eines wärmesensitiven Elements |
3917 |
DE10336747A1 |
Halbleiterbauelementanordnung mit einer Nanopartikel aufweisenden Isolationsschicht |
3918 |
DE102004038340A1 |
Verfahren zum Unterteilen eines plattenartigen Werkstücks |
3919 |
DE10301244B4 |
Verfahren zum Dotieren von Halbleiterkörpern |
3920 |
DE102004037186A1 |
Verfahren zur Verbesserung elektrischer Eigenschaften aktiver Bipolarbauelemente |
3921 |
DE19861248B4 |
Verfahren zum Beschichten einer Oberfläche eines Wafers |
3922 |
DE69532794T2 |
Verfahren zur Herstellung eines organischen Dünnfilmtransistors und nach diesem Verfahren hergestellter Artikel |
3923 |
DE102004038339A1 |
Waferbearbeitungsverfahren |
3924 |
DE69433738T2 |
Halbleiterelement und Verfahren zur Herstellung desselben |
3925 |
DE102004041831A1 |
Integriertes Schaltkreisbauelement mit I/O-ESD-Schutzzelle |
3926 |
DE69827212T2 |
Harzversiegelte Halbleiteranordnung und deren Herstellungsverfahren |
3927 |
DE102004025108A1 |
Antifuse und Verfahren zum Ausbilden einer Antifuse |
3928 |
EP1502303 |
HOCHSPANNUNGSSCHALTBAUELEMENTE UND PROZESS ZU IHRER HERSTELUNG |
3929 |
DE69826798T2 |
Verfahren zur Herstellung einer Kühlungsdurchlass-enthaltenden Wärmesenke |
3930 |
DE102004017411A1 |
In-situ-Metallbarriereablagerung für Sputterätzen auf einer Verbindungsstruktur |
3931 |
DE69826975T2 |
THERMOELEKTRISCHES ELEMENT UND HERSTELLUNGSVERFAHREN DAFÜR |
3932 |
EP1502304 |
ESD-ROBUSTER LEISTUNGSSCHALTER UND DESSEN VERWENDUNG |
3933 |
DE19530577B4 |
Gehäuse für mikroelektronische Bauelemente und Verfahren zu seiner Herstellung |
3934 |
EP1502309 |
INTEGRIERTE SCHALTUNG MIT INTERNER IMPEDANZANPASSUNGSSCHALTUNG |
3935 |
DE202004012665U1 |
Leuchtdiodenanordnung auf Basis einer Galliumnitrid-Halbleiterverbindung |
3936 |
EP1503411 |
In Isolationsgebiete eingebettete Leiterbahnen |
3937 |
DE10333669A1 |
Photodetektor und Verfahren zu seiner Herstellung |
3938 |
DE10334826A1 |
Organische Elektrolumineszenzvorrichtung mit Baugruppenfunktionalität |
3939 |
DE20320446U1 |
Aufspannvorrichtung zum Modulieren von Formen und Substraten |
3940 |
DE10335099A1 |
Verfahren zum Verbessern der Dickengleichförmigkeit von Siliziumnitridschichten für mehrere Halbleiterscheiben |
3941 |
EP1500147 |
MODULARE THERMOELEKTRISCHE KOPPLUNG UND STAPELUNG |
3942 |
DE102004029507A1 |
Kunststoffgehäuse und Halbleiterbaustein mit Verwendung eines Kunststoffgehäuses |
3943 |
DE10335461A1 |
Siliziumnitrid-Hartmaske |
3944 |
DE102004037085A1 |
Drahtlose Halbleiterpackung und Herstellungsverfahren zum fertigen einer solchen drahtlosen Halbleiterpackung |
3945 |
DE102004024924A1 |
Verfahren zum Herstellen polykristallinen Siliciums sowie Schaltbauteil unter Verwendung polykristallinen Siliciums |
3946 |
DE19645568B4 |
Herstellungsverfahren für ein Halbleiterbauelement |
3947 |
DE10335100A1 |
Technik zur Herstellung verkürzter Seitenabstandselemente für eine Polysiliziumleitung |
3948 |
DE102004036747A1 |
Verfahren zur Herstellung einer Halbleitervorrichtung mit einer photoempfindlichen Polyimidschicht und einer entsprechend des Verfahrens hergestellten Vorrichtung |
3949 |
DE102004034822A1 |
MRAM und Verfahren zu dessen Herstellung |
3950 |
DE102004012030A1 |
Integrierter optischer Detektor und optisches Beugungselement |
3951 |
DE69827058T2 |
Verbindungshalbleiter-Interfacestruktur und deren Herstellungsverfahren |
3952 |
DE102004036898A1 |
Integrierte Halbleiterschaltung und Reverse-Engineering-Schutzverfahren |
3953 |
EP1500146 |
VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG VON DÜNNFILMHALBLEITERN AUF DER BASIS VON I-III-VI-SB-2-/SB-VERBINDUNGEN FÜR PHOTOVOLTAISCHE ANWENDUNGEN |
3954 |
DE10335727A1 |
Transparente Elektrode für elektro-optische Aufbauten |
3955 |
DE10332009A1 |
Halbleiterbauelement mit elektromagnetischer Abschirmvorrichtung |
3956 |
DE102004032184A1 |
Laserstrahlbearbeitungsverfahren und Laserstrahlbearbeitungsmaschine bzw. -Vorrichtung |
3957 |
DE102004032910A1 |
Verfahren zur Bildung dicker Oxide auf Si oder SiC für Halbleiterbauteile |
3958 |
DE10334352A1 |
Solargenerator zur Entfaltung in zwei Raumrichtungen |
3959 |
DE102004026000A1 |
DRAM-Zellenfeld und Halbleiterspeichereinrichtung mit vertikalen Speicherzellen und Verfahren zur Herstellung eines DRAM-Zellenfeldes und eines DRAMs |
3960 |
DE10330571A1 |
Vertikales Leistungshalbleiterbauelement |
3961 |
DE10331522A1 |
Reduzierung von Geistbildartefakten bei einem digitalen Detektor |
3962 |
DE10329329A1 |
Kostengünstiges Hochfrequenz-Package |
3963 |
DE69433582T2 |
Verfahren zur Bildung einer Halbleiteranordnung |
3964 |
DE69731208T2 |
VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG EINER INTEGRIERTEN SCHAL TUNGSANORDNUNG |
3965 |
EP1495498 |
THERMOELEKTRISCHE EINRICHTUNG MIT DOPPELSEITIGEN PELTIER-ÜBERGÄNGEN UND VERFAHREN ZUR HERSTELUNG DER EINRICHTUNG |
3966 |
DE10345391B3 |
Verfahren zur Herstellung eines Multi-Chip-Moduls und Multi-Chip-Modul |
3967 |
DE10334522A1 |
Flüssigphasenepitaktische Herstellung einer Halbleiteranordnung |
3968 |
DE102004025413A1 |
Verfahren zum Ausbilden eines Kondensators und Kondensator |
3969 |
DE69633363T2 |
Sensorelement |
3970 |
DE69533365T2 |
SCHALTUNGSNETZWERK UND VERFAHREN FÜR ATOMISCHE KETTEN |
3971 |
DE10352641A1 |
Charge-Trapping-Speicherzelle und Herstellungsverfahren |
3972 |
DE10306076B4 |
Quantenpunkt aus elektrisch leitendem Kohlenstoff, Verfahren zur Herstellung und Anwendung |
3973 |
DE102004024643A1 |
Werkstückteilungsverfahren unter Verwendung eines Laserstrahls |
3974 |
EP1494268 |
SiC Halbleiterbauelement und Verfahren zu seiner Herstellung |
3975 |
DE202004011863U1 |
PV-Solarstation |
3976 |
DE69728113T2 |
NEGATIVER WIDERSTAND DES MOLEKULARDISPERSIONSTYPS UND VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG |
3977 |
EP1493189 |
QUANTEN-PHASENLADUNGSGEKOPPELTE EINRICHTUNG |
3978 |
DE69434049T2 |
Keramisches Substrat und Verfahren zu dessen Herstellung |
3979 |
DE102004029094A1 |
Verfahren zum Herstellen eines Halbleiterchips |
3980 |
DE102004029091A1 |
Unterteilungsvorrichtung für plattenartiges Werkstück |
3981 |
DE102004029023A1 |
Leistungshalbleitermodul mit einem Detektor zum Erfassen eines durch ein Leistungshalbleiterbauteil fliessenden Schaltungshauptstroms |
3982 |
DE69915903T2 |
Gehäuse für Halbleiterbauelemente und Halbleitermodul, das das Gehäuse verwendet |
3983 |
DE102004028991A1 |
Dünnschichttransistorarray-Substrat und Herstellungsverfahren für ein solches |
3984 |
DE10392426T5 |
Halbleitervorrichtungs-Herstellungsverfahren und Beschleunigungssensor |
3985 |
DE102004023309A1 |
Kaskadierte Diodenstruktur mit tiefer n-Wanne und Verfahren zum Herstellen derselben |
3986 |
DE10332826A1 |
Manipulation der magnetischen Eigenschaften von Halbleitern und magnetoelektronische Bauelemente |
3987 |
DE69504557T3 |
Verfahren zum Herstellen eines supraleitenden Hochtemperaturdrahtes |
3988 |
DE102004025707A1 |
Verfahren zum Teilen eines nicht-metallischen Substrats |
3989 |
DE69730625T2 |
Feldeffekttransistor und Verfahren zu dessen Herstellung |
3990 |
DE19840866B4 |
Verfahren zur Dotierung der externen Basisanschlußgebiete von Si-basierten Einfach-Polysilizium-npn-Bipolartransistoren |
3991 |
EP1492171 |
DOPPELOXID MIT THERMOELEKTRISCHEN EIGENSCHAFTEN DES N-TYPS |
3992 |
DE10330684A1 |
Sensor zur Temperaturänderungs- oder Infrarot-Detektion |
3993 |
DE202004011399U1 |
Chip-Modul |
3994 |
DE102004029093A1 |
Halbleiterwafer-Unterteilungsverfahren unter Verwendung eines Laserstrahls |
3995 |
EP1488461 |
HALBLEITERBAUELEMENT MIT EINEM RETROGRADUIERTEN DOTIERUNGSSTOFFPROFIL IN EINER KANALREGION UND VERFAHREN ZU SEINER HERSTELLUNG |
3996 |
DE102004027152A1 |
Flüssigkristallanzeigevorrichtung, welche Dünnschichttransistoren mit polykristallinem Silizium aufweist, und Verfahren zum Herstellen derselben |
3997 |
EP1489654 |
EINKRISTALLIGER LnCuO(S, Se, Te)-DÜNNFILM, VERFAHREN ZU SEINER HERSTELLUNG UND OPTISCHE EINRICHTUNG ODER ELEKTRONISCHE EINRICHTUNG MIT DEM EINKRISTALLIGEN DÜNNFILM |
3998 |
EP1488460 |
DOTIERTE NITRIDMATERIALIEN DER GRUPPE III-V UND MIKROELEKTRONISCHE BAUELEMENTE UND BAUELEMENTEVORSTUFENSTRUKTUREN DAMIT |
3999 |
DE10297349T5 |
Halbleiterstruktur mit verbesserten geringeren Durchlassspannungsverlusten und höherer Sperrfähigkeit |
4000 |
DE69730073T2 |
Doppelheteroübergang-Feldeffekttransistor |